晶圆片清洗装置的制作方法

1.本技术涉及清洗技术领域，尤其涉及一种晶圆片清洗装置。


背景技术：

2.晶圆片是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆片。在生产过程中，晶圆片退火前需要进行清洗，清洗工艺为在高温条件下将晶圆片先后经碱洗区的碱液清洗槽、酸洗区的酸液清洗槽进行清洗。晶圆片装在提篮中，经机械手抓取实现由碱洗区至酸洗区的移动。
3.晶圆片的清洗过程中，由于高温工作环境下，碱液清洗槽会产生大量的强碱蒸汽，酸液清洗槽会产生大量的强酸蒸汽，产生的蒸汽在车间四处流窜，为解决这一问题，技术人员设置一种清洗箱将碱洗区和酸洗区两个区域罩住，限制强碱蒸汽和强酸蒸汽在车间的四处流窜。
4.但是发明人发现，由于碱液清洗槽和酸液清洗槽产生的强碱蒸汽和强酸蒸汽在箱体内的窜动，两种蒸汽混合后会交叉污染，强酸蒸汽还会腐蚀碱洗区的结构和框架，缩短设备的使用寿命。


技术实现要素：

5.本发明实施例的目的是提供一种晶圆片清洗装置，以解决清洗箱中碱液清洗槽和酸液清洗槽产生的强碱蒸汽和强酸蒸汽窜动混合后交叉污染，强酸蒸汽腐蚀碱洗区结构和框架，缩短设备使用寿命的问题。
6.为解决上述技术问题，本技术实施例提供如下技术方案：
7.本技术提供一种晶圆片清洗装置，包括：
8.壳体，壳体罩设在碱液清洗槽和酸液清洗槽的上方，形成操作空间；
9.开闭结构，开闭结构设置于壳体内，将操作空间分隔为对应于碱液清洗槽的第一空间和对应于酸液清洗槽的第二空间，开闭结构打开第一空间与第二空间连通，开闭结构关闭第一空间与第二空间隔离；和
10.至少一个调压设备，调压设备设置于壳体上，并连通第一空间。
11.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中开闭结构包括：固定挡板和活动门板；固定挡板与壳体的顶壁以及第一侧壁连接，活动门板的顶部与壳体的顶壁滑动连接，活动门板的第一侧与固定挡板滑动连接；其中，活动门板向远离固定挡板一侧滑动，活动门板的与第一侧相对的第二侧，与壳体的第一侧壁相对的第二侧壁贴合，开闭结构关闭；活动门板向靠近固定挡板的一侧滑动，能够运动至活动门板与固定挡板重叠，开闭结构打开。
12.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中固定挡板占据开闭结构关闭状态的面积的25％-35％。
13.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中活动门板包括滑动连接的第一折叠板和第二折叠板，第一折叠板和第二折叠板能够相对展开和重叠；其中，开闭结构打开，
第一折叠板与第二折叠板均与固定挡板重叠；开闭结构关闭，第一折叠板与第二折叠板展开，第二折叠板的第一侧与固定挡板远离第一侧壁的一侧贴合，第二折叠板的第一侧相对的第二侧与第一折叠板的第一侧贴合，第一折叠板的第一侧相对的第二侧与第二侧壁贴合。
14.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中第一折叠板和第二折叠板其中之一设置有凸块，其中另一设置有凹槽，凹槽沿第一折叠板或第二折叠板开闭方向延伸，凸块至少一部分滑动嵌设于凹槽内；其中，开闭结构打开，凹槽远离固定挡板的一侧槽壁与凸块接触，第一折叠板和第二折叠板向固定挡板方向运动；开闭结构关闭，凹槽靠近固定挡板的一侧槽壁与凸块接触，第一折叠板和第二折叠板背离固定挡板方向运动。
15.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中第二折叠板顶部设置有截面为l型的第一导向板，第一导向板与固定挡板滑动连接，第一导向板能够包裹部分固定挡板。
16.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中第一折叠板顶部设置有截面为l型的第二导向板，第二导向板与第二折叠板滑动连接，第二导向板能够包裹部分第二折叠板。
17.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中开闭结构的底部设置滑槽，滑槽一端连接第一侧壁，另一端连接第二侧壁，滑槽承载固定挡板的底部，活动门板的底部与滑槽滑动连接。
18.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中活动门板的底部设置有滑轮，滑轮与滑槽滑动配合。
