电子照相感光体、处理盒及图像形成装置的制作方法

本发明涉及一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置。


背景技术：

专利文献1中公开有一种电子照相感光体，其中，在25℃且湿度50％的环境下，对电子照相感光体的表面层进行表面皮膜硬度试验，由此获得的通用硬度值(hu)为230n/mm2≤hu≤700n/mm2，且基于表面皮膜硬度试验中所使用的压头的表面层的塑性变形率满足特定的式。专利文献2中公开有一种图像形成单元，其具备如下感光体，即，最表层的马氏硬度值为175～196n/mm2，弹性变形率为35～48％，静摩擦系数为0.535以下。专利文献3中公开有一种电子照相感光体，其中，电子照相感光体的最上层至少含有热塑性树脂及体积平均粒径0.01～2.0μm的无机微粒，且在25℃且湿度50％的环境下，该最上层的根据表面皮膜硬度试验求出的通用硬度(hu)为220n/mm2≤hu≤400n/mm2，而且基于表面皮膜硬度试验中所使用的压头的该最上层的塑性变形率满足特定的式。专利文献1：日本特开2000-010320号公报专利文献2：日本特开2010-217598号公报专利文献3：日本特开2004-212562号公报


技术实现要素：

本发明的实施方式的课题在于提供一种与具备层叠型感光层或单层型感光层并且马氏硬度hm(n/mm2)及压痕硬度nit(n/mm2)满足(0)的关系式时的弹性变形率小于45％或超过70％或者拉伸弹性模量小于2,300mpa或超过5,000mpa的情况相比，能够维持低磨损性，并且抑制成膜的电子照相感光体。用于解决所述课题的具体手段中包含下述方式。＜1＞一种电子照相感光体，其具备导电性基体以及配置于所述导电性基体上的依次具有电荷产生层及电荷传输层的层叠型感光层，所述电荷传输层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂，当将对所述电荷传输层进行压入试验至0.5μm深度时的马氏硬度设为hm(n/mm2)，将压痕硬度设为nit(n/mm2)时，满足以下(0)的关系式，且弹性变形率为45％以上且70％以下，(0)nit＝a
×
hm-b(a＝2
±
0.2，b＝100
±
20)所述电荷传输层的拉伸弹性模量为2,300mpa以上且5,000mpa以下。＜2＞一种电子照相感光体，其具备导电性基体及配置于所述导电性基体上的单层型感光层，所述单层型感光层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂，当将对所述单层型感光层进行压入试验至0.5μm深度时的马氏硬度设为hm(n/
mm2)，将压痕硬度设为nit(n/mm2)时，满足以下(0)的关系式，且弹性变形率为45％以上且70％以下，(0)nit＝a
×
hm-b(a＝2
±
0.2，b＝100
±
20)所述单层型感光层的拉伸弹性模量为2,300mpa以上且5,000mpa以下。＜3＞根据＜1＞所述的电子照相感光体，其中，所述电荷传输层包含所述树脂及电荷传输材料，当将所述树脂的重均分子量mw设为a(万)，将所述电荷传输材料的质量m1与所述电荷传输层的质量m2之比m1/m2的值设为cs，将所述电荷传输层的平均厚度设为ds(μm)时，满足以下(1)至(4)。(1)5≤a≤40(2)0.28≤cs≤0.55(3)27≤ds≤50(4)2.5≤(a
×
ds)/(cs
×
100)≤70.0＜4＞根据＜2＞所述的电子照相感光体，其中，所述单层型感光层包含所述树脂及电荷传输材料，当将所述树脂的重均分子量mw设为a(万)，将所述电荷传输材料的质量m1与所述单层型感光层的质量m2之比m1/m2的值设为ct，将所述单层型感光层的平均厚度设为dt(μm)时，满足以下(1)至(4)。(1)5≤a≤40(2)0.40≤ct≤0.60(3)27≤dt≤50(4)2.5≤(a
×
dt)/(ct
×
100)≤48.0＜5＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述聚酯树脂为具有由下述式(a)表示的二羧酸单元(a)及由下述式(b)表示的二醇单元(b)的聚酯树脂。[化学式1]在式(a)中，x为有机基团。在式(b)中，ar
b1
及ar
b2
分别独立地为可以具有取代基的芳香环，lb为单键、氧原子、硫原子或-c(rb1)(rb2)-，n
b1
为0、1或2。rb1及rb2分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且20以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数7以上且20以下的芳烷基，rb1与rb2可以键合而形成环状烷基。＜6＞根据＜5＞所述的电子照相感光体，其中，所述二羧酸单元(a)为由下述式(a’)表示的二羧酸单元(a’)。[化学式2]
在式(a’)中，ar
a1
及ar
a2
分别独立地为可以具有取代基的芳香环，la为单键或二价连结基团，n
a1
为0、1或2。＜7＞根据＜5＞或＜6＞所述的电子照相感光体，其中，所述二羧酸单元(a)包含选自以由下述式(a1)表示的二羧酸单元(a1)、由下述式(a2)表示的二羧酸单元(a2)、由下述式(a3)表示的二羧酸单元(a3)及由下述式(a4)表示的二羧酸单元(a4)组成的组中的至少一种。[化学式3]在式(a1)中，n
101
为0以上且4以下的整数，n
101
个ra
101
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基。在式(a2)中，n
201
及n
202
分别独立地为0以上且4以下的整数，n
201
个ra
201
及n
202
个ra
202
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原
子数1以上且6以下的烷氧基。在式(a3)中，n
301
及n
302
分别独立地为0以上且4以下的整数，n
301
个ra
301
及n
302
个ra
302
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基。在式(a4)中，n
401
为0以上且6以下的整数，n
401
个ra
401
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基。＜8＞根据＜5＞至＜7＞中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述二醇单元(b)包含选自以由下述式(b1)表示的二醇单元(b1)、由下述式(b2)表示的二醇单元(b2)、由下述式(b3)表示的二醇单元(b3)、由下述式(b4)表示的二醇单元(b4)、由下述式(b5)表示的二醇单元(b5)、由下述式(b6)表示的二醇单元(b6)、由下述式(b7)表示的二醇单元(b7)及由下述式(b8)表示的二醇单元(b8)组成的组中的至少一种。[化学式4][化学式5]
在式(b1)中，rb
101
为碳原子数4以上且20以下的支链烷基，rb
201
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
401
、rb
501
、rb
801
及rb
901
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。在式(b2)中，rb
102
为碳原子数4以上且20以下的直链烷基，rb
202
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
402
、rb
502
、rb
802
及rb
902
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。在式(b3)中，rb
113
及rb
213
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且3以下的直链烷基、碳原子数1以上且4以下的烷氧基或卤原子，d为7以上且15以下的整数，rb
403
、rb
503
、rb
803
及rb
903
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。在式(b4)中，rb
104
及rb
204
分别独立地为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
404
、rb
504
、rb
804
及rb
904
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。在式(b5)中，ar
105
为碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数7以上且20以下的芳烷基，rb
205
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
405
、rb
505
、rb
805
及rb
905
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。
在式(b6)中，rb
116
及rb
216
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且3以下的直链烷基、碳原子数1以上且4以下的烷氧基或卤原子，e为4以上且6以下的整数，rb
406
、rb
506
、rb
806
及rb
906
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。在式(b7)中，rb
407
、rb
507
、rb
807
及rb
907
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。在式(b8)中，rb
408
、rb
508
、rb
808
及rb
908
