气体分析方法与流程

1.本发明涉及气体分析方法。


背景技术：

2.作为分析气体中的杂质的方法，有向在气室(gas cell)中封入或流通的试样气体照射激光并进行分析的方法(例如参照专利文献1)。
3.在先技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本国专利公开公报2005年第140558号


技术实现要素：

6.然而，在专利文献1所公开的气体分析方法中，在气室内存在水且作为分析对象的杂质能够与水进行反应的情况下，在分析中杂质与水的反应进行，有可能分析精度降低。
7.本发明的课题是提供能够降低存在于气室内的水的影响从而高精度地分析试样气体中的杂质的气体分析方法。
8.为了解决上述课题，本发明的一方式如以下的[1]～[4]所述。
[0009]
[1]一种气体分析方法，是分析在试样气体中含有的杂质的方法，具备前处理工序和分析工序，
[0010]
在所述前处理工序中，将要被导入所述试样气体的气室内的水的分压降低至10pa以下，
[0011]
在所述分析工序中，向实施了所述前处理工序的所述气室内导入所述试样气体，采用拉曼光谱法检测所述杂质。
[0012]
[2]根据[1]所述的气体分析方法，所述前处理工序是将所述气室内用干燥气体进行清洗(purge)的工序。
[0013]
[3]根据[1]或[2]所述的气体分析方法，所述杂质为氟气、氯气、溴气、氟化氢、氯化氢、溴化氢、水和二氧化碳之中的至少一种。
[0014]
[4]根据[1]～[3]的任一项所述的气体分析方法，所述试样气体为含有氟化合物、氯化合物和溴化合物之中的至少一种的气体。
[0015]
根据本发明，能够降低在气室内存在的水的影响从而以高精度分析试样气体中的杂质。
附图说明
[0016]
图1是说明本发明涉及的气体分析方法的一实施方式的气体分析装置的一例的示意图。
具体实施方式
[0017]
以下，说明本发明的一实施方式。再者，本实施方式示出本发明的一例，本发明并不限定于本实施方式。另外，能够对本实施方式施以各种的变更或改良，实施了那样的变更或改良后的方式也会包含在本发明中。
[0018]
本实施方式涉及的气体分析方法，是分析在试样气体中含有的杂质的方法，具备前处理工序和分析工序，在所述前处理工序中，将要被导入试样气体的气室内的水(h2o)的分压降低至10pa以下，在所述分析工序中，向实施了前处理工序的气室内导入试样气体，采用拉曼光谱法检测杂质。
[0019]
在气室内存在水且作为分析对象的杂质能够与水进行反应的情况下，在分析中杂质与水的反应进行，有可能杂质的分析精度降低、检测出杂质与水的反应生成物等等。例如，担忧在气室内存在的空气中所含有的水对分析结果给予影响。但是，根据本实施方式涉及的气体分析方法，由于通过前处理工序降低存在于气室内的水的量，因此能够降低水对分析结果给予的影响并以高精度分析试样气体中的杂质。
[0020]
例如，既能够以高精度进行判定试样气体中有无杂质的定性分析，也能够以高精度进行测定试样气体中的杂质的量的定量分析。
[0021]
另外，前处理工序是对气室内的空间进行的处理，由于只要对小的容积进行处理即可，因此处理容易，且不需要多的时间。
[0022]
特别是不需要对选自激发光的光路和拉曼散射光的光路中的至少一方的光路实施降低水的分压的工序，因此不需要用于收纳激发光的光路、拉曼散射光的光路的密闭容器、以及用于降低该密闭容器内的水分的高纯度清洗气体供给源。即，本发明能够有效利用气室以外的光路中的水的存在对分析几乎没有影响这一优点，采用简化的装置来抑制高价格的高纯度清洗气体的使用量并且谋求分析精度的稳定化。
[0023]
而且，在试样气体中含有氯气(cl2)等的卤素、氯化氢(hcl)等的卤化氢的情况下，如果在气室内存在水，则不仅对卤素、卤化氢的分析结果产生影响，而且有可能气室的腐蚀进行。但是，如果是本实施方式涉及的气体分析方法，则由于通过前处理工序降低了存在于气室内的水的量，因此即使是在试样气体中含有卤素、卤化氢的情况也难以产生气室的腐蚀。