19.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中开闭结构的顶部设置有导向槽，导向槽一端连接第一侧壁，另一端连接第二侧壁，导向槽容置固定挡板的顶部，活动门板的顶部与导向槽滑动连接。
20.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中开闭结构包括：卷帘；卷帘的顶部与壳体的顶壁连接，卷帘的两侧与壳体的相对两侧壁滑动连接；其中，卷帘卷起开闭结构打开；卷帘伸开开闭结构关闭。
21.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中壳体的相对两侧壁设置有导轨，导轨与卷帘的两侧滑动连接。
22.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中还包括驱动设备，驱动设备与开闭结构连接，用于驱动开闭结构打开或关闭。
23.在一些实施例中，前述的晶圆片清洗装置，其中还包括至少一个抽风设备，抽风设备设置于壳体上，连通操作空间。
24.通过上述技术方案，本发明晶圆片清洗装置至少具有下列优点：
25.本发明实施例提供的晶圆片清洗装置，其增设有开闭结构和至少一个调压部件，开闭结构设置于壳体内，将操作空间分隔为对应于碱液清洗槽的第一空间和对应于酸液清洗槽的第二空间。晶圆片进入到壳体内时，开闭结构为封闭状态，阻止强碱蒸汽和强酸蒸汽流窜混合，也阻挡了强酸蒸汽流窜接触到第一空间的结构框架，第一空间中的机械手将晶圆片放入碱液清洗槽中清洗，清洗完成后，开闭结构调节为打开状态，为机械手由第一空间移动到第二空间提供了活动区域，调压结构使第一空间和第二空间产生压差，阻止第二空间内的强酸蒸汽进入第一空间混合强碱蒸汽，腐蚀结构框架，机械手通过开闭结构打开的范围将晶圆片传递，第二空间中机械手抓持晶圆片浸入酸液清洗槽清洗，开闭结构复位为
封闭状态，继续对壳体内的两个清洗区域分隔，阻止蒸汽流窜混合，阻挡强酸蒸汽接触第一空间结构框架。通过本发明的应用，解决了清洗箱中碱液清洗槽和酸液清洗槽产生的强碱蒸汽和强酸蒸汽窜动混合后交叉污染，强酸蒸汽腐蚀碱洗区结构和框架，缩短设备使用寿命的问题。
26.上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
27.为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
28.图1示意性地示出了本发明实施例提供的一种晶圆片清洗装置的轴测示意图；
29.图2示意性地示出了本发明实施例提供的一种晶圆片清洗装置的开闭结构在壳体中位置的轴测示意图；
30.图3示意性地示出了本发明实施例提供的一种晶圆片清洗装置的开闭结构的主视结构示意图；
31.图4示意性地示出了本发明实施例提供的一种晶圆片清洗装置的开闭结构的轴测示意图。
32.图5示意性地示出了本发明实施例提供的一种晶圆片清洗装置的滑轮与滑槽连接关系的结构示意图。
33.图6示意性地示出了本发明实施例提供的另一种晶圆片清洗装置的轴测示意图。
34.附图标记说明：
35.1、壳体；2、碱液清洗槽；3、酸液清洗槽；4、操作空间；5、开闭结构；6、调压设备；11、第一侧壁；12、第二侧壁；21、第一空间；31、第二空间；51、固定挡板；52、活动门板；53、卷帘；521、第一折叠板；522、第二折叠板；523、凸块；524，、凹槽；525、第一导向板；526、第二导向板；527、滑槽；528、滑轮；529、导向槽。
具体实施方式
36.下面结合附图和实施例对本公开的实施方式作进一步详细描述。以下实施例的详细描述和附图用于示例性地说明本公开的原理，但不能用来限制本公开的范围，本公开可以以许多不同的形式实现，不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。
37.本公开提供这些实施例是为了使本公开透彻且完整，并且向本领域技术人员充分表达本公开的范围。应注意到：除非另外具体说明，这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、材料的组分、数字表达式和数值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。