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。＜9＞根据＜3＞所述的电子照相感光体，其满足3.6≤(a
×
ds)/(cs
×
100)≤46.0。＜10＞根据＜4＞所述的电子照相感光体，其满足3.5≤(a
×
dt)/(ct
×
100)≤40.0。＜11＞根据＜3＞或＜9＞所述的电子照相感光体，其满足30≤ds≤48。＜12＞根据＜4＞或＜10＞所述的电子照相感光体，其满足30≤dt≤48。＜13＞根据＜3＞至＜12＞中任一项所述的电子照相感光体，其满足6≤a≤30。＜14＞一种处理盒，其具备＜1＞至＜13＞中任一项所述的电子照相感光体，所述处理盒装卸于图像形成装置。＜15＞一种图像形成装置，其具备：＜1＞至＜13＞中任一项所述的电子照相感光体；带电机构，使所述电子照相感光体的表面带电；静电潜像形成机构，在带电的所述电子照相感光体表面形成静电潜像；显影机构，通过包含色调剂的显影剂对形成于所述电子照相感光体表面的静电潜像进行显影来形成色调剂像；及转印机构，将所述色调剂像转印到记录媒体的表面。发明效果根据＜1＞、＜2＞、＜5＞、＜6＞、＜7＞、＜8＞、＜9＞、＜11＞或＜13＞所涉及的发明，提供一种具备层叠型感光层的电子照相感光体，所述电子照相感光体与马氏硬度hm(n/mm2)及压痕硬度nit(n/mm2)满足(0)的关系式时的弹性变形率小于45％或超过70％或者拉伸弹性模量小于2,300mpa或超过5,000mpa的电子照相感光体相比，能够维持低磨损性，并且抑制成膜。根据＜3＞、＜4＞、＜5＞、＜6＞、＜7＞、＜8＞、＜10＞、＜12＞或＜13＞所涉及的发明，提供一种具备单层型感光层的电子照相感光体，所述电子照相感光体与马氏硬度hm(n/mm2)及压痕硬度nit(n/mm2)满足(0)的关系式时的弹性变形率小于45％或超过70％或者拉伸弹性模量小于2,300mpa或超过5,000mpa的电子照相感光体相比，能够维持低磨损性，并且抑制成膜。根据＜14＞所涉及的发明，提供一种具备电子照相感光体的处理盒，所述电子照相感光体具备层叠型感光层或单层型感光层，所述电子照相感光体与马氏硬度hm(n/mm2)及压痕硬度nit(n/mm2)满足(0)的关系式时的弹性变形率小于45％或超过70％或者拉伸弹性模量小于2,300mpa或超过5,000mpa的情况相比，能够维持低磨损性，并且抑制成膜。
根据＜15＞所涉及的发明，提供一种具备电子照相感光体的图像形成装置，所述电子照相感光体具备层叠型感光层或单层型感光层，所述电子照相感光体与马氏硬度hm(n/mm2)及压痕硬度nit(n/mm2)满足(0)的关系式时的弹性变形率小于45％或超过70％或者拉伸弹性模量小于2,300mpa或超过5,000mpa的情况相比，能够维持低磨损性，并且抑制成膜。
附图说明
根据以下附图，对本发明的实施方式进行详细叙述。图1是表示第1实施方式所涉及的电子照相感光体的层结构的一例的局部剖视图；图2是表示第2实施方式所涉及的电子照相感光体的层结构的一例的局部剖视图；图3是表示本实施方式所涉及的图像形成装置的一例的概略结构图；图4是表示本实施方式所涉及的图像形成装置的另一例的概略结构图。符号说明1-导电性基体，2-下涂层，3-电荷产生层，4-电荷传输层，5-感光层，10a-感光体，10b-感光体，7-电子照相感光体，8-带电装置，9-曝光装置，11-显影装置，13-清洁装置，14-润滑剂，40-转印装置，50-中间转印体，100-图像形成装置，120-图像形成装置，131-清洁刮板，132-纤维状部件(辊状)，133-纤维状部件(平刷状)，300-处理盒。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。这些说明及实施例是例示实施方式的，并不限制实施方式的范围。在本发明中，使用“～”来示出的数值范围表示将记载于“～”前后的数值分别作为最小值及最大值来包含的范围。在本发明中阶段性地记载的数值范围内，以一个数值范围来记载的上限值或下限值也可以替换为其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，在本发明中所记载的数值范围内，其数值范围的上限值或下限值也可以替换为实施例中示出的值。在本发明中，“工序”这一单词不仅在独立的工序中，而且在无法与其他工序明确区别的情况下也可以实现该工序的目的，则包含于本用语中。在本发明中，当参考附图对实施方式进行说明时，该实施方式的结构并不限定于附图所示的结构。并且，各图中的部件的大小是概念性的，部件之间的大小的相对关系并不限定于此。在本发明中，各成分也可以包含多种相应的物质。在本发明中，在提及组合物中的各成分的量的情况下，当在组合物中存在多种与各成分相应的物质时，若无特别说明，则表示组合物中所存在的该多种物质的合计量。在本发明中，可以包含多种与各成分对应的粒子。当在组合物中存在多种与各成分对应的粒子时，若无特别说明，则各成分的粒径表示关于组合物中所存在的该多种粒子的混合物的值。在本发明中，“(甲基)丙烯酸”这一标记表示可以是“丙烯酸”及“甲基丙烯酸”中的任一个。
在本发明中，若无特别说明，则烷基均包含直链状、支链状及环状。＜电子照相感光体＞本发明作为电子照相感光体(以下，也称为“感光体”。)，提供第1实施方式及第2实施方式。第1实施方式所涉及的感光体具备导电性基体以及配置于导电性基体上的依次具有电荷产生层及电荷传输层的层叠型感光层。第1实施方式所涉及的感光体还可以具备其他层(例如，下涂层、中间层)。第2实施方式所涉及的感光体具备导电性基体及配置于导电性基体上的单层型感光层。第2实施方式所涉及的感光体还可以具备其他层(例如，下涂层、中间层)。图1是概略地表示第1实施方式所涉及的感光体的层结构的一例的局部剖视图。图1所示的感光体10a具有层叠型感光层。感光体10a具有在导电性基体1上依次层叠有下涂层2、电荷产生层3及电荷传输层4的结构，电荷产生层3及电荷传输层4构成感光层5(所谓的功能分离型感光层)。感光体10a可以省略下涂层2，也可以在下涂层2与电荷产生层3之间还具有中间层(未图示)。图2是概略地表示第2实施方式所涉及的感光体的层结构的一例的局部剖视图。图2所示的感光体10b具有单层型感光层。感光体10b具有在导电性基体1上依次层叠有下涂层2及感光层5的结构。感光体10b可以省略下涂层2，也可以在下涂层2与感光层5之间还具有中间层(未图示)。在第1实施方式所涉及的感光体中，电荷传输层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂，当将对电荷传输层进行压入试验至0.5μm深度时的马氏硬度设为hm(n/mm2)，将压痕硬度设为nit(n/mm2)时，满足以下(0)的关系式，且弹性变形率为45％以上且70％以下，(0)nit＝a
×
hm-b(a＝2
±
0.2，b＝100
±
20)拉伸弹性模量为2,300mpa以上且5,000mpa以下。在第2实施方式所涉及的感光体中，单层型感光层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂，当将对单层型感光层进行压入试验至0.5μm深度时的马氏硬度设为hm(n/mm2)，将压痕硬度设为nit(n/mm2)时，满足以下(0)的关系式，且弹性变形率为45％以上且70％以下，(0)nit＝a
×
hm-b(a＝2
±
0.2，b＝100
±
20)拉伸弹性模量为2,300mpa以上且5,000mpa以下。第1实施方式所涉及的感光体及第2实施方式所涉及的感光体能够维持低磨损性，并且抑制成膜。在此，“成膜”是指，因色调剂在感光体的表面局部性地堆积而产生的条纹状的皮膜。以下，当对在第1实施方式及第2实施方式中共同的事项进行说明时，将两个方式统称为本实施方式。并且，以下，当简记为“感光层”时，设为统称第1实施方式中的层叠型感光层及第2实施方式中的单层型感光层。[(0)的关系式及弹性变形率]
本实施方式所涉及的感光体中，当将对电荷传输层或单层型感光层进行压入试验至0.5μm深度时的马氏硬度设为hm(n/mm2)，将压痕硬度设为nit(n/mm2)时，满足以下(0)的关系式时的弹性变形率为45％以上且70％以下。(0)nit＝a
×
hm-b(a＝2
±
0.2，b＝100
±
20)即，在进行上述压入试验时求出的马氏硬度hm及压痕硬度nit满足上述(0)的关系式，且此时的弹性变形率为45％以上且70％以下，由此与不满足这些时的感光体相比能够抑制成膜。如下推测其原因。感光体中的成膜例如是由色调剂的外添剂(例如，二氧化硅粒子)向感光体表面的包埋引起的。具体而言，若一个或多个外添剂包埋于感光体的表面，则形成沿着感光体的周向延续的稍微凹陷的槽。外添剂在所形成的槽的凹陷中容易堆积，并且沿着感光体的周向在多处形成外添剂堆。尤其，二氧化硅粒子等外添剂为硬的成分，因此外添剂堆的硬度高，形成有外添剂堆的区域的凹陷会变大，形成凹坑状的外添剂堆。若形成凹坑状的外添剂堆，则无法追随局部性的凹凸的色调剂开始以层状堆积，从而产生成膜。对这种成膜产生的原因的色调剂的外添剂包埋的感光体的表面进行了确认，其结果，可知在感光体的表面出现了塑性变形及局部表面形状的劣化。因此，对该外添剂的包埋进行研究，发现使用了对电荷传输层或单层型感光层进行压入试验至0.5μm深度时求出的物理特性值即马氏硬度hm及压痕硬度nit的上述(0)的关系式，进而发现将满足(0)的关系式时的弹性变形率设为45％以上且70％以下。即，推测为，通过满足上述(0)的关系式，且满足上述(0)的关系式时的弹性变形率为45％以上且70％以下，由外添剂引起的感光体表面的塑性变形及局部表面形状的劣化得到抑制，并且外添剂的包埋得到抑制，其结果，能够抑制成膜。另外，作为马氏硬度hm，从兼顾耐磨性及成膜抑制的观点出发，例如优选为100n/mm2以上且300n/mm2以下，更优选为120n/mm2以上且240n/mm2以下。作为压痕硬度nit，满足上述(0)的关系式即可，但例如优选为150n/mm2以上且600n/mm2以下，更优选为200n/mm2以上且400n/mm2以下。[拉伸弹性模量]本实施方式所涉及的感光体与电荷传输层或单层型感光层中的拉伸弹性模量小于2,300mpa的感光体相比低磨损性，与电荷传输层或单层型感光层中的拉伸弹性模量超过5,000mpa的感光体相比，能够抑制成膜。即，本实施方式所涉及的感光体通过电荷传输层或单层型感光层的拉伸弹性模量为2,300mpa以上且5,000mpa以下，能够维持低磨损性，并且抑制成膜。[优选实施方式]第1实施方式所涉及的感光体中的电荷传输层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂以及电荷传输材料，当将树脂的重均分子量mw设为a(万)，将电荷传输材料的质量m1与所述电荷传输层的质量m2之比m1/m2的值设为cs，将电荷传输层的平均厚度设为ds(μm)时，例如，优选满足以下(1)至(4)。(1)5≤a≤40(2)0.28≤cs≤0.55(3)27≤ds≤50
