一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺的制作方法

1.本发明涉及晶圆加工领域，尤其涉及一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺。


背景技术：

2.晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。
3.目前在晶圆加工时需要使用石英玻璃真空吸盘进行辅助操作。
4.目前市场状态1：伴随半导体晶圆加工的市场快速扩增，晶圆加工的工装需求也逐步高涨；
5.2：大多使用的工装为不锈钢，铝合金等金属工装底盘；存在平面度加工难，容易变形；例如：不锈钢300mm范围在20um左右极限，而石英可以在5um，并且不产生形变；
6.3：金属底盘容易产生静电，在使用过程中，容易对芯片细微电路产生破坏；
7.4：金属底盘不透明，需要上下对位时，下端ccd无法使用。
8.因此，有必要提供一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺解决上述技术问题。


技术实现要素：

9.本发明提供一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，解决了现在的晶圆加工使用的真空吸盘均为金属底盘，而金属吸盘容易产生静电，在使用过程中，容易对芯片细微电路产生破坏，并且金属底盘不透明，需要上下对位时，下端ccd无法使用的问题。
10.为解决上述技术问题，本发明提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，包括以下步骤：
11.s1、表层石英板：多孔阵列的吸附孔；
12.s2、中层石英板：多组气路沉槽/气路接口；
13.s3、底层石英板：环形冷却水通道/冷却水接口；
14.s4、对表层/中层/底层进行分子扩散键合，形成立体结构；
15.s5、对键合完的产品表面/背面进行cmp处理，平面度达到5um；
16.s6、净化清洗/干燥。
17.优选的，所述s6中对石英玻璃真空吸盘清洗时需要使用清洗装置，所述清洗装置包括箱体，所述箱体内部的两侧均设置有擦洗装置，所述箱体内壁底部的两侧均设置有放置组件，所述箱体内部的一侧设置有冲洗装置。
18.优选的，所述擦洗装置包括两个固定杆，两个所述固定杆的表面从上至下依次连接有多个安装架。
19.优选的，所述安装架内部的一侧设置有转动杆，所述转动杆的顶端和底部均连接有擦拭块，所述安装架的内部设置有旋转杆，所述旋转杆和所述转动杆的表面均套设有皮带轮，两个所述皮带轮之间连接有皮带，所述旋转杆的顶端安装有电机。
20.优选的，所述放置组件包括滑杆，所述滑杆的表面均套设有滑套，所述滑套的表面连接有连接座，所述连接座的表面套设有活动杆，所述活动杆的表面从上至下依次套设有多个环形连接架，所述环形连接架的一端连接有放置架。
21.优选的，所述箱体的顶部设置有活动装置，所述活动装置包括液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的顶端连接有活动架，所述活动架底部的两侧均连接有连接件，所述连接件和所述活动杆之间设置有固定栓。
22.优选的，所述冲洗装置包括水箱，所述箱体的顶端且位于所述水箱相对的一侧固定安装有水泵。
23.优选的，所述水泵的输入端和输出端分别连接有进液管和出液管，所述出液管底部的两侧均连接有冲洗管。
24.优选的，所述箱体的底部连接有收集箱。
25.优选的，所述箱体和所述收集箱之间均开设有多个通孔。
26.与相关技术相比较，本发明提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺具有如下有益效果：
27.本发明提供一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，使用微孔吸附气路平台，提高晶圆产品在加工中，对平面度的精密等级要求，石英不导电，减少加工中，静电对产品造成的不良，提高成品率，使用多层气路，可以分别对2-12inch的晶圆吸附；方便快速流片，使用密闭液路，可以稳定控制底盘温度；减少温差对加工晶圆的精度影响。
附图说明
28.图1为本发明提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺的第二实施例的结构示意图；
29.图2为图1所示的a部放大示意图；
30.图3为图1所示的装置整体的立体结构示意图；
31.图4为图3所示的b部放大示意图；
32.图5为图1所示的装置整体外部的结构示意图。
33.图中标号：1、箱体，
34.2、擦洗装置，21、固定杆，22、安装架，23、旋转杆，24、转动杆，25、擦拭块，26、皮带轮，27、皮带，28、电机，
35.3、放置组件，31、滑杆，32、滑套，33、连接座，34、活动杆，35、环形连接架，36、放置架，
36.4、活动装置，41、液压伸缩杆，42、活动架，43、连接件，44、固定栓，
37.5、冲洗装置，51、水箱，52、水泵，53、进液管，54、出液管，55、冲洗管，
38.6、收集箱，7、通孔。
具体实施方式
39.下面结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。
40.第一实施例
41.一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，包括以下步骤：
42.s1、表层石英板：多孔阵列的吸附孔；
43.s2、中层石英板：多组气路沉槽/气路接口；
44.s3、底层石英板：环形冷却水通道/冷却水接口；
45.s4、对表层/中层/底层进行分子扩散键合，形成立体结构；
46.s5、对键合完的产品表面/背面进行cmp处理，平面度达到5um；
47.s6、净化清洗/干燥。