38.需要说明的是，在本公开的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是大于或等于两个；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方
位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
39.此外，本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的部分。“垂直”并不是严格意义上的垂直，而是在误差允许范围之内。“平行”并不是严格意义上的平行，而是在误差允许范围之内。“包括”或者“包含”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素，并不排除也涵盖其他要素的可能。
40.还需要说明的是，在本公开的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。当描述到特定器件位于第一器件和第二器件之间时，在该特定器件与第一器件或第二器件之间可以存在居间器件，也可以不存在居间器件。
41.本公开使用的所有术语与本公开所属领域的普通技术人员理解的含义相同，除非另外特别定义。还应当理解，在诸如通用字典中定义的术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。
42.对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
43.如图1所示，本发明的实施例提供一种晶圆片清洗装置，包括：壳体1、开闭结构5和至少一种调压设备6；壳体1罩设在碱液清洗槽2和酸液清洗槽3的上方，形成操作空间4；开闭结构5设置于壳体1内，将操作空间4分隔为对应于碱液清洗槽2的第一空间21和对应于酸液清洗槽3的第二空间31，开闭结构5打开第一空间21与第二空间31连通，开闭结构5关闭第一空间21与第二空间31隔离；和至少一个调压设备6设置于壳体1上，并连通第一空间21。
44.具体地，晶圆片清洗过程中，先后浸入碱液清洗槽2和酸液清洗槽3，由于清洗过程处于高温环境下，碱液清洗槽2和酸液清洗槽3会产生强碱蒸汽和强酸蒸汽，设置壳体1将两种清洗槽上方的空间罩住，进而将产生的蒸汽罩在壳体1内的空间里，防止蒸汽在生产车间内四处流窜。同时，晶圆片在壳体1内的清洗需要机械手的抓持、运输，壳体1罩住的空间为机械手提供了操作空间4。
45.壳体1内设置有开闭结构5，分隔壳体1罩住的空间，为了阻挡碱液清洗槽2产生的强碱蒸汽和酸液清洗槽3产生的强酸蒸汽混合，并且为了防止强酸蒸汽对碱液清洗槽2一侧的结构框架腐蚀，将开闭结构5设置在两个槽上方对应的两个空间之间。且为了满足机械手抓持运输晶圆片的操作需要，开闭结构5能够实现打开、关闭，当开闭结构5关闭，两个空间被隔离，两种蒸汽无法接触，当开闭结构5打开，为机械手抓持运输提供通道。开闭结构5可以为推拉式、折叠式、卷帘53式、合页式等多种结构，只要是能够开闭并且分隔操作空间4即可。
46.调压设备6可以为鼓风机、空气压缩机、ffu空气过滤器、调压撬、调压阀等设备，调压设备6设置于壳体1上，并连通第一空间21，根据实际工作情况设置一个或多个调压设备6放置在壳体1上的合适位置。调压结构可以始终处于工作状态，也可以在开闭结构5打开时
处于工作状态，在晶圆片的清洗过程中，调压结构使第一空间21和第二空间31产生压差，阻止第二空间31内的强酸蒸汽进入第一空间21混合强碱蒸汽，腐蚀结构框架。
47.本发明实施例提供的晶圆片清洗装置，其增设有开闭结构5和至少一个调压部件，开闭结构5设置于壳体1内，将操作空间4分隔为对应于碱液清洗槽2的第一空间21和对应于酸液清洗槽3的第二空间31。晶圆片进入到壳体1内时，开闭结构5为封闭状态，阻止强碱蒸汽和强酸蒸汽流窜混合，也阻挡了强酸蒸汽流窜接触到第一空间21的结构框架，第一空间21中的机械手将晶圆片放入碱液清洗槽2中清洗，清洗完成后，开闭结构5调节为打开状态，为机械手由第一空间21移动到第二空间31提供了活动区域，调压结构使第一空间21和第二空间31产生压差，阻止第二空间31内的强酸蒸汽进入第一空间21混合强碱蒸汽，腐蚀结构框架，机械手通过开闭结构5打开的范围将晶圆片传递，第二空间31中机械手抓持晶圆片浸入酸液清洗槽3清洗，开闭结构5复位为封闭状态，继续对壳体1内的两个清洗区域分隔，阻止蒸汽流窜混合，阻挡强酸蒸汽接触第一空间21结构框架。通过本发明的应用，解决了清洗箱中碱液清洗槽2和酸液清洗槽3产生的强碱蒸汽和强酸蒸汽窜动混合后交叉污染，强酸蒸汽腐蚀碱洗区结构和框架，缩短设备使用寿命的问题。