(4)2.5≤(a
×
ds)/(cs
×
100)≤70.0第2实施方式所涉及的感光体中的单层型感光层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂以及电荷传输材料，当将树脂的重均分子量mw设为a(万)，将电荷传输材料的质量m1与所述单层型感光层的质量m2之比m1/m2的值设为ct，将单层型感光层的平均厚度设为dt(μm)时，例如优选满足以下(1)至(4)。(1)5≤a≤40(2)0.40≤ct≤0.60(3)27≤dt≤50(4)2.5≤(a
×
dt)/(ct
×
100)≤48.0当将选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂的重均分子量mw设为a(万)，将电荷传输材料的质量m1与电荷传输层的质量m2之比m1/m2的值设为cs，将电荷传输层的平均厚度设为ds(μm)时，第1实施方式所涉及的感光体中的电荷传输层例如优选满足(4)2.5≤(a
×
ds)/(cs
×
100)≤70.0。当将选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂的重均分子量mw设为a(万)，将电荷传输材料的质量m1与单层型感光层的质量m2之比m1/m2的值设为ct，将单层型感光层的平均厚度设为dt(μm)时，第2实施方式所涉及的感光体中的单层型感光层例如优选满足(4)2.5≤(a
×
dt)/(ct
×
100)≤48.0。这些作为优选理由而可推测下述内容。并且，以下，适当将选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂也称为“特定树脂”。若(a
×
ds)/(cs
×
100)或(a
×
dt)/(ct
×
100)的值小于2.5，则特定树脂的重均分子量mw或电荷传输层的平均厚度ds或者单层型感光层的平均厚度dt的值过小，或电荷传输材料的含有比率cs或ct的值过大(即，特定树脂的含有比率过小)，从而感光层的耐磨性不足。从该观点出发，(a
×
ds)/(cs
×
100)及(a
×
dt)/(ct
×
100)的值为2.5以上，例如优选为3.6以上，更优选为7.2以上，进一步优选为7.7以上。若(a
×
ds)/(cs
×
100)的值超过70.0或(a
×
dt)/(ct
×
100)的值超过48.0，则有时特定树脂的重均分子量mw或电荷传输层的平均厚度ds或者单层型感光层的平均厚度dt的值过大，或电荷传输材料的含有比率cs或ct的值过小(即，特定树脂的含有比率过大)，从而会产生成膜。从该观点出发，(a
×
ds)/(cs
×
100)的值为70.0以下，例如优选为46.0以下，更优选为33.0以下，进一步优选为25.0以下。从该观点出发，(a
×
dt)/(ct
×
100)的值为48.0以下，例如优选为40.0以下，更优选为27.0以下，进一步优选为20.0以下。[关于(1)]在本实施方式所涉及的感光体中，当将重均分子量mw设为a(万)时，电荷传输层中所包含的特定树脂及单层型感光层中所包含的特定树脂满足(1)5≤a≤40。即，选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂的重均分子量mw为5万以上且40万以下。若a的值小于5，则电荷传输层或单层型感光层的强度降低，耐磨性降低。从该观点出发，a的值为5以上，例如优选为6以上，更优选为7以上，进一步优选为8以上。若a的值超过40，则用于形成电荷传输层或单层型感光层的涂布液的粘度变高，从而稳定的涂布变得困难。并且，电荷传输层或单层型感光层对其他层的密合性降低，产生成膜，或电荷传输层或单层型感光层变得容易剥离。从该观点出发，a的值为40以下，例如优选
为30以下，更优选为25以下，进一步优选为20以下。[关于(2)]当将电荷传输材料的质量m1与电荷传输层的质量m2之比m1/m2的值设为cs时，第1本实施方式所涉及的感光体中的电荷传输层满足(2)0.28≤cs≤0.55。并且，当将电荷传输材料的质量m1与单层型感光层的质量m2之比m1/m2的值设为ct时，第2实施方式所涉及的感光体中的单层型感光层满足(2)0.40≤ct≤0.60。若cs的值小于0.28或ct的值小于0.40，则电荷传输层或单层型感光层中所包含的电荷传输材料的含有比率小，因此电特性差。从该观点出发，cs的值为0.28以上，例如优选为0.31以上，更优选为0.33以上，进一步优选为0.34以上。从该观点出发，ct的值为0.40以上，例如优选为0.43以上，更优选为0.44以上，进一步优选为0.45以上。若cs的值超过0.55或ct的值超过0.60，则电荷传输层或单层型感光层中所包含的电荷传输材料的含有比率过大(即，特定树脂的含有比率过小)，由此电荷传输层或单层型感光层的强度降低，耐磨性差。从该观点出发，cs的值为0.55以下，例如优选为0.50以下，更优选为0.48以下，进一步优选为0.46以下。从该观点出发，ct的值为0.60以下，例如优选为0.58以下，更优选为0.56以下，进一步优选为0.55以下。[关于(3)]在第1实施方式所涉及的感光体中，当将电荷传输层的平均厚度设为ds(μm)时，满足(3)27≤ds≤50。即，电荷传输层的平均厚度ds为27μm以上且50μm以下。并且，在第2实施方式所涉及的感光体中，将单层型感光层的平均厚度设为dt(μm)时，满足(3)27≤dt≤50。即，单层型感光层的平均厚度dt为27μm以上且50μm以下。若平均厚度ds及平均厚度dt为27μm以上，则能够确保感光体的磨损余量，从而能够延长感光体的寿命。从该观点出发，平均厚度ds及平均厚度dt为27μm以上，例如优选为31μm以上，更优选为35μm以上，进一步优选为37μm以上。若平均厚度ds及平均厚度dt为50μm以下，则能够在初始及磨损后这两个阶段维持电特性。从该观点出发，平均厚度ds及平均厚度dt为50μm以下，例如优选为48μm以下，更优选为46μm以下，进一步优选为45μm以下。[各种测定]第1实施方式中的电荷传输层的马氏硬度hm及压痕硬度nit的测定方法如下。首先，在温度23℃、30％rh的环境下，将具有成为测定对象的电荷传输层的感光体设置于fischer instruments k.k.制的测定装置(picodentor hm500)。然后，对电荷传输层的表面使用berkovich压头以压入速度25μm/s进行压入至深度0.5μm的试验，求出马氏硬度及压痕硬度。另外，通过该试验，获得基于压入深度(μm)及压入力(试验载荷)(mn)的压入曲线(载荷曲线)。马氏硬度为根据其压入深度由以下式定义的值。马氏硬度(n/mm2)＝试验载荷(n)/试验载荷下的压头的表面积(mm2)压痕硬度为根据由去除基于压入的载荷之后的电荷传输层的变形量(深度)-载荷曲线的切线导出的接触深度定义的值。测定位置为感光体的周向上的顶点，测定部位为在将周向等分为四个部分时的一个轴上中央及两端部这3处，并且将该12个部位的测定值的平均值设为各自的物理特性值。
在第2实施方式中，将上述“电荷传输层”替换为“单层型感光层”后以同样的方式进行测定。第1实施方式中的电荷传输层的弹性变形率由以下式求出。弹性变形率(％)＝(1-应变深度/最大压入深度)
×
100在此，应变深度表示因负荷而未恢复的变形量，并且用作表示塑性变形的指标。表示弹性变形率越大，相对于负荷的变形越难以残留，弹性变形率100％表示变形完全不会残留。弹性变形率通过与马氏硬度hm及压痕硬度nit相同的装置、相同的条件下的试验来测定。通过该测定，应变深度作为因负荷而未恢复的变形量，求出测定结束时点的电荷传输层的变形量(深度)，最大压入深度设为berkovich压头的压入深度即0.5μm。在第2实施方式中，将上述“电荷传输层”替换为“单层型感光层”后以同样的方式进行测定。第1实施方式中的电荷传输层的拉伸弹性模量的测定方法如下。从成为测定对象的感光体切出电荷传输层，获得哑铃3号的冲压试验片(宽度5mm)。使用哑铃3号的冲压试验片，遵照jis k 7127：1999年，将仅在周向上测定5次的平均值设为拉伸弹性模量。另外，测定装置设为aikoh engineering co.,ltd.制model-1605n，拉伸速度设为20mm/min。在第2实施方式中，将上述“电荷传输层”替换为“单层型感光层”后以同样的方式进行测定。在第1实施方式中，电荷传输层中所包含的特定树脂的重均分子量mw及数均分子量mn的测定方法如下。将感光体浸渍于各种溶剂(也可以是混合溶剂。)，掌握电荷传输层溶解的溶剂。在电荷传输层溶解的溶剂中浸渍感光体，提取电荷传输层。将提取了电荷传输层的溶液滴加到聚酯树脂或聚碳酸酯树脂的不良溶剂(例如，己烷、甲苯等非极性溶剂；甲醇、异丙醇等低级醇。不良溶剂可以是混合溶剂。)中而使树脂再次沉淀。根据需要，重复两次再沉淀处理，对再沉淀物即树脂进行真空干燥，获得聚酯树脂。对聚酯树脂进行基于后述的gpc(凝胶渗透色谱法)的分子量测定，并确定mw及mn。在第2实施方式中，将上述“电荷传输层”替换为“单层型感光层”后以同样的方式进行测定。在第1实施方式中，电荷传输层中所包含的电荷传输材料的质量m1及电荷传输层的质量m2的测定方法如下。浓缩提取了前述的电荷传输层的溶液，进行真空干燥之后，称量获得电荷传输层的质量m2。浓缩前述的再沉淀处理之后的剩余溶液，通过分取用薄层色谱来分离各材料，并对产量进行定量。从通过nmr(核磁共振)测定分离的各材料确定电荷传输材料，合计电荷传输材料的产量而获得m1。在第2实施方式中，将上述“电荷传输层”替换为“单层型感光层”后以同样的方式进行测定。在第1实施方式中，电荷传输层的平均厚度ds为通过涡电流膜厚仪在感光体的轴