48.与相关技术相比较，本发明提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺具有如下有益效果：
49.本发明提供一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，使用微孔吸附气路平台，提高晶圆产品在加工中，对平面度的精密等级要求，石英不导电，减少加工中，静电对产品造成的不良，提高成品率，使用多层气路，可以分别对2-12inch的晶圆吸附；方便快速流片，使用密闭液路，可以稳定控制底盘温度；减少温差对加工晶圆的精度影响。
50.第二实施例
51.请结合参阅图1、图2、图3、图4和图5，基于本技术的第一实施例提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，本技术的第二实施例提出另一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺。第二实施例仅仅是第一实施例优选的方式，第二实施例的实施对第一实施例的单独实施不会造成影响。
52.具体的，本技术的第二实施例提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺的不同之处在于，一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，所述s6中对石英玻璃真空吸盘清洗时需要使用清洗装置，所述清洗装置包括箱体1，所述箱体1内部的两侧均设置有擦洗装置2，所述箱体1内壁底部的两侧均设置有放置组件3，所述箱体1内部的一侧设置有冲洗装置5。
53.所述擦洗装置2包括两个固定杆21，两个所述固定杆21的表面从上至下依次连接有多个安装架22。
54.两个固定杆21的两端均固定连接有矩形块，矩形块的一端与箱体1内壁的一侧连接，转动杆24和安装架23之间通过轴承连接，便于转动杆24在安装架23的内部进行转动，在多个安装架23的内部均设置有多个带有皮带轮26的转动杆24，并且每个转动杆24的两端均连接有擦拭块254，擦拭块25的表面粘接有擦拭棉，在转动杆24的两端均设置擦拭块25可以同时对两个吸盘进行擦拭，并且每组皮带轮26之间均通过皮带27进行传动连接。
55.所述安装架22内部的一侧设置有转动杆24，所述转动杆24的顶端和底部均连接有擦拭块25，所述安装架22的内部设置有旋转杆23，所述旋转杆23和所述转动杆24的表面均套设有皮带轮26，两个所述皮带轮26之间连接有皮带27，所述旋转杆23的顶端安装有电机28。
56.所述放置组件3包括滑杆31，所述滑杆31的表面均套设有滑套32，所述滑套32的表面连接有连接座33，所述连接座33的表面套设有活动杆34，所述活动杆34的表面从上至下依次套设有多个环形连接架35，所述环形连接架35的一端连接有放置架36。
57.滑杆31的一端与箱体1内壁的一侧连接，利用滑套32便于对带有多个放置架36的活动杆34进行安装，在活动杆34的内部为空心，便于在连接座33的表面上下移动，可以在放置架36表面的吸盘一面清洗后，对另一面进行清洗，液压伸缩杆41和带有连接件43的活动
架42可以带动带有多个放置架36的活动杆34进行上下移动，在活动杆34和连接架34的内部均开设有与固定栓44相适配的固定孔。
58.所述箱体1的顶部设置有活动装置4，所述活动装置4包括液压伸缩杆41，所述液压伸缩杆41的顶端连接有活动架42，所述活动架42底部的两侧均连接有连接件43，所述连接件43和所述活动杆34之间设置有固定栓44。
59.使用时，当放置架36内部的吸盘其中一面清洗后，启动液压伸缩杆41带动活动架42向上移动，当活动架42向上移动时通过底部两侧的连接件43带动底部的活动杆34在连接座33的表面向上移动，即可将放置架36内部的吸盘另一面与擦拭块25接触擦拭。
60.所述冲洗装置5包括水箱51，所述箱体1的顶端且位于所述水箱51相对的一侧固定安装有水泵52。
61.所述水泵52的输入端和输出端分别连接有进液管53和出液管54，所述出液管54底部的两侧均连接有冲洗管55。
62.所述箱体1的底部连接有收集箱6。
63.在收集箱6的一侧连接有排液管，多个通孔7的开设可以对清洗后的液体通过箱体1输送至收集箱6的内部。
64.所述箱体1和所述收集箱6之间均开设有多个通孔7。
65.本发明提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺的工作原理如下：
66.使用时，对吸盘进行清洗时，将带有吸盘的放置架36和活动杆34通过滑套32与滑杆31连接，当放置架36内部的吸盘与擦拭块25接触后，启动电机28带动旋转杆23进行转动，当旋转杆23转动时带动表面的皮带轮26进行转动，当皮带轮26转动时通过皮带27带动转动杆24表面的皮带轮26进行转动，当转动杆24表面的皮带轮26转动时带动转动杆24进行转动，当转动杆24转动时带动顶部和底部的擦拭块25进行转动，当擦拭块25转动时对放置架36内部的吸盘进行擦拭。
67.当擦拭块25对放置架36内部的吸盘进行擦拭时，启动水泵52将水箱51的液体通过进液管53输送至出液管54的内部，当液体输送至出液管54的内部后，再通过水泵52的压力将出液管54内部的水通过冲洗管55输送至擦拭块25和吸盘的表面进行清洗。
68.与相关技术相比较，本发明提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺具有如下有益效果：
69.本发明提供一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，在箱体1内部的两侧均设置擦洗装置2配合放置组件3和冲洗装置5使用便于对石英玻璃真空吸盘清理时能提高同时清洗的数量，可以对大量的石英玻璃真空吸盘清理时，能提高清洗的速度。
70.以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