48.如图2所示，在一些实施例中，开闭结构5包括：固定挡板51和活动门板52；固定挡板51与壳体1的顶壁以及第一侧壁11连接，活动门板52的顶部与壳体1的顶壁滑动连接，活动门板52的第一侧与固定挡板51滑动连接；其中，活动门板52向远离固定挡板51一侧滑动，活动门板52的与第一侧相对的第二侧，与壳体1的第一侧壁11相对的第二侧壁12贴合，开闭结构5关闭；活动门板52向靠近固定挡板51的一侧滑动，能够运动至活动门板52与固定挡板51重叠，开闭结构5打开。
49.具体地，固定挡板51占据开闭结构5关闭状态的一侧，并垂直壳体1的顶壁和第一侧壁11放置，活动门板52平行于固定挡板51在壳体1中滑动，通过活动门板52的滑动控制开闭结构5的开闭状态。且活动门板52的运动方向垂直于第一空间21与第二空间31分隔面，这样设置开闭结构5打开关闭所需的空间小，避免了所设开闭结构5占据机械手操作空间4而使工人操控难度增加。活动门板52可以设置为一扇可活动门板52，也可设置为多扇，多扇门板间可以通过折叠、合页、嵌套、抵顶等方式连接，只要能实现通过活动门板52的滑动控制开闭结构5的开闭状态即可。
50.在一些实施例中，固定挡板51占据开闭结构5关闭状态的面积的25％-35％。
51.具体地，为了同时罩住两个清洗工位，壳体1为晶圆片清洗提供了很大的操作空间4，使第一空间21和第二空间31分隔面的面积很大，分隔面的面积即为开闭结构5关闭状态的面积。开闭结构5关闭状态的面积由固定挡板51和活动门板52组成，在满足机械手所需抓持运输空间的前提下，适当增大固定挡板51的占据面积，降低活动门板52的占据面积，减少了活动门板52的运动用功。
52.固定挡板51占据开闭结构5关闭状态的面积的25％时，活动门板52面积占据75％，固定挡板51占据开闭结构5关闭状态的面积的35％时，活动门板52面积占据65％，活动门板52面积越小，运动用功越少，但是考虑到机械手抓持运输需要通过打开的开闭结构5，为了防止对机械手的干扰碰撞，固定挡板51的面积占据开闭结构5关闭状态的30％。
53.如图2和图3所示，在一些实施例中，活动门板52包括滑动连接的第一折叠板521和第二折叠板522，第一折叠板521和第二折叠板522能够相对展开和重叠；其中，开闭结构5打
开，第一折叠板521与第二折叠板522均与固定挡板51重叠；开闭结构5关闭，第一折叠板521与第二折叠板522展开，第二折叠板522的第一侧与固定挡板51远离第一侧壁11的一侧贴合，第二折叠板522的第一侧相对的第二侧与第一折叠板521的第一侧贴合，第一折叠板521的第一侧相对的第二侧与第二侧壁12贴合。
54.具体地，开闭结构5由依次设置的第一折叠板521、第二折叠板522、固定挡板51组成，开闭结构5由关闭变为打开的过程中，第一折叠板521、第二折叠板522依次向固定挡板51方向移动。将活动门板52拆分成两个部分，在保证隔档效果的同时，由于单位重量下运动行程的改变，第一折叠板521和第二折叠板522运动用功之和小于单个板，并且两个板在运动中的能量传递比设置多个板更容易，减少了能量损耗。
55.第一折叠板521和第二折叠板522能够相对展开和重叠的设置使得开闭结构5打开状态下占据的空间较小，避免干扰碰撞机械手，且关闭状态下，依次排布的三块板共同紧密配合分隔开第一空间21和第二空间31。
56.如图3所示，在一些实施例中，第一折叠板521和第二折叠板522其中之一设置有凸块523，其中另一设置有凹槽524，凹槽524沿第一折叠板521或第二折叠板522开闭方向延伸，凸块523至少一部分滑动嵌设于凹槽524内；其中，开闭结构5打开，凹槽524远离固定挡板51的一侧槽壁与凸块523接触，第一折叠板521和第二折叠板522向固定挡板51方向运动；开闭结构5关闭，凹槽524靠近固定挡板51的一侧槽壁与凸块523接触，第一折叠板521和第二折叠板522背离固定挡板51方向运动。
57.具体地，第一折叠板521和第二折叠板522间通过凸块523与凹槽524的配合关系实现同步运动，其中之一折叠板设置凸块523，另一折叠板设置有能够让凸块523至少一部分滑动嵌设的凹槽524，使得无论是开闭结构5关闭还是打开，通过槽壁对凸块523的抵顶，实现其中之一折叠板对其中另一折叠板的带动。这样的运动方式，使得在对开闭结构5的驱动上，只需驱动其中之一折叠板即可，节约了驱动成本，并且由于两板通过凸块523和凹槽524滑动连接后，可以实现第一折叠板521和第二折叠板522同步折叠固定挡板51，使开闭结构5打开时，流水线作业的机械手在时序上更易操控。