向上均等地10处及在周向上等分(90
°
间隔)为四个部分的合计40处测定层厚并进行算术平均的值。在第2实施方式中，单层型感光层的平均厚度dt将上述的“电荷传输层”替换为“单层型感光层”后以相同的方式求出。[树脂]以下，对本实施方式所涉及的感光体中所使用的树脂进行详细说明。本实施方式所涉及的感光体在电荷传输层或单层型感光层中包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂。在电荷传输层或单层型感光层中例如优选包含聚酯树脂或聚碳酸酯树脂，更优选为包含聚酯树脂。(聚酯树脂)聚酯树脂至少具有二羧酸单元(a)及二醇单元(b)。聚酯树脂可以包含除了二羧酸单元(a)以外的其他二羧酸单元。聚酯树脂可以包含除了二醇单元(b)以外的其他二醇单元。二羧酸单元(a)为由下述式(a)表示的结构单元。[化学式6]在式(a)中，x为有机基团。作为x所涉及的有机基团，可举出烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、醚基、硫醚基及组合了它们的基团等。作为二羧酸单元(a)的实施方式例，可举出由下述式(a’)表示的二羧酸单元(a’)。[化学式7]在式(a’)中，ar
a1
及ar
a2
分别独立地为可以具有取代基的芳香环，la为单键或二价连结基团，n
a1
为0、1或2。ar
a1
的芳香环可以是单环及多环中的任一个。作为芳香环，例如可举出苯环、萘环、蒽环、菲环，优选为苯环及萘环。ar
a1
的芳香环上的氢原子可以被烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、卤原子等取代。作为ar
a1
的芳香环被取代时的取代基，例如优选为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基及碳原子数1以上且6以下的烷氧基。ar
a2
的芳香环可以是单环及多环中的任一个。作为芳香环，例如可举出苯环、萘环、蒽环、菲环，优选为苯环及萘环。ar
a2
的芳香环上的氢原子可以被烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、卤原子等取代。作为ar
a2
的芳香环被取代时的取代基，例如优选为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原
子数6以上且12以下的芳基及碳原子数1以上且6以下的烷氧基。当la为二价连结基团时，作为二价连结基团，例如可举出氧原子、硫原子、-c(ra1)(ra2)-。在此，ra1及ra2分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数7以上且20以下的芳烷基，ra1与ra2可以键合而形成环状烷基。ra1及ra2所涉及的碳原子数1以上且10以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1以上且6以下，更优选为1以上且4以下，进一步优选为1或2。ra1及ra2所涉及的碳原子数6以上且12以下的芳基可以是单环及多环中的任一个。芳基的碳原子数例如优选为6以上且10以下，更优选为6。ra1及ra2所涉及的碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。ra1及ra2所涉及的碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的芳基可以是单环及多环中的任一个。芳基的碳原子数例如优选为6以上且10以下，更优选为6。二羧酸单元(a)例如优选包含选自以由下述式(a1)表示的二羧酸单元(a1)、由下述式(a2)表示的二羧酸单元(a2)、由下述式(a3)表示的二羧酸单元(a3)及由下述式(a4)表示的二羧酸单元(a4)组成的组中的至少一种。[化学式8]在式(a1)中，n
101
为0以上且4以下的整数，n
101
个ra
101
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基。n
101
例如优选为0、1或2，更优选为0或1，进一步优选为0。[化学式9]在式(a2)中，n
201
及n
202
分别独立地为0以上且4以下的整数，n
201
个ra
201
及n
202
个ra
202
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基。n
201
例如优选为0、1或2，更优选为0或1，进一步优选为0。n
202
例如优选为0、1或2，更优选为0或1，进一步优选为0。
[化学式10]在式(a3)中，n
301
及n
302
分别独立地为0以上且4以下的整数，n
301
个ra
301
及n
302
个ra
302
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基。n
301
例如优选为0、1或2，更优选为0或1，进一步优选为0。n
302
例如优选为0、1或2，更优选为0或1，进一步优选为0。[化学式11]在式(a4)中，n
401
为0以上且6以下的整数，n
401
个ra
401
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基。n
401
例如优选为0以上且4以下的整数，更优选为0、1或2，进一步优选为0。式(a1)的ra
101
、式(a2)的ra
201
及ra
202
、式(a3)的ra
301
及ra
302
以及式(a4)的ra
401
的具体方式及优选方式相同，因此以下，将ra
101
、ra
201
、ra
202
、ra
301
、ra
302
及ra
401
统称为“ra”来进行说明。ra所涉及的碳原子数1以上且10以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1以上且6以下，更优选为1以上且4以下，进一步优选为1或2。作为碳原子数1以上且10以下的直链烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基。作为碳原子数3以上且10以下的支链烷基，可举出异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基、异庚基、仲庚基、叔庚基、异辛基、仲辛基、叔辛基、异壬基、仲壬基、叔壬基、异癸基、仲癸基、叔癸基等。作为碳原子数3以上且10以下的环状烷基，可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基及这些单环的烷基连结而成的多环(例如，双环、三环、螺环)烷基。ra所涉及的碳原子数6以上且12以下的芳基可以是单环及多环中的任一个。芳基的碳原子数例如优选为6以上且10以下，更优选为6。作为碳原子数6以上且12以下的芳基，可举出苯基、联苯基、1-萘基、2-萘基等。ra所涉及的碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基可以是直链状、支链状及环
状中的任一个。碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。作为碳原子数1以上且6以下的直链烷氧基，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基。作为碳原子数3以上且6以下的支链烷氧基，可举出异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基等。作为碳原子数3以上且6以下的环状烷氧基，可举出环丙氧基、环丁氧基、环戊氧基、环己氧基等。以下，作为二羧酸单元(a1)的具体例示出二羧酸单元(a1-1)～(a1-9)。二羧酸单元(a1)并不限定于此。[化学式12]
以下，作为二羧酸单元(a2)的具体例示出二羧酸单元(a2-1)～(a2-3)。二羧酸单元(a2)并不限定于此。[化学式13]以下，作为二羧酸单元(a3)的具体例示出二羧酸单元(a3-1)～(a3-2)。二羧酸单元(a3)并不限定于此。[化学式14]以下，作为二羧酸单元(a4)的具体例示出二羧酸单元(a4-1)～(a4-3)。二羧酸单元(a4)并不限定于此。[化学式15]作为二羧酸单元(a)，例如优选为上述具体例的(a1-1)、(a1-7)、(a2-3)、(a3-2)及(a4-3)，最优选为(a2-3)。
二羧酸单元(a1)～(a4)的合计在聚酯树脂中所占的质量比例例如优选为15质量％以上且60质量％以下。若二羧酸单元(a1)～(a4)的合计质量比例为15质量％以上，则感光层的耐磨性良好。从该观点出发，二羧酸单元(a1)～(a4)的合计质量比例例如更优选为20质量％以上，进一步优选为25质量％以上。若二羧酸单元(a1)～(a4)的合计质量比例为60质量％以下，则能够抑制感光层的剥离。从该观点出发，二羧酸单元(a1)～(a4)的合计质量比例例如更优选为55质量％以下，进一步优选为50质量％以下。聚酯树脂中所包含的二羧酸单元(a1)～(a4)可以是一种，也可以是两种以上。作为除二羧酸单元(a1)～(a4)以外的其他二羧酸单元(a)，例如可举出脂肪族二羧酸(例如，草酸、丙二酸、马来酸、富马酸、柠康酸、衣康酸、戊烯二酸、琥珀酸、烯基琥珀酸、己二酸、癸二酸)单元、脂环式二羧酸(例如，环己烷二羧酸)单元及它们的低级(例如碳原子数1以上且5以下)烷基酯单元。聚酯树脂中所包含的这些二羧酸单元可以是一种，也可以是两种以上。聚酯树脂中所包含的二羧酸单元(a)可以是一种，也可以是两种以上。二醇单元(b)为由下述式(b)表示的结构单元。[化学式16]在式(b)中，ar
