一种功能薄膜的制作方法

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1.本实用新型涉及显示屏技术领域，特别涉及一种功能薄膜。


背景技术：

2.随着手机的更新换代及人们对于高品质产品的追求，普遍的手机前后盖表面都镀有af膜层，具有很好的疏水、抗指纹、抗油污能力。有些高端品牌还镀有ar减反膜层加af膜层，显示更清晰。但是使用一段时间后，随着手滑动手机屏幕和衣服摩擦的次数增多，表面的ar和af膜层逐渐的刮伤、脱落，失去了上面优良的性能，耐磨效果明显不足。


技术实现要素：

3.本实用新型提出一种功能薄膜,以提高玻璃表面抗划伤、橡皮摩擦、钢丝绒摩擦效果。
4.为了实现以上目的，本实用新型采用的技术方案为：
5.一种功能薄膜，包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；
6.基材正面沉积sio2层作为打底层，所述调色层设在打底层上，所述氮化碳膜层上制备耐磨层。
7.本实用新型的进一步技术：
8.优选的，所述调色层采用si3n4层和sio2层交替组合的2层以上膜系。
9.优选的，所述氮化碳膜层和耐磨层之间均设有过渡层。
10.优选的，所述过渡层采用sio2层。
11.本实用新型具有以下有益效果：
12.使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio2层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加af耐磨层实现耐磨效果增强。
附图说明
13.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
14.图1为本实用新型产品结构示意图；
15.图2为本实用新型产品具体膜层结构示意图。
具体实施方式:
16.下面将结合本实用新型实施例，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
17.一种功能薄膜，膜层设计如图1：
18.基材1以上，第一层使用sio2层2打底层缓冲，增加整个膜层的附着力；
19.第二层再叠加调色层3，所述调色层采用si3n4层和sio2层交替组合的2层以上膜系。调色层作用：电子产品选用玻璃基材，一般要求都是无色透明，透过率要高，通常镀ar增加透过率，使显示效果更加清晰。下一层是氮化碳cnx，氮化碳本身颜色偏淡黄向，用在电子产品上影响视觉效果。通过调色层能很好减少膜层偏黄。同时调色层组合还能起到ar增透的效果。
20.然后镀氮化碳膜层4作为超硬耐磨功能层，叠加耐磨层(af)5实现耐磨效果增强。
21.所述氮化碳膜层和耐磨层之间设有过渡层6。
22.过渡层采用sio2层，起到缓冲和增强耐磨层(af)膜层附着力。
23.镀膜工艺
24.如图2，首先在玻璃基材1上镀一层薄薄的sio2层2，镀sio2用中频电源溅射，功率设12kw，电压在400vv,氩气流量600sccm，氧气流量在80sccm。膜厚用晶控仪控制，厚度在10nm。
25.接着镀调色层3，采用第一si3n4层31、第一sio2层32、第二si3n4层33交替组合的膜系。
26.镀第一si3n4层的工艺参数设置：靶功率10kw,靶电压为400v、氩气供气量为200sccm,氮气流量在200sccm,膜层厚度15nm。
27.镀第一sio2层的工艺参数设置：靶功率12kw，靶电压为300v，氩气供气量为200sccm，氧气供气量为100sccm,膜层厚度86nm。
28.镀第二si3n4层的工艺参数设置：靶功率10kw,靶电压为400v、氩气供气量为2000sccm,氮气流量在200sccm,膜层厚度5nm。
29.接着镀氮化碳膜层4，氮化碳采用直流溅射的方法，在高真空的镀膜室充入高纯氮气和氩气，氩气作为辅助溅射气体，流量在200sccm。氮气作为反应气体，流量在150sccm。石墨靶采用大功率溅射方法，电流在20a，大电流溅射出的碳原子能量密度大，能充分的与氮离子结合形成稳定氮化碳。膜层厚度10nm，都能起到很好效果。
30.接着镀过渡层6,过渡层采用sio2层，镀sio2层的工艺参数设置：靶功率12kw，靶电压为300v，氩气供气量为200sccm，氧气供气量为100sccm，膜层厚度在8nm。
31.最后蒸镀耐磨层5，af药丸采用市面上常用的都可以，采用电阻加热的方式，将af药水均匀蒸发到产品的膜层表面。af蒸发的工艺参数：加热电流500a，膜层厚度在25nm。
32.通过以上的工艺方法，能得到稳定氮化碳组合的膜层，从而使玻璃耐磨性能指标得到提高，能广泛应用在电子产品领域。
33.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。


技术特征：
1.一种功能薄膜，其特征在于：包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；基材正面沉积sio2层作为打底层，所述调色层设在打底层上，所述氮化碳膜层上制备耐磨层。2.根据权利要求1中所述的一种功能薄膜，其特征在于：所述调色层采用si3n4层和sio2层交替组合的2层以上膜系。3.根据权利要求1中所述的一种功能薄膜，其特征在于：所述氮化碳膜层和耐磨层之间设有过渡层。4.根据权利要求3中所述的一种功能薄膜，其特征在于：所述过渡层采用sio2层。

技术总结
本实用新型公开了一种功能薄膜，包括Sio2层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；基材正面沉积Sio2层，所述调色层设在Sio2层上，所述氮化碳膜层上制备耐磨层，所述氮化碳膜层和耐磨层之间均设有过渡层。本实用新型使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio2层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加耐磨层实现耐磨效果增强。强。强。


技术研发人员：尤俊衡 李俊华 艾其波 张东东
受保护的技术使用者：安徽亦高光电科技有限责任公司
技术研发日：2023.03.09
技术公布日：2023/8/19