技术特征：
1.一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：s1、表层石英板：多孔阵列的吸附孔；s2、中层石英板：多组气路沉槽/气路接口；s3、底层石英板：环形冷却水通道/冷却水接口；s4、对表层/中层/底层进行分子扩散键合，形成立体结构；s5、对键合完的产品表面/背面进行cmp处理，平面度达到5um；s6、净化清洗/干燥。2.根据权利要求1所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述s6中对石英玻璃真空吸盘清洗时需要使用清洗装置，所述清洗装置包括箱体，所述箱体内部的两侧均设置有擦洗装置，所述箱体内壁底部的两侧均设置有放置组件，所述箱体内部的一侧设置有冲洗装置。3.根据权利要求2所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述擦洗装置包括两个固定杆，两个所述固定杆的表面从上至下依次连接有多个安装架。4.根据权利要求3所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述安装架内部的一侧设置有转动杆，所述转动杆的顶端和底部均连接有擦拭块，所述安装架的内部设置有旋转杆，所述旋转杆和所述转动杆的表面均套设有皮带轮，两个所述皮带轮之间连接有皮带，所述旋转杆的顶端安装有电机。5.根据权利要求2所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述放置组件包括滑杆，所述滑杆的表面均套设有滑套，所述滑套的表面连接有连接座，所述连接座的表面套设有活动杆，所述活动杆的表面从上至下依次套设有多个环形连接架，所述环形连接架的一端连接有放置架。6.根据权利要求5所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述箱体的顶部设置有活动装置，所述活动装置包括液压伸缩杆，所述液压伸缩杆的顶端连接有活动架，所述活动架底部的两侧均连接有连接件，所述连接件和所述活动杆之间设置有固定栓。7.根据权利要求2所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述冲洗装置包括水箱，所述箱体的顶端且位于所述水箱相对的一侧固定安装有水泵。8.根据权利要求7所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述水泵的输入端和输出端分别连接有进液管和出液管，所述出液管底部的两侧均连接有冲洗管。9.根据权利要求2所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述箱体的底部连接有收集箱。10.根据权利要求9所述的新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，其特征在于，所述箱体和所述收集箱之间均开设有多个通孔。

技术总结
本发明提供一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，包括以下步骤：S1、表层石英板：多孔阵列的吸附孔；S2、中层石英板：多组气路沉槽/气路接口；S3、底层石英板：环形冷却水通道/冷却水接口；S4、对表层/中层/底层进行分子扩散键合，形成立体结构；S5、对键合完的产品表面/背面进行CMP处理，平面度达到5um；S6、净化清洗/干燥。本发明提供的一种新型晶圆加工用石英玻璃真空吸盘制作工艺，使用微孔吸附气路平台，提高晶圆产品在加工中，对平面度的精密等级要求，石英不导电，减少加工中，静电对产品造成的不良，提高成品率，使用多层气路，可以分别对2-12inch的晶圆吸附；方便快速流片，使用密闭液路，可以稳定控制底盘温度。可以稳定控制底盘温度。可以稳定控制底盘温度。


技术研发人员：郭云宜
受保护的技术使用者：苏州迪可通生物科技有限公司
技术研发日：2023.06.06
技术公布日：2023/8/28