b1
及ar
b2
分别独立地为可以具有取代基的芳香环，lb为单键、氧原子、硫原子或-c(rb1)(rb2)-，n
b1
为0、1或2。rb1及rb2分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且20以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数7以上且20以下的芳烷基，rb1与rb2可以键合而形成环状烷基。ar
b1
的芳香环可以是单环及多环中的任一个。作为芳香环，例如可举出苯环、萘环、蒽环、菲环，优选为苯环及萘环。ar
b1
的芳香环上的氢原子可以被烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、卤原子等取代。作为ar
b1
的芳香环被取代时的取代基，例如优选为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基及碳原子数1以上且6以下的烷氧基。ar
b2
的芳香环可以是单环及多环中的任一个。作为芳香环，例如可举出苯环、萘环、蒽环、菲环，优选为苯环及萘环。ar
b2
的芳香环上的氢原子可以被烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、卤原子等取代。作为ar
b2
的芳香环被取代时的取代基，例如优选为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基及碳原子数1以上且6以下的烷氧基。rb1及rb2所涉及的碳原子数1以上且20以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1以上且18以下，更优选为1以上且14以下，进一步优选为1以上且10以下。rb1及rb2所涉及的碳原子数6以上且12以下的芳基可以是单环及多环中的任一个。芳基的碳原子数例如优选为6以上且10以下，更优选为6。
rb1及rb2所涉及的碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。rb1及rb2所涉及的碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的芳基可以是单环及多环中的任一个。芳基的碳原子数例如优选为6以上且10以下，更优选为6。二醇单元(b)例如优选包含选自以由下述式(b1)表示的二醇单元(b1)、由下述式(b2)表示的二醇单元(b2)、由下述式(b3)表示的二醇单元(b3)、由下述式(b4)表示的二醇单元(b4)、由下述式(b5)表示的二醇单元(b5)、由下述式(b6)表示的二醇单元(b6)、由下述式(b7)表示的二醇单元(b7)及由下述式(b8)表示的二醇单元(b8)组成的组中的至少一种。[化学式17]在式(b1)中，rb
101
为碳原子数4以上且20以下的支链烷基，rb
201
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
401
、rb
501
、rb
801
及rb
901
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。rb
101
所涉及的碳原子数4以上且20以下的支链烷基的碳原子数例如优选为4以上且16以下，更优选为4以上且12以下，进一步优选为4以上且8以下。作为rb
101
的具体例，可举出异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基、异庚基、仲庚基、叔庚基、异辛基、仲辛基、叔辛基、异壬基、仲壬基、叔壬基、异癸基、仲癸基、叔癸基、异十二烷基、仲十二烷基、叔十二烷基、叔十四烷基、叔十五烷基等。[化学式18]在式(b2)中，rb
102
为碳原子数4以上且20以下的直链烷基，rb
202
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
402
、rb
502
、rb
802
及rb
902
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。rb
102
所涉及的碳原子数4以上且20以下的直链烷基的碳原子数例如优选为4以上且16以下，更优选为4以上且12以下，进一步优选为4以上且8以下。作为rb
102
的具体例，可举出正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、正二十烷基等。[化学式19]
在式(b3)中，rb
113
及rb
213
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且3以下的直链烷基、碳原子数1以上且4以下的烷氧基或卤原子，d为7以上且15以下的整数，rb
403
、rb
503
、rb
803
及rb
903
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。rb
113
及rb
213
所涉及的碳原子数1以上且3以下的直链烷基的碳原子数例如优选为1或2，更优选为1。作为该基团的具体例，可举出甲基、乙基、正丙基。rb
113
及rb
213
所涉及的碳原子数1以上且4以下的烷氧基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数1以上且4以下的烷氧基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且3以下，更优选为1或2，进一步优选为1。作为该基团的具体例，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、环丙氧基、环丁氧基等。作为rb
113
及rb
213
所涉及的卤原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。[化学式20]在式(b4)中，rb
104
及rb
204
分别独立地为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
404
、rb
504
、rb
804
及rb
904
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。rb
104
所涉及的碳原子数1以上且3以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1或2，更优选为1。作为rb
104
的具体例，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、环丙基。[化学式21]在式(b5)中，ar
105
为碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数7以上且20以下的芳烷基，rb
205
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
405
、rb
505
、rb
805
及rb
905
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。ar
105
所涉及的碳原子数6以上且12以下的芳基可以是单环及多环中的任一个。芳基的碳原子数例如优选为6以上且10以下，更优选为6。
ar
105
所涉及的碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。ar
105
所涉及的碳原子数7以上且20以下的芳烷基中的芳基可以是单环及多环中的任一个。芳基的碳原子数例如优选为6以上且10以下，更优选为6。作为碳原子数7以上且20以下的芳烷基，可举出苄基、苯基乙基、苯基丙基、4-苯基丁基、苯基戊基、苯基己基、苯基庚基、苯基辛基、苯基壬基、萘基甲基、萘基乙基、蒽基甲基、苯基-环戊基甲基等。[化学式22]在式(b6)中，rb
116
及rb
216
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且3以下的直链烷基、碳原子数1以上且4以下的烷氧基或卤原子，e为4以上且6以下的整数，rb
406
、rb
506
、rb
806
及rb
906
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。rb
116
及rb
216
所涉及的碳原子数1以上且3以下的直链烷基的碳原子数例如优选为1或2，更优选为1。作为该基团的具体例，可举出甲基、乙基、正丙基。rb
116
及rb
216
所涉及的碳原子数1以上且4以下的烷氧基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数1以上且4以下的烷氧基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且3以下，更优选为1或2，进一步优选为1。作为该基团的具体例，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、环丙氧基、环丁氧基等。作为rb
116
及rb
216
所涉及的卤原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。[化学式23]在式(b7)中，rb
407
、rb
507
、rb
807
及rb
907
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。[化学式24]在式(b8)中，rb
408
、rb
508
、rb
808
及rb
908