[0024]
接着，一边参照图1，一边说明能够实施本实施方式涉及的气体分析方法的气体分析装置的构成的一例、和使用该气体分析装置的气体分析方法的一例。图1的气体分析装置是通过将气室内用干燥气体进行清洗来进行前处理工序的气体分析装置。首先，对图1的气体分析装置进行说明。
[0025]
图1的气体分析装置具备：气室10，其被导入作为分析对象的试样气体；光源11，其向气室10内的试样气体照射作为激发光的激光；检测器12，其检测通过向试样气体照射激发光而产生的拉曼散射光；以及，排气用配管13，其用于从气室10排出试样气体等气体。
[0026]
另外，图1的气体分析装置具备：试样气体供给源1，其向气室10的内部供给试样气体；干燥气体供给源2，其向气室10的内部供给干燥气体；试样气体供给用配管5，其将试样气体供给源1和气室10连接；以及，干燥气体供给用配管6，其将干燥气体供给源2和气室10连接。
[0027]
而且，在试样气体供给用配管5设置有控制试样气体的流量的试样气体流量控制
装置3，在干燥气体供给用配管6设置有控制干燥气体的流量的干燥气体流量控制装置4。
[0028]
在使用图1的气体分析装置进行试样气体的分析的情况下，首先实施前处理工序。即，从干燥气体供给源2经由干燥气体供给用配管6向气室10导入干燥气体，将气室10内用干燥气体进行清洗。干燥气体的流量通过干燥气体流量控制装置4来控制。如果气室10内的水的分压降低至10pa以下，则结束干燥气体的导入。
[0029]
前处理工序结束后，实施分析工序。即，从试样气体供给源1经由试样气体供给用配管5向气室10内导入试样气体。然后，向被封入到气室10内的状态的试样气体或者在气室10中流通着的状态的试样气体照射从光源11射出的激发光。从光源11射出的激发光从气室10的入射窗进入到气室10内从而对试样气体照射。
[0030]
通过向试样气体照射激发光而产生的拉曼散射光，从气室10的出射窗向气室10外射出，由检测器12来检测，分析在试样气体中含有的杂质。
[0031]
〔气室〕
[0032]
气室10，在气室主体具备入射窗、出射窗、气体导入口、气体排出口等来被构成。入射窗、出射窗以外的气室主体的材质只要是不与试样气体反应的材质就没有特别限定，能够使用例如不锈钢、镍、因科内尔(inconel)(注册商标)、氟树脂(例如特氟龙(teflon)(注册商标))、石英、硼硅酸玻璃。
[0033]
入射窗的材质只要是不吸收激发光且不与试样气体反应的材质就没有特别限定，能够使用例如氟化钙(caf2)、溴化钾(kbr)、石英。出射窗的材质只要是不吸收拉曼散射光且不与试样气体反应的材质就没有特别限定，能够使用例如氟化钙、溴化钾、石英。
[0034]
[试样气体供给源和干燥气体供给源]
[0035]
试料气体供给源1只要是能够向气室10供给试料气体的供给源就没有特别限定，供给方法、形态、大小没有特别限定。
[0036]
干燥气体供给源2只要是能够向气室10供给干燥气体的供给源就没有特别限定，供给方法、形态、大小没有特别限定。例如，如果是使用氮气(n2)作为干燥气体的情况，则能够使用高纯度氮气储气瓶作为干燥气体供给源2。
[0037]
[光源]
[0038]
光源11只要能够射出激发光就没有特别限定，能够使用例如氦氖激光器、氩激光器等气体激光器、yag激光器等固体激光器。
[0039]
[检测器]
[0040]
检测器12包括分光器和光检测器。作为分光器，能够使用使用了衍射光栅的单色器、多色器、提取特定波长的光的滤光器等。作为光检测器，能够使用光电倍增管、半导体光检测元件、雪崩光电二极管、互补性金属氧化膜半导体传感器(cmos)、电荷耦合元件(ccd)等。
[0041]
〔前处理工序〕
[0042]
前处理工序是在实施分析工序之前将气室10内的水的分压降低至10pa以下的工序。前处理工序结束时的气室10内的水的分压需要设为10pa以下，优选设为1pa以下，更优选设为0.1pa以下。如果在气室10内残存水，则担心在试样气体的分析结果中水的测定值变大。气室10内的水的分压能够使用拉曼光谱法进行定量。再者，气室10内的水的分压可以为0.01pa以上。