58.如图4所示，在一些实施例中，第二折叠板522顶部设置有截面为l型的第一导向板525，第一导向板525与固定挡板51滑动连接，第一导向板525能够包裹部分固定挡板51。
59.具体地，截面为l型的第一导向板525和第二折叠板522组合在一起后，连接处形成u型的通槽，第二折叠板522与固定挡板51滑动连接时，固定挡板51的一部分与通槽的槽壁接触，使得第二折叠板522在运动过程中由于第一导向板525的限制不会发生偏移，而是沿着通槽开设方向稳定运动，从而对第二折叠板522的运动起到了导向作用，也使第二折叠板522与固定挡板51之间贴合之后的密封性更好。
60.如图4所示，在一些实施例中，第一折叠板521设置有截面为l型的第二导向板526，第二导向板526与第二折叠板522滑动连接，第二导向板526能够包裹部分第二折叠板522。
61.具体地，截面为l型的第二导向板526和第一折叠板521组合在一起后，连接处形成u型的通槽，第一折叠板521与第二挡板滑动连接时，第二折叠板522的一部分与通槽的槽壁接触，使得第一折叠板521在运动过程中由于第二导向板526的限制不会发生偏移，而是沿着通槽开设方向稳定运动，从而对第一折叠板521的运动起到了导向作用，也使第一折叠板521与第二折叠板522之间贴合之后的密封性更好。
62.如图4所示，在一些实施例中，开闭结构5的底部设置滑槽527，滑槽527一端连接第一侧壁11，另一端连接第二侧壁12，滑槽527承载固定挡板51的底部，活动门板52的底部与滑槽527滑动连接。
63.具体地，滑槽527连接两端连接在壳体1上，固定挡板51和活动门板52的底部均卡在滑槽527中，如此设置的滑槽527能在保证活动门板52通过滑槽527滑动的同时，承载固定挡板51和活动门板52的重量，使开闭结构5无论是打开还是关闭都能在空间中稳定放置。且由于滑槽527需要承载固定挡板51和活动门板52的重量，滑槽527选择刚度强度较高的材料，保证滑槽527的抗变形能力使之满足其上活动门板52的滑动。
64.如图5所示，在一些实施例中，活动门板52的底部设置有滑轮528，滑轮528与滑槽527滑动配合。
65.具体地，滑轮528使活动门板52与滑槽527的摩擦力更小，滑动更省力。为了保证活动门板52运动的稳定性，考虑到结构平衡，可以在门板底部的两端各设置一个滑轮528，或者根据活动门板52的宽度等距设置多个滑轮528。
66.在一些实施例中，开闭结构5的顶部设置有导向槽529，导向槽529一端连接第一侧壁11，另一端连接第二侧壁12，导向槽529容置固定挡板51的顶部，活动门板52的顶部与导向槽529滑动连接。
67.具体地，导向槽529设置在开闭结构5的顶部，即连接在壳体1的顶壁上，由于活动门板52需要随着开闭结构5打开关闭不断运动，导向槽529为活动门板52的运动提供导向，同时也避免了活动门板52的顶部长时间与壳体1顶壁之间摩擦，致使壳体1顶壁磨损等问题，导向槽529对壳体1起到了一定的保护作用，也就保证了操控空间中的密封，使强碱蒸汽和强酸蒸汽不会因为壳体1顶壁损坏而发生泄漏。
68.如图6所示，在一些实施例中，开闭结构5包括：卷帘53；卷帘53的顶部与壳体1的顶壁连接，卷帘53的两侧与壳体1的相对两侧壁滑动连接；其中，卷帘53卷起开闭结构5打开；卷帘53伸开开闭结构5关闭。
69.具体地，开闭结构5为卷帘53，卷帘53的顶部连接壳体1顶壁，卷帘53沿竖直方向运动，其两侧与壳体1的相对两侧壁滑动连接，当卷帘53伸开至布满第一空间21和第二空间31的分隔面时，开闭结构5关闭，随着卷帘53卷起，开闭部件打开，根据工作环境的实际需要调节卷帘53打开的范围，使之满足机械手抓持运输通过即可。卷帘53在操作空间4中占据体积小，同时，卷帘53可以通过设置滑轮组或者电葫芦实现省力地卷起伸开。
70.在一些实施例中，壳体1的相对两侧壁设置有导轨，导轨与卷帘53的两侧滑动连接。
71.具体地，卷帘53两侧与壳体1的相对两侧壁滑动连接来实现卷帘53的打开和关闭，导轨为卷帘53两侧提供导向，使卷帘53运动方向更稳定，同时，导轨与卷帘53的两侧滑动连接，在卷帘53与壳体1两侧壁接触位置增加了开闭结构5的密封性。
72.在一些实施例中，还包括驱动设备，驱动设备与开闭结构5连接，用于驱动开闭结构5打开或关闭。