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以
下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。式(b1)的rb
201
、式(b2)的rb
202
、式(b4)的rb
204
及式(b5)的rb
205
的具体方式及优选方式相同，因此以下，将rb
201
、rb
202
、rb
204
及rb
205
统称为“rb
200”来进行说明。rb
200
所涉及的碳原子数1以上且3以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1或2，更优选为1。作为碳原子数1以上且3以下的烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、环丙基。式(b1)的rb
401
、式(b2)的rb
402
、式(b3)的rb
403
、式(b4)的rb
404
、式(b5)的rb
405
、式(b6)的rb
406
、式(b7)的rb
407
及式(b8)的rb
408
的具体方式及优选方式相同，因此以下，将rb
401
、rb
402
、rb
403
、rb
404
、rb
405
、rb
406
、rb
407
及rb
408
统称为“rb
400”来进行说明。rb
400
所涉及的碳原子数1以上且4以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1以上且3以下，更优选为1或2，进一步优选为1。作为碳原子数1以上且4以下的直链烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、正丁基。作为碳原子数3或4的支链烷基，可举出异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基。作为碳原子数3或4的环状烷基，可举出环丙基、环丁基。rb
400
所涉及的碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。作为碳原子数1以上且6以下的直链烷氧基，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基。作为碳原子数3以上且6以下的支链烷氧基，可举出异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基等。作为碳原子数3以上且6以下的环状烷氧基，可举出环丙氧基、环丁氧基、环戊氧基、环己氧基等。作为rb
400
所涉及的卤原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。式(b1)的rb
501
、式(b2)的rb
502
、式(b3)的rb
503
、式(b4)的rb
504
、式(b5)的rb
505
、式(b6)的rb
506
、式(b7)的rb
507
及式(b8)的rb
508
的具体方式及优选方式相同，因此以下，将rb
501
、rb
502
、rb
503
、rb
504
、rb
505
、rb
506
、rb
507
及rb
508
统称为“rb
500”来进行说明。rb
500
所涉及的碳原子数1以上且4以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1以上且3以下，更优选为1或2，进一步优选为1。作为碳原子数1以上且4以下的直链烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、正丁基。作为碳原子数3或4的支链烷基，可举出异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基。作为碳原子数3或4的环状烷基，可举出环丙基、环丁基。rb
500
所涉及的碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。作为碳原子数1以上且6以下的直链烷氧基，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基。作为碳原子数3以上且6以下的支链烷氧基，可举出异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基等。
作为碳原子数3以上且6以下的环状烷氧基，可举出环丙氧基、环丁氧基、环戊氧基、环己氧基等。作为rb
500
所涉及的卤原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
[0148]
式(b1)的rb
801
、式(b2)的rb
802
、式(b3)的rb
803
、式(b4)的rb
804
、式(b5)的rb
805
、式(b6)的rb
806
、式(b7)的rb
807
及式(b8)的rb
808
的具体方式及优选方式相同，因此以下，将rb
801
、rb
802
、rb
803
、rb
804
、rb
805
、rb
806
、rb
807
及rb
808
统称为“rb
800”来进行说明。rb
800
所涉及的碳原子数1以上且4以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1以上且3以下，更优选为1或2，进一步优选为1。作为碳原子数1以上且4以下的直链烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、正丁基。作为碳原子数3或4的支链烷基，可举出异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基。作为碳原子数3或4的环状烷基，可举出环丙基、环丁基。rb
800
所涉及的碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。作为碳原子数1以上且6以下的直链烷氧基，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基。作为碳原子数3以上且6以下的支链烷氧基，可举出异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基等。作为碳原子数3以上且6以下的环状烷氧基，可举出环丙氧基、环丁氧基、环戊氧基、环己氧基等。作为rb
800
所涉及的卤原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。式(b1)的rb
901
、式(b2)的rb
902
、式(b3)的rb
903
、式(b4)的rb
904
、式(b5)的rb
905
、式(b6)的rb
906
、式(b7)的rb
907
及式(b8)的rb
908
的具体方式及优选方式相同，因此以下，将rb
901
、rb
902
、rb
903
、rb
904
、rb
905
、rb
906
、rb
907
及rb
908
统称为“rb
900”来进行说明。rb
900
所涉及的碳原子数1以上且4以下的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。烷基的碳原子数例如优选为1以上且3以下，更优选为1或2，进一步优选为1。作为碳原子数1以上且4以下的直链烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、正丁基。作为碳原子数3或4的支链烷基，可举出异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基。作为碳原子数3或4的环状烷基，可举出环丙基、环丁基。rb
900
所涉及的碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基可以是直链状、支链状及环状中的任一个。碳原子数1以上且6以下的烷氧基中的烷基的碳原子数例如优选为1以上且4以下，更优选为1以上且3以下，进一步优选为1或2。作为碳原子数1以上且6以下的直链烷氧基，可举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、正丁氧基、正戊氧基、正己氧基。作为碳原子数3以上且6以下的支链烷氧基，可举出异丙氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、异己氧基、仲己氧基、叔己氧基等。作为碳原子数3以上且6以下的环状烷氧基，可举出环丙氧基、环丁氧基、环戊氧基、环己氧基等。作为rb
900
所涉及的卤原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
以下，作为二醇单元(b1)的具体例示出二醇单元(b1-1)～(b1-6)。二醇单元(b1)并不限定于此。[化学式25]以下，作为二醇单元(b2)的具体例示出二醇单元(b2-1)～(b2-11)。二醇单元(b2)并不限定于此。
[化学式26]以下，作为二醇单元(b3)的具体例示出二醇单元(b3-1)～(b3-4)。二醇单元(b3)并不限定于此。
[化学式27]以下，作为二醇单元(b4)的具体例示出二醇单元(b4-1)～(b4-7)。二醇单元(b4)并不限定于此。[化学式28]
以下，作为二醇单元(b5)的具体例示出二醇单元(b5-1)～(b5-6)。二醇单元(b5)并不限定于此。[化学式29]
以下，作为二醇单元(b6)的具体例示出二醇单元(b6-1)～(b6-4)。二醇单元(b6)并不限定于此。[化学式30]
以下，作为二醇单元(b7)的具体例示出二醇单元(b7-1)～(b7-3)。二醇单元(b7)并不限定于此。[化学式31]以下，作为二醇单元(b8)的具体例示出二醇单元(b8-1)～(b8-3)。二醇单元(b8)并不限定于此。[化学式32]