[0043]
前处理工序的内容，只要能够将气室10内的水的分压降低至10pa以下，就没有特别限定，例如，可列举将气室10内用干燥气体进行清洗的方法、将气室10内进行减压的方法、在气室10内设置吸附水的吸附剂的方法、将气室10进行加热的方法。在前处理工序中，可以实施这些方法之中的一种方法，也可以将多种方法组合来实施。
[0044]
在使用在气室10内设置吸附水的吸附剂的方法的情况下，作为吸附剂，能够使用分子筛、硅胶(二氧化硅凝胶：silica gel)、活性炭等。
[0045]
在将气室10内用干燥气体进行清洗的方法中，可以通过使干燥气体流通来将气室10内进行清洗，也可以通过将干燥气体加压填充到气室10内之后进行排气来将气室10内进行清洗。
[0046]
在通过使干燥气体流通来将气室10内进行清洗的情况下，干燥气体的流量没有特别限定，如果是气室的容量例如为100ml的情况，则优选设为50ml/分钟以上且5000ml/分钟以下，更优选设为100ml/分钟以上且1000ml/分钟以下。再者，在用空间速度表达干燥气体的流量的情况下，优选为30小时-1
以上且6000小时-1以下，更优选为60小时-1
以上且3000小时-1
以下。如果干燥气体的流量在上述的范围内，则水的除去不需要多的时间，并且，干燥气体的消耗量也是少量就足够，比较经济。作为控制干燥气体的流量的干燥气体流量控制装置4，能够使用一般的流量调节器。
[0047]
在通过将干燥气体加压填充到气室10内之后进行排气来将气室10内进行清洗的情况下，加压时的压力没有特别限定，但优选设为0.1mpaa以上且0.5mpaa以下，更优选设为0.15mpaa以上且0.3mpaa以下。在从气室10排出干燥气体时，可以在将气室10的气体排出口进行了大气开放的状态下从气室10排出干燥气体，也可以将气室10的气体排出口与真空泵连接，利用真空泵使气室10内减压来从气室10排出干燥气体。
[0048]
在将气室10内用干燥气体进行清洗时，如果加热气室10，则水的除去效率提高。加热温度优选为40℃以上且200℃以下，更优选为50℃以上且100℃以下。
[0049]
在前处理工序中使用的干燥气体的种类，只要是不与气室主体、入射窗、出射窗进行反应且含有的水的量少而干燥的气体，就没有特别限定，能够使用不与水反应的气体，能够使用例如氮气、氦气(he)、氩气(ar)、氧气(o2)。
[0050]
另外，碳酰氟(cof2)等的与水进行反应的气体也能够作为干燥气体使用。在使用碳酰氟作为干燥气体的情况下，水与碳酰氟反应而产生挥发性的氟化氢(hf)和二氧化碳(co2)，因此除去水的效率提高。在使用碳酰氟作为干燥气体的情况下，为了从气室10内除去氟化氢和二氧化碳，优选在流通碳酰氟之后使用氦气、氩气等进行气室10内的清洗。
[0051]
干燥气体的水分量优选为100体积ppm以下，更优选为10体积ppm以下，进一步优选为1体积ppm以下。干燥气体能够通过与分子筛、硅胶、活性炭等干燥剂接触来降低水分量从而制造出。
[0052]
〔分析工序〕
[0053]
分析工序是向实施了前处理工序的气室内导入试样气体，采用拉曼光谱法检测杂质的工序。基于拉曼光谱法的分析，可以针对被封入到气室10内的状态的试样气体进行，也可以针对在气室10中流通着的状态的试样气体进行。作为控制试样气体的流量的试样气体流量控制装置3，能够使用一般的流量调节器。
[0054]
试样气体的流量没有特别限定，但以空间速度计优选设为30小时-1
以上且3000小
时-1
以下，更优选设为60小时-1
以上且600小时-1
以下。如果试样气体的流量在上述的范围内，则流量的稳定性变高，杂质的分析精度(特别是定量分析的精度)容易变高，而且，试样气体的消耗量也是少量就足够，比较经济。
[0055]
