一种光学纹理的面板膜内装饰工艺的制作方法

1.本发明涉及装饰膜技术领域，具体为一种光学纹理的面板膜内装饰工艺。


背景技术：

2.随着人民生活水平的逐步提高和房地产行业的兴起，表面装饰材料进入快速发展时期，其中薄膜材料及复合薄膜等以其生产工艺简单、表面装饰图案及效果多样、使用方法简单、性价比极高而占据了新型表面装饰材料市场的主导地位。而现有的许多带有光学纹理的面板装饰多是采用喷涂的方式进行生产，而喷涂过程会对人体健康和生态环境造成危害，环保性较差。


技术实现要素：

3.本发明所解决的技术问题在于提供一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，解决了现有技术中的技术问题。为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，具体包括以下内容：
4.步骤1：在膜片上进行纳米光学处理，形成光学单元，其中光学单元内设有凹凸沟槽，光学单元对角线在20～200μm，凹凸沟槽的条纹周期在0.3～5μm，凹凸沟槽的条纹深度在0.2～0.3μm；
5.步骤2：将调色油墨以印刷方式涂布在光学单元上，形成基膜；
6.步骤3：将基膜通过连接物安装于板材上。
7.优选地，所述步骤1中纳米光学处理方法为：镭射或蚀刻。
8.优选地，所述步骤1中采用镭射方法进行纳米光学处理时，激光的波长为280-400nm；能量占空比在20％～60％；频率范围在20khz～35khz；填充间距为6μm～14μm；填充角度为30～60度。
9.优选地，所述步骤2中调色油墨厚度为2～5μm。
10.优选地，所述步骤2中印刷方式包括凹版印刷、凸版印刷、丝网印刷。
11.优选地，所述步骤3中连接物为氧化硅钠混合物，所述氧化硅钠混合物涂布于板材上，厚度为10～200μm。
12.优选地，所述步骤3中板材为材质为abs、pmma、pc、pu、tpu的板材。
13.与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：本工艺的纹理是通过镭射或蚀刻做出不同的光学折射散射等结构，配合调色油墨，运用光照可产生折射、散射等光学视觉现象，无需采用喷涂的方式进行生产，环保高效。
附图说明
14.为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图
获得其他相关的附图。
15.图1为本发明的光学单元示意图；
16.图2为本发明的调色油墨涂布示意图。
具体实施方式
17.为了使本发明的技术手段、创作特征、工作流程、使用方法达成目的与功效易于明白了解，下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，及进行非创造性的扩展而得出的其它结论，都属于本发明保护的范围。
18.实施例1
19.一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，具体包括以下内容：
20.步骤1：在膜片上通过镭射进行纳米光学处理，形成光学单元，如图1所示，其中光学单元内设有凹凸沟槽，光学单元对角线在20～200μm，凹凸沟槽的条纹周期在0.3～5μm，凹凸沟槽的条纹深度在0.2～0.3μm；镭射时激光的波长为280-400nm；能量占空比在20％～60％；频率范围在20khz～35khz；填充间距为6μm～14μm；填充角度为30～60度；
21.步骤2：将调色油墨以凹版印刷、凸版印刷、丝网印刷等方式涂布在光学单元上，如图2所示，形成基膜，其中调色油墨厚度为2～5μm；
22.步骤3：将基膜通过连接物安装于材质为abs、pmma、pc、pu、tpu等的板材上，其中连接物为氧化硅钠混合物，所述氧化硅钠混合物涂布于板材上，厚度为10～200μm。
23.实施例2
24.一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，具体包括以下内容：
25.步骤1：在膜片上通过蚀刻进行纳米光学处理，形成光学单元，其中光学单元内设有凹凸沟槽，光学单元对角线在20～200μm，凹凸沟槽的条纹周期在0.3～5μm，凹凸沟槽的条纹深度在0.2～0.3μm；
26.步骤2：将调色油墨以凹版印刷、凸版印刷、丝网印刷等方式涂布在光学单元上，形成基膜，其中调色油墨厚度为2～5μm；
27.步骤3：将基膜通过连接物安装于材质为abs、pmma、pc、pu、tpu等的板材上，其中连接物为氧化硅钠混合物，所述氧化硅钠混合物涂布于板材上，厚度为10～200μm。
28.以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征及本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明的要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。


技术特征：
1.一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，其特征在于，具体包括以下内容：步骤1：在膜片上进行纳米光学处理，形成光学单元，其中光学单元内设有凹凸沟槽，光学单元对角线在20～200μm，凹凸沟槽的条纹周期在0.3～5μm，凹凸沟槽的条纹深度在0.2～0.3μm；步骤2：将调色油墨以印刷方式涂布在光学单元上，形成基膜；步骤3：将基膜通过连接物安装于板材上。2.根据权利要求1所述的一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，其特征在于：所述步骤1中纳米光学处理方法为：镭射或蚀刻。3.根据权利要求2所述的一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，其特征在于：所述步骤1中采用镭射方法进行纳米光学处理时，激光的波长为280-400nm；能量占空比在20％～60％；频率范围在20khz～35khz；填充间距为6μm～14μm；填充角度为30～60度。4.根据权利要求1所述的一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，其特征在于：所述步骤2中调色油墨厚度为2～5μm。5.根据权利要求1所述的一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，其特征在于：所述步骤2中印刷方式包括凹版印刷、凸版印刷、丝网印刷。6.根据权利要求1所述的一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，其特征在于：所述步骤3中连接物为氧化硅钠混合物，所述氧化硅钠混合物涂布于板材上，厚度为10～200μm。7.根据权利要求1所述的一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，其特征在于：所述步骤3中板材为材质为abs、pmma、pc、pu、tpu的板材。

技术总结
本发明提供了一种光学纹理的面板膜内装饰工艺，具体包括以下内容：在膜片上进行纳米光学处理，形成光学单元，其中光学单元内设有凹凸沟槽，光学单元对角线在20～200μm，凹凸沟槽的条纹周期在0.3～5μm，凹凸沟槽的条纹深度在0.2～0.3μm；将调色油墨以印刷方式涂布在光学单元上，形成基膜；将基膜通过连接物安装于板材上。本工艺的纹理是通过镭射或蚀刻做出不同的光学折射散射等结构，配合调色油墨，运用光照可产生折射、散射等光学视觉现象，无需采用喷涂的方式进行生产，环保高效。环保高效。环保高效。


技术研发人员：张帆 韩增峰
受保护的技术使用者：上海塑世实业发展有限公司
技术研发日：2023.05.16
技术公布日：2023/8/16