聚酯树脂中所包含的二醇单元(b)可以是一种，也可以是两种以上。二醇单元(b)在聚酯树脂中所占的质量比例例如优选为25质量％以上且80质量％以下。若二醇单元(b)的质量比例为25质量％以上，则能够抑制感光层的剥离。从该观点出发，二醇单元(b)的质量比例例如更优选为30质量％以上，进一步优选为35质量％以上。若二醇单元(b)的质量比例为80质量％以下，则能够维持对用于形成感光层的涂布液的溶解性而提高耐磨性。从该观点出发，二醇单元(b)的质量比例例如更优选为75质量％以下，进一步优选为70质量％以下。作为除二醇单元(b)以外的其他二醇单元，例如可举出脂肪族二醇(例如，乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、丁二醇、己二醇、新戊二醇)单元、脂环式二醇(例如，环己二醇、环己烷二甲醇、氢化双酚a)单元。聚酯树脂中所包含的这些二醇单元可以是一种，也可以是两种以上。聚酯树脂的末端可以通过制造时所使用的封端剂或分子量调节剂等来密封或修饰。作为封端剂或分子量调节剂，例如可举出一元苯酚、一元酰氯、一元醇及一元羧酸。作为一元苯酚，例如可举出苯酚、邻甲酚、间甲酚、对甲酚、邻乙基苯酚、间乙基苯酚、对乙基苯酚、邻丙基苯酚、间丙基苯酚、对丙基苯酚、邻叔丁基苯酚、间叔丁基苯酚、对叔丁基苯酚、戊基苯酚、己基苯酚、辛基苯酚、壬基苯酚、2,6-二甲基苯酚衍生物、2-甲基苯酚衍生物、邻苯基苯酚、间苯基苯酚、对苯基苯酚、邻甲氧基苯酚、间甲氧基苯酚、对甲氧基苯酚、2,3,6-三甲基苯酚、2,3-二甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、2-苯基-2-(4-羟基苯基)丙烷、2-苯基-2-(2-羟基苯基)丙烷、2-苯基-2-(3-羟基苯基)丙烷。作为一元酰氯，例如可举出苯甲酰氯、安息香酰氯、甲基磺酰氯、氯甲酸苯酯、乙酰氯、丁酰氯、辛酰氯、氯化苯甲酰、苯磺酰氯、苯亚磺酰氯、亚磺酰氯、苯膦酰氯及它们的取代体等一官能性酸酰卤。作为一元醇，例如可举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、2-丁醇、戊醇、己醇、十二烷醇、硬脂醇、苄醇、苯乙醇。作为一元羧酸，例如可举出乙酸、丙酸、辛酸、环己烷羧酸、苯甲酸、甲基苯甲酸、苯乙酸、对叔丁基苯甲酸、对甲氧基苯乙酸。
二氯-4-羟基苯基)丙烷、2,2-双(3,5-二溴-4-羟基苯基)丙烷、2,2-双(3-溴-4-羟基-5-氯苯基)丙烷、2,2-双(3,5-二氯-4-羟基苯基)丁烷、2,2-双(3,5-二溴-4-羟基苯基)丁烷、1-苯基-1,1-双(3-氟-4-羟基苯基)乙烷、双(3-氟-4-羟基苯基)醚、1,1-双(3-环己基-4-羟基苯基)环己烷等。这些双酚化合物可以单独使用一种，也可以并用多种。其中，从电荷传输层或单层型感光层的耐磨性的方面出发，bp聚碳酸酯树脂例如优选为包含由下述通式(pca)表示的结构单元及由下述通式(pcb)表示的结构单元中的至少一个的聚碳酸酯树脂。即，作为优选bp聚碳酸酯树脂，可举出以由下述通式(pca)表示的结构单元构成的均聚物、以由下述通式(pcb)表示的结构单元构成的均聚物及它们的共聚物。[化学式33]在通式(pca)及(pcb)中，r
p1
、r
p2
、r
p3
及r
p4
分别独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数1以上且6以下的烷基、碳原子数5以上且7以下的环烷基或碳原子数6以上且12以下的芳基。x
p1
表示亚苯基、亚联苯基、亚萘基、亚烷基或亚环烷基。在通式(pca)及(pcb)中，作为r
p1
、r
p2
、r
p3
及r
p4
所表示的烷基，可举出碳原子数1以上且6以下(例如，优选为碳原子数1以上且3以下)的直链状或支链状的烷基。具体而言，作为直链状的烷基，可举出甲基、乙基，正丙基、正丁基、正戊基、正己基等。具体而言，作为支链状的烷基，可举出异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、叔戊基、异己基、仲己基、叔己基等。其中，作为烷基，例如优选为甲基、乙基等低级烷基。在通式(pca)及(pcb)中，作为r
p1
、r
p2
、r
p3
及r
p4
所表示的环烷基，例如可举出环戊基、环己基、环庚基。在通式(pca)及(pcb)中，作为r
p1
、r
p2
、r
p3
及r
p4
所表示的芳基，例如可举出苯基、萘基、联苯基等。在通式(pca)及(pcb)中，作为x
p1
所表示的亚烷基，可举出碳原子数1以上且12以下(例如，优选为碳原子数1以上且6以下，更优选为碳原子数1以上且3以下)的直链状或支链状的亚烷基。具体而言，作为直链状的亚烷基，可举出亚甲基、亚乙基、亚正丙基、亚正丁基、亚正戊基、亚正己基、亚正庚基、亚正辛基、亚正壬基、亚正癸基、亚正十一烷基、亚正十二烷基等。具体而言，作为支链状的亚烷基，可举出亚异丙基、亚异丁基、亚仲丁基、亚叔丁基、亚异戊基、亚新戊基、亚叔戊基、亚异己基、亚仲己基、亚叔己基、亚异庚基、亚仲庚基、亚
叔庚基、亚异辛基、亚亚仲辛基、亚叔辛基、亚异壬基、亚仲壬基、亚叔壬基、亚异癸基、亚仲癸基、亚叔癸基、异十一烷基、仲十一烷基、叔十一烷基、新十一烷基、异十二烷基、仲十二烷基、叔十二烷基、新十二烷基等。其中，作为亚烷基，例如优选为亚甲基、亚乙基、亚丁基等低级烷基。在通式(pca)及(pcb)中，作为x
p1
所表示的亚环烷基，可举出碳原子数3以上且12以下(例如，优选为碳原子数3以上且10以下，更优选为碳原子数5以上且8以下)的亚环烷基。具体而言，作为亚环烷基，可举出亚环丙基、亚环戊基、亚环己基、亚环辛基、亚环十二烷基等。其中，作为亚环烷基，例如优选为亚环己基。另外，在通式(pca)及(pcb)中，r
p1
、r
p2
、r
p3
、r
p4
及x
p1
所表示的上述各取代基还包含具有取代基的基团。作为该取代基，例如可举出卤原子(例如氟原子、氯原子)、烷基(例如碳原子数1以上且6以下的烷基)、环烷基(例如碳原子数5以上且7以下的环烷基)、烷氧基(例如碳原子数1以上且4以下的烷氧基)、芳基(例如，苯基、萘基、联苯基等)等。在通式(pca)中，r
p1
及r
p2
例如分别独立地优选表示氢原子或碳原子数1以上且6以下的烷基，r
p1
及r
p2
更优选表示氢原子。在通式(pcb)中，r
p3
及r
p4
例如分别独立地表示氢原子或碳原子数1以上且6以下的烷基，x
p1
优选表示亚烷基或亚环烷基。作为bp聚碳酸酯树脂的具体例，例如可举出以下例子，但并不限定于此。[化学式34](pca-1)[化学式35](pcb-1)[化学式36](pcb-2)[化学式37]pcb-3)
[导电性基体]作为导电性基体，例如可举出包含金属(铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等)或合金(不锈钢等)的金属板、金属鼓及金属带等。并且，作为导电性基体，例如还可举出导电性化合物(例如导电性聚合物、氧化铟等)；涂布、蒸镀或层压了金属(例如铝、钯、金等)或合金的纸张；树脂薄膜；带等。在此，“导电性”是指，体积电阻率小于1
×
10
13
ω
·
cm。当电子照相感光体用于激光打印机时，以抑制照射激光束时所产生的干涉条纹为目的，导电性基体的表面例如优选以中心线平均粗糙度ra计粗糙化为0.04μm以上且0.5μm以下。当将非相干光用于光源时，防止干涉条纹的粗糙化并不特别需要，但抑制产生由导电性基体表面的凹凸引起的缺陷，因此适于更长寿命化。作为粗糙化的方法，例如可举出通过使研磨剂悬浮于水并对导电性基体喷吹而进行的湿式研磨、将导电性基体压接于旋转的砂轮并连续进行磨削加工的无心磨削、阳极氧化处理等。作为粗糙化的方法，还可举出无需粗糙化导电性基体的表面而使导电性或半导电性粉体分散于树脂中，以在导电性基体的表面上形成层，并通过分散于该层中的粒子而进行粗糙化的方法。基于阳极氧化的粗糙化处理为以金属制(例如铝制)导电性基体为阳极而在电解质溶液中进行阳极氧化，由此在导电性基体的表面形成氧化膜的处理。作为电解质溶液，例如可举出硫酸溶液、草酸溶液等。但是，通过阳极氧化形成的多孔阳极氧化膜在其原有状态下具有化学活性，容易被污染，并且由环境引起的阻力变动也大。因此，例如优选对多孔阳极氧化膜进行通过在加压水蒸气或沸水中(可以添加镍等金属盐)由水和反应引起的体积膨胀来堵塞氧化膜的微孔以改变为更稳定的水合氧化物的封孔处理。阳极氧化膜的膜厚例如优选为0.3μm以上且15μm以下。若该膜厚在上述范围内，则存在相对于注入的阻隔性发挥作用的趋势，并且存在由重复使用引起的残留电位上升被抑制的趋势。可以对导电性基体实施基于酸性处理液的处理或勃姆石处理。基于酸性处理液的处理例如以如下方式实施。首先，制备包含磷酸、铬酸及氟酸的酸性处理液。酸性处理液中的磷酸、铬酸及氟酸的配合比例例如磷酸为10质量％以上且11质量％以下的范围，铬酸为3质量％以上且5质量％以下的范围，氟酸为0.5质量％以上且2质量％以下的范围，它们的酸总量的浓度为13.5质量％以上且18质量％以下的范围即可。处理温度例如优选为42℃以上且48℃以下。被膜的膜厚例如优选为0.3μm以上且15μm以下。勃姆石处理例如通过在90℃以上且100℃以下的纯水中浸渍5分钟至60分钟或在90℃以上且120℃以下的加热水蒸气中接触5分钟至60分钟来进行。被膜的膜厚例如优选为0.1μm以上且5μm以下。可以进一步使用己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐等被膜溶解性低的电解质溶液对其进行阳极氧化处理。
[下涂层]下涂层例如为包含无机粒子及粘结树脂的层。作为无机粒子，例如可举出粉体电阻(体积电阻率)1
×
102ω
·
cm以上且1
×
10
11
ω
·