实施分析工序时的气室10内的压力没有特别限定，但优选设为0.05mpaa以上且0.5mpaa以下，更优选设为0.1mpaa以上且0.3mpaa以下。如果气室10内的压力在上述的范围内，则即使是极微量的杂质也容易被检测出，而且，也难以发生气室10的入射窗、出射窗的破损。在加压条件下的气室10内实施分析工序的情况下，可以使用一般的背压阀。
[0056]
分析试样气体时的、从光源11到气室10的激发光的光路的气体组成没有特别限定，可以是大气，可以是干燥空气、不活性气体等。如果在激发光的光路中存在灰尘、尘埃，则有激发光衰减的可能性，因此优选流通空气、不活性气体等来经常进行清洗。
[0057]
激发光的光路的水的分压没有特别限定，但优选设为4000pa以下，更优选设为1000pa以下。例如，水的分压可以为10pa左右，可以为1000pa左右。在水的分压低的情况下，用氟化钙、溴化钾等盐形成的气室10的入射窗、出射窗难以潮解。
[0058]
特别是能够将激发光的光路的水的分压设为超过10pa，优选设为100pa以上。即，由于不需要实施降低激发光的光路中的水的分压的工序，因此不需要用于收纳激发光的光路的密闭容器、以及用于降低该密闭容器内的水分的高纯度清洗气体供给源。
[0059]
为了防止激发光的散射，从光源11到气室10的激发光的光路优选使用由不使激发光透过的材质形成的罩(cover)构件覆盖。作为不使激发光透过的材质，可列举金属、树脂等，但从加工性、耐久性的方面出发，优选为金属，更优选为不锈钢。
[0060]
在使用不锈钢制的罩构件的情况下，罩构件的内部的压力没有特别限定，但优选设为1pa以上且0.2mpa以下。另外，罩构件的内部的温度没有特别限定，但优选设为0℃以上且100℃以下。
[0061]
另外，分析试样气体时的、从气室10到检测器12的拉曼散射光的光路的气体组成没有特别限定，可以是大气，可以是干燥空气、不活性气体等。如果在拉曼散射光的光路中存在灰尘、尘埃，则有拉曼散射光衰减的可能性，因此优选流通空气、不活性气体等来经常进行清洗。
[0062]
拉曼散射光的光路的水的分压没有特别限定，但优选设为4000pa以下，更优选设为1000pa以下。例如，水的分压可以为10pa左右，可以为1000pa左右。在水的分压低的情况下，用氟化钙、溴化钾等盐形成的气室10的入射窗、出射窗难以潮解。
[0063]
特别是能够将拉曼散射光的光路的水的分压设为超过10pa，优选设为100pa以上。即，由于不需要实施降低拉曼散射光的光路中的所述分压的工序，因此不需要用于收纳拉曼散射光的光路中的水的密闭容器、以及用于降低该密闭容器内的水分的高纯度清洗气体供给源。
[0064]
为了防止检测器12中的基线的上升、噪声的增加，从气室10到检测器12的拉曼散射光的光路优选使用由不使拉曼散射光透过的材质形成的罩构件覆盖。作为不使拉曼散射光透过的材质，可列举金属、树脂等，但从加工性、耐久性的方面出发，优选为金属，更优选为不锈钢。
[0065]
在使用不锈钢制的罩构件的情况下，罩构件的内部的压力没有特别限定，但优选设为1pa以上且0.2mpa以下。另外，罩构件的内部的温度没有特别限定，但优选为0℃以上且
100℃以下。
[0066]
[试样气体]
[0067]
试样气体的种类没有特别限定，但在含有与水的反应性高的氟化合物、氯化合物和溴化合物之中的至少一种的气体为试样气体的情况下，能够特别适合地应用本发明涉及的气体分析方法。
[0068]
作为氟化合物的例子，可列举氟气(f2)、氟化氢、二氟化氧(of2)、碳酰氟、亚硝酰氟(nof)、四氟化硅(sif4)。另外，作为氟化合物的例子，可列举三氟化氯(clf3)、五氟化氯(clf5)、三氟化溴(brf3)、五氟化溴(brf5)、五氟化碘(if5)、七氟化碘(if7)等氟化卤素、三氟化硼(bf3)、四氟化二硼(b2f4)等氟化硼。而且，作为氟化合物的例子，可列举三氟化磷(pf3)、五氟化磷(pf5)等氟化磷、四氟化硫(sf4)、十氟化二硫(s2f
10