73.具体地，由于晶圆片的清洗过程中机械手需要抓持运输，开闭结构5会频繁的打开关闭，设置驱动设备对开闭结构5进行驱动，保证运动稳定性的同时提供清洗装置的自动化，驱动设备可以为各类驱动电机、液压传动机构、气压传动机构等，只要能实现驱动开闭
结构5打开或关闭即可。
74.在一些实施例中，还包括至少一个抽风设备，抽风设备设置于壳体1上，连通操作空间4。
75.具体地，抽风设备可以为离心抽风机、轴流抽风机、回转抽风机、负压抽风机等设备，只要能实现对操作空间4内强碱蒸汽和强酸蒸汽的抽取即可。当开闭结构5为关闭状态时，让抽风设备工作，同时抽取第一空间21内的强碱蒸汽和第二空间31内的强酸蒸汽，降低开闭结构5关闭时两个空间内蒸汽的浓度，也降低了强酸蒸汽对第一空间21结构框架的腐蚀性，当开闭结构5为打开状态时，让抽风设备停住工作。
76.至此，已经详细描述了本公开的各实施例。为了避免遮蔽本公开的构思，没有描述本领域所公知的一些细节。本领域技术人员根据上面的描述，完全可以明白如何实施这里公开的技术方案。
77.虽然已经通过示例对本公开的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上示例仅是为了进行说明，而不是为了限制本公开的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本公开的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改或者对部分技术特征进行等同替换。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。

技术特征：
1.一种晶圆片清洗装置，其特征在于，包括：壳体(1)，所述壳体(1)罩设在碱液清洗槽(2)和酸液清洗槽(3)的上方，形成操作空间(4)；开闭结构(5)，所述开闭结构(5)设置于所述壳体(1)内，将所述操作空间(4)分隔为对应于所述碱液清洗槽(2)的第一空间(21)和对应于所述酸液清洗槽(3)的第二空间(31)，所述开闭结构(5)打开所述第一空间(21)与所述第二空间(31)连通，所述开闭结构(5)关闭所述第一空间(21)与所述第二空间(31)隔离；和至少一个调压设备(6)，所述调压设备(6)设置于所述壳体(1)上，并连通所述第一空间(21)。2.根据权利要求1所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述开闭结构(5)包括：固定挡板(51)和活动门板(52)；所述固定挡板(51)与所述壳体(1)的顶壁以及第一侧壁(11)连接，所述活动门板(52)的顶部与所述壳体(1)的顶壁滑动连接，所述活动门板(52)的第一侧与所述固定挡板(51)滑动连接；其中，所述活动门板(52)向远离所述固定挡板(51)一侧滑动，所述活动门板(52)的第一侧相对的第二侧，与所述壳体(1)的第一侧壁(11)相对的第二侧壁(12)贴合，所述开闭结构(5)关闭；所述活动门板(52)向靠近所述固定挡板(51)的一侧滑动，能够运动至所述活动门板(52)与所述固定挡板(51)重叠，所述开闭结构(5)打开。3.根据权利要求2所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述固定挡板(51)占据所述开闭结构(5)关闭状态的面积的25％-35％。4.根据权利要求2或3所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述活动门板(52)包括滑动连接的第一折叠板(521)和第二折叠板(522)，所述第一折叠板(521)和所述第二折叠板(522)能够相对展开和重叠；其中，所述开闭结构(5)打开，所述第一折叠板(521)与所述第二折叠板(522)均与所述固定挡板(51)重叠；所述开闭结构(5)关闭，所述第一折叠板(521)与所述第二折叠板(522)展开，所述第二折叠板(522)的第一侧与所述固定挡板(51)远离第一侧壁(11)的一侧贴合，所述第二折叠板(522)的第一侧相对的第二侧与所述第一折叠板(521)的第一侧贴合，所述第一折叠板(521)的第一侧相对的第二侧与所述第二侧壁(12)贴合。5.