)等氟化硫、氟化氙(xef2、xef4、xef6)、二氟化氪(krf2)等氟化稀有气体。试样气体中的氟化合物的含量没有特别限定，但优选为1体积％以上且100体积％以下，更优选为10体积％以上且99体积％以下。
[0069]
作为氯化合物的例子，可列举氯气、氯化氢、碳酰氯(cocl2)、四氯化硅(sicl4)。另外，作为氯化合物的例子，可列举一氯化溴(brcl)、三氯化溴(brcl3)、一氯化碘(icl)、六氯化二碘(i2cl6)等氯化卤素、三氯化硼(bcl3)等氯化硼、三氯化磷(pcl3)、五氯化磷(pcl5)等氯化磷、二氯化硫(scl2)、二氯化二硫(s2cl2)、四氯化硫等(scl4)等氯化硫。试样气体中的氯化合物的含量没有特别限定，但优选为1体积％以上且100体积％以下，更优选为10体积％以上且99体积％以下。
[0070]
作为溴化合物的例子，可列举溴气(br2)、溴化氢(hbr)、碳酰溴(cobr2)。另外，作为溴化合物的例子，可列举一溴化碘(ibr)、三溴化碘(ibr3)等溴化卤素、三溴化硼(bbr3)等溴化硼、三溴化磷(pbr3)、五溴化磷(pbr5)等溴化磷、二溴化硫(sbr2)等溴化硫。试样气体中的溴化合物的含量没有特别限定，但优选为1体积％以上且100体积％以下，更优选为10体积％以上且99体积％以下。
[0071]
另外，在试样气体为碳酰氟的情况下，如果在气室10内存在水，则通过碳酰氟与水的反应而产生氟化氢和二氧化碳，因此有分析精度降低的担忧。
[0072]
〔杂质〕
[0073]
试样气体中所含有的杂质的种类没有特别限定，但在杂质为卤素、卤化氢、水、二氧化碳的情况下，能够特别适合地应用本发明涉及的气体分析方法。作为卤素的例子，可列举氟气、氯气、溴气，作为卤化氢的例子，可列举氟化氢、氯化氢、溴化氢。
[0074]
但是，试样气体含有的上述的氟化合物、氯化合物以及溴化合物和杂质不是同种的化合物而是异种的化合物。
[0075]
实施例
[0076]
以下，示出实施例和比较例来更具体地说明本发明。
[0077]
＜实施例1＞
[0078]
将试样气体设为碳酰氟气体，将干燥气体设为氦气，使用与图1中所示的气体分析装置同样的构成的气体分析装置，来进行试样气体中所含有的杂质的定量分析。
[0079]
气室主体的容量为100ml，材质为不锈钢sus316，气室的入射窗和出射窗的材质为氟化钙。
[0080]
气体分析装置具备的拉曼分光光度计，具有波数为532nm、最大输出为10w的yag激
光器作为光源，并且，具有f值＝f/3.6的单色器分光器和使用电荷耦合元件的光检测器。
[0081]
另外，为了防止激光的泄漏，从光源到气室的光路使用不锈钢sus304制的罩构件覆盖，使由空气压缩机压缩了的空气以1000ml/分钟的流量在上述罩构件的内侧流通。测定了由空气压缩机压缩了的空气的水的分压，结果为1000pa。
[0082]
而且，从气室到光检测器的光路使用不锈钢sus304制的罩构件覆盖以使得光不会从外部进入，使由空气压缩机压缩了的空气以1000ml/分钟的流量在上述罩构件的内侧流通。测定了由空气压缩机压缩了的空气的水的分压，结果为1000pa。
[0083]
首先，使用气体分析装置实施了前处理工序。从作为干燥气体供给源的高纯度氦气储气瓶经由干燥气体流量控制装置(株式会社堀场
エステック
制的数字质量流量控制器sec-n100(商品名)向气室中供给了将流量调整为100ml/分钟的氦气。用露点计测定氦气中的水的分压，结果为0.05pa。氦气流通时的气室的温度设为20℃，气室内的压力设为0.1mpaa。在从氦气流通开始起算的60分钟后，用拉曼分光光度计测定气室内的水的分压，结果为0.1pa。
[0084]
另外，使用株式会社
ガステック
制的水蒸气检测管no.6测定激发光的光路的水的分压，结果为1000pa。而且，使用株式会社
ガステック
制的水蒸气检测管no.6测定拉曼散射光的光路的水的分压，结果为1000pa。
[0085]
接着，使用气体分析装置实施了分析工序。即，在停止氦气的流通后，从作为试样气体供给源的碳酰氟气体储气瓶经由试样气体流量控制装置(株式会社堀场
エステック
制的数字质量流量控制器sec-n100(商品名)向气室中供给了将流量调整为100ml/分钟的碳酰氟气体。
[0086]
在从碳酰氟气体的流通开始起算的10分钟后，用拉曼分光光度计测定气室内的碳酰氟气体中的杂质的量，结果检测出氮气为121体积ppm、二氧化碳为58体积ppm、氟化氢为23体积ppm。
[0087]
在测定杂质量后观察了入射窗、出射窗以及气室主体的内表面，但未观测到腐蚀。
[0088]
＜实施例2＞
[0089]
将前处理工序中的氦气的流通时间设为30分钟，除此以外，与实施例1同样地用拉曼分光光度计测定了气室内的碳酰氟气体中的杂质的量。其结果，实施前处理工序后(从氦气的流通开始起算的30分钟后)的气室内的水的分压为6pa。另外，分析工序中的杂质的测定结果是：氮为121体积ppm，二氧化碳为58体积ppm，氟化氢为23体积ppm。而且，在测定杂质量后观察了入射窗、出射窗以及气室主体的内表面，但未观测到腐蚀。
[0090]
＜比较例1＞
[0091]
除了未实施前处理工序这一点以外，与实施例1同样地用拉曼分光光度计测定了气室内的碳酰氟气体中的杂质的量。其结果，在试样气体导入之前测定了气室内的水的分压，结果为2000pa。另外，分析工序中的杂质的测定结果是：氮为122体积ppm，二氧化碳为530体积ppm，氟化氢为490体积ppm，确认到测定精度的降低。而且，在测定杂质量后观察了入射窗、出射窗以及气室主体的内表面，确认到入射窗以及出射窗的模糊和气室主体的内表面的腐蚀。
[0092]
＜比较例2＞
[0093]
将前处理工序中的氦气的流通时间设为10分钟，除此以外，与实施例1同样地用拉
曼分光光度计测定了气室内的碳酰氟气体中的杂质的量。其结果，实施前处理工序后(从氦气的流通开始起算的10分钟后)的气室内的水的分压为18pa。另外，分析工序中的杂质的测定结果是：氮为122体积ppm，二氧化碳为85体积ppm，氟化氢为51体积ppm，确认到测定精度的降低。在测定杂质量后观察了入射窗、出射窗以及气室主体的内表面，但未观测到腐蚀。
[0094]
附图标记说明
[0095]
1：试样气体供给源
[0096]
2：干燥气体供给源
[0097]
3：试样气体流量控制装置
[0098]
4：干燥气体流量控制装置
[0099]
5：试样气体供给用配管
[0100]
6：干燥气体供给用配管
[0101]
10：气室
[0102]
11：光源
[0103]
12：检测器
[0104]
13：排气用配管

技术特征：
1.一种气体分析方法，是分析在试样气体中含有的杂质的方法，具备前处理工序和分析工序，在所述前处理工序中，将要被导入所述试样气体的气室内的水的分压降低至10pa以下，在所述分析工序中，向实施了所述前处理工序的所述气室内导入所述试样气体，采用拉曼光谱法检测所述杂质。2.根据权利要求1所述的气体分析方法，所述前处理工序是将所述气室内用干燥气体进行清洗的工序。3.根据权利要求1或2所述的气体分析方法，所述杂质为氟气、氯气、溴气、氟化氢、氯化氢、溴化氢、水和二氧化碳之中的至少一种。4.根据权利要求1～3的任一项所述的气体分析方法，所述试样气体为含有氟化合物、氯化合物和溴化合物之中的至少一种的气体。

技术总结
提供能够降低在气室内存在的水的影响从而以高精度分析试样气体中的杂质的气体分析方法。一种气体分析方法，是分析在试样气体中含有的杂质的方法，具备前处理工序和分析工序，在所述前处理工序中，将要被导入试样气体的气室(10)内的水的分压降低至10Pa以下，在所述分析工序中，向实施了前处理工序的气室(10)内导入试样气体，采用拉曼光谱法检测杂质。采用拉曼光谱法检测杂质。采用拉曼光谱法检测杂质。


技术研发人员：铃木淳
受保护的技术使用者：株式会社力森诺科
技术研发日：2021.11.08
技术公布日：2023/8/24