根据权利要求4所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述第一折叠板(521)和所述第二折叠板(522)其中之一设置有凸块(523)，其中另一设置有凹槽(524)，所述凹槽(524)沿所述第一折叠板(521)或所述第二折叠板(522)开闭方向延伸，所述凸块(523)至少一部分滑动嵌设于所述凹槽(524)内；其中，所述开闭结构(5)打开，所述凹槽(524)远离所述固定挡板(51)的一侧槽壁与所述凸块(523)接触，所述第一折叠板(521)和所述第二折叠板(522)向所述固定挡板(51)方向运动；所述开闭结构(5)关闭，所述凹槽(524)靠近所述固定挡板(51)的一侧槽壁与所述凸块(523)接触，所述第一折叠板(521)和所述第二折叠板(522)背离所述固定挡板(51)方向运动。
6.根据权利要求5所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述第二折叠板(522)顶部设置有截面为l型的第一导向板(525)，所述第一导向板(525)与所述固定挡板(51)滑动连接，所述第一导向板(525)能够包裹部分所述固定挡板(51)。7.根据权利要求6所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述第一折叠板(521)顶部设置有截面为l型的第二导向板(526)，所述第二导向板(526)与所述第二折叠板(522)滑动连接，所述第二导向板(526)能够包裹部分所述第二折叠板(522)。8.根据权利要求2所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述开闭结构(5)的底部设置滑槽(527)，所述滑槽(527)一端连接所述第一侧壁(11)，另一端连接所述第二侧壁(12)，所述滑槽(527)承载所述固定挡板(51)的底部，所述活动门板(52)的底部与所述滑槽(527)滑动连接。9.根据权利要求8所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述活动门板(52)的底部设置有滑轮(528)，所述滑轮(528)与所述滑槽(527)滑动配合。10.根据权利要求9所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述开闭结构(5)的顶部设置有导向槽(529)，所述导向槽(529)一端连接所述第一侧壁(11)，另一端连接所述第二侧壁(12)，所述导向槽(529)容置所述固定挡板(51)的顶部，所述活动门板(52)的顶部与所述导向槽(529)滑动连接。11.根据权利要求1所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述开闭结构(5)包括：卷帘(53)；所述卷帘(53)的顶部与所述壳体(1)的顶壁连接，所述卷帘(53)的两侧与所述壳体(1)的相对两侧壁滑动连接；其中，所述卷帘(53)卷起所述开闭结构(5)打开；所述卷帘(53)伸开所述开闭结构(5)关闭。12.根据权利要求11所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，所述壳体(1)的相对两侧壁设置有导轨，所述导轨与所述卷帘(53)的两侧滑动连接。13.根据权利要求1所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，还包括：驱动设备，所述驱动设备与所述开闭结构(5)连接，用于驱动所述开闭结构(5)打开或关闭。14.根据权利要求1所述的晶圆片清洗装置，其特征在于，还包括：至少一个抽风设备，所述抽风设备设置于所述壳体(1)上，连通所述操作空间(4)。

技术总结
本发明提供一种晶圆片清洗装置，涉及清洗技术领域。晶圆片清洗装置包括壳体、开闭部件和至少一个调压设备，壳体罩设在碱液清洗槽和酸液清洗槽的上方，形成操作空间；开闭结构设置于壳体内，将操作空间分隔为对应于碱液清洗槽的第一空间和对应于酸液清洗槽的第二空间，开闭结构打开第一空间与第二空间连通，开闭结构关闭第一空间与第二空间隔离；至少一个调压设备设置于壳体上，并连通第一空间。解决清洗箱中碱液清洗槽和酸液清洗槽产生的强碱蒸汽和强酸蒸汽窜动混合后交叉污染，强酸蒸汽腐蚀碱洗区结构和框架，缩短设备使用寿命的问题。缩短设备使用寿命的问题。缩短设备使用寿命的问题。


技术研发人员：周学文 崔海舰 安利营 牛策 田娥娥
受保护的技术使用者：北京盛达众安科技有限公司
技术研发日：2023.06.19
技术公布日：2023/9/9