cm以下的无机粒子。其中，作为具有上述电阻值的无机粒子，例如为氧化锡粒子、氧化钛粒子、氧化锌粒子、氧化锆粒子等金属氧化物粒子即可，尤其优选为氧化锌粒子。无机粒子的基于bet法的比表面积例如为10m2/g以上即可。无机粒子的体积平均粒径例如为50nm以上且2000nm以下(例如优选为60nm以上且1000nm以下)即可。无机粒子的含量相对于粘结树脂，例如优选为10质量％以上且80质量％以下，更优选为40质量％以上且80质量％以下。无机粒子可以实施有表面处理。无机粒子可以混合使用两种以上表面处理不同的粒子或粒径不同的粒子。作为表面处理剂，例如可举出硅烷偶联剂、钛酸酯类偶联剂、铝类偶联剂、表面活性剂等。尤其，例如优选为硅烷偶联剂，更优选为具有氨基的硅烷偶联剂。作为具有氨基的硅烷偶联剂，例如可举出3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷等，但并不限定于此。硅烷偶联剂可以混合使用两种以上。例如，可以并用具有氨基的硅烷偶联剂与其他硅烷偶联剂。作为其他硅烷偶联剂，例如可举出乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等，但并不限定于此。基于表面处理剂的表面处理方法只要是公知的方法，则可以是任意方法，也可以是干式法或湿式法中的任一个。表面处理剂的处理量相对于无机粒子，例如优选为0.5质量％以上且10质量％以下。在此，从提高电特性的长期稳定性，载流子阻挡性的观点出发，下涂层例如优选与无机粒子一同含有电子接收性化合物(受体化合物)。作为电子接收性化合物，例如可举出氯醌、四溴对苯醌等醌类化合物；四氰基对苯二醌二甲烷类化合物；2,4,7-三硝基芴酮、2,4,5,7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物；2-(4-联苯)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-萘基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-二乙基氨基苯基)-1,3,4-噁二唑等噁二唑类化合物；呫吨酮类化合物；噻吩化合物；3,3’,5,5
’‑
四-叔丁基联苯醌等联苯醌化合物；等电子传输性物质等。尤其作为电子接收性化合物，例如优选为具有蒽醌结构的化合物。作为具有蒽醌结构的化合物，例如优选为羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物、氨基羟基蒽醌化合物等，具体而言，例如优选为蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚、红紫素等。
电子接收性化合物可以与无机粒子一同分散包含于下涂层中，也可以以附着于无机粒子表面的状态来包含于下涂层中。作为使电子接收性化合物附着于无机粒子表面的方法，例如可举出干式法或湿式法。干式法例如为，一边通过剪切力大的混合器等搅拌无机粒子，一边直接滴加电子接收性化合物或滴加溶解于有机溶剂的电子接收性化合物，并且与干燥空气或氮气一同喷涂而使电子接收性化合物附着于无机粒子表面的方法。当进行电子接收性化合物的滴加或喷涂时，例如，在溶剂的沸点以下的温度下进行即可。在滴加或喷涂电子接收性化合物之后，还可以在100℃以上的条件下进行烧结。烧结只要是可获得电子照相特性的温度、时间，则并无特别限制。湿式法例如为通过搅拌机、超声波、砂磨机、磨碎机、球磨机等将无机粒子分散于溶剂中，并且添加电子接收性化合物并进行搅拌或分散之后，去除溶剂而将电子接收性化合物附着于无机粒子表面的方法。溶剂去除方法例如通过过滤或蒸留去除溶剂。在去除溶剂之后，还可以在100℃以上的条件下进行烧结。烧结只要是可获得电子照相特性的温度、时间，则并无特别限定。在湿式法中，可以在添加电子接收性化合物之前去除无机粒子的含有水分，作为其例子，可举出在溶剂中一边搅拌加热一边去除的方法、与溶剂共沸而去除的方法。电子接收性化合物的附着可以在对无机粒子实施基于表面处理剂的表面处理之前或之后进行，也可以同时进行电子接收性化合物的附着与基于表面处理剂的表面处理。电子接收性化合物的含量相对于无机粒子例如为0.01质量％以上且20质量％以下即可，优选为0.01质量％以上且10质量％以下。作为下涂层中所使用的粘结树脂，例如可举出缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、尿素树脂、酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等公知的高分子化合物；锆螯合物化合物；钛螯合物化合物；铝螯合物化合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；硅烷偶联剂等公知的材料。作为下涂层中所使用的粘结树脂，例如还可举出具有电荷传输性基的电荷传输性树脂、导电性树脂(例如聚苯胺等)等。其中，作为下涂层中所使用的粘结树脂，例如优选为上层不溶于涂布溶剂的树脂，尤其优选为通过选自由尿素树脂、酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等热固性树脂；聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇树脂及聚乙烯醇缩醛树脂组成的组中的至少一种树脂与固化剂之间的反应而获得的树脂。当组合两种以上来使用这些粘结树脂时，根据需要设定其混合比例。为了提高电特性、提高环境稳定性及提高画质，在下涂层中可以包含各种添加剂。作为添加剂，可举出多环缩合类、偶氮类等电子传输性颜料、锆螯合物化合物、钛螯合物化合物、铝螯合物化合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等公知的材料。
如前述，硅烷偶联剂用于无机粒子的表面处理，但作为添加剂还可以添加于下涂层。作为添加剂的硅烷偶联剂，例如可举出乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等。作为锆螯合物化合物，例如可举出丁醇锆、乙酰乙酸乙基锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮丁醇锆、乙酰乙酸乙酯丁醇锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸酯丁醇锆、硬脂酸酯丁醇锆、异硬脂酸酯丁醇锆等。作为钛螯合物化合物，例如可举出钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚物、四(2-乙基己酯)钛酸酯、乙酰丙酮钛、聚乙酰丙酮钛、辛二醇钛、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸乙酯钛、三乙醇胺钛、多羟基硬脂酸钛等。作为铝螯合物化合物，例如可举出异丙醇铝、单丁氧基二异丙醇铝、丁醇铝、二乙酰乙酸乙酯二异丙醇铝、三(乙酰乙酸乙酯)铝等。这些添加剂可以单独使用，或也可以用作多个化合物的混合物或缩聚物。下涂层例如维氏硬度为35以上即可。为了抑制干涉波纹像，下涂层的表面粗糙度(十点平均粗糙度)例如调整为所使用的曝光用激光波长λ的1/(4n)(n为上层的折射率)至1/2即可。为了调整表面粗糙度，可以在下涂层中添加树脂粒子等。作为树脂粒子，可举出硅酮树脂粒子、交联型聚甲基丙烯酸酸甲基树脂粒子等。并且，为了调整表面粗糙度，可以研磨下涂层的表面。作为研磨方法，可举出抛光、喷砂处理、湿式研磨、磨削处理等。下涂层的形成并无特别限制，可利用公知的形成方法，但例如通过形成将上述成分添加于溶剂的下涂层形成用涂布液的涂膜，干燥该涂膜，并根据需要进行加热来进行。作为用于制备下涂层形成用涂布液的溶剂，可举出公知的有机溶剂，例如醇类溶剂、芳烃溶剂、卤代烃溶剂、酮类溶剂、酮醇类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂等。具体而言，作为这些溶剂，例如可举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等通常的有机溶剂。作为制备下涂层形成用涂布液时的无机粒子的分散方法，例如可举出辊磨机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、胶体磨、油漆搅拌器等公知的方法。作为将下涂层形成用涂布液涂布于导电性基体上的方法，例如可举出刮板涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、珠涂布法、气刀涂布法、帘式涂布法等通常的方法。下涂层的厚度例如优选为15μm以上，更优选设定在20μm以上且50μm以下的范围内。[中间层]在下涂层与感光层之间还可以设置中间层。中间层例如为包含树脂的层。作为中间层中所使用的树脂，例如可举出缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤
维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂等高分子化合物。中间层可以是包含有机金属化合物的层。作为中间层中所使用的有机金属化合物，可举出含有锆、钛、铝、锰、硅等金属原子的有机金属化合物等。这些中间层中所使用的化合物可以单独使用，也可以用作多种化合物的混合物或缩聚物。其中，中间层例如优选为包含含有锆原子或硅原子的有机金属化合物的层。中间层的形成并无特别限制，可利用公知的形成方法，但例如通过形成将上述成分添加于溶剂的中间层形成用涂布液的涂膜，干燥该涂膜，并根据需要进行加热来进行。作为形成中间层的涂布方法，可使用浸渍涂布法、顶推涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法、帘式涂布法等通常的方法。中间层的厚度例如优选设定在0.1μm以上且3μm以下的范围内。可以将中间层用作下涂层。[电荷产生层]电荷产生层例如为包含电荷产生材料及粘结树脂的层。并且，电荷产生层可以是电荷产生材料的蒸镀层。电荷产生材料的蒸镀层例如适合于使用led(light emitting diode：发光二极管)、有机el(electro-luminescence：电致发光)图像阵列等非相干性光源的情况。作为电荷产生材料，可举出双偶氮、三偶氮等偶氮颜料；二溴蒽嵌蒽酮等稠环芳香族颜料；苝颜料；吡咯并吡咯颜料；酞菁颜料；氧化锌；三方晶系硒等。其中，为了应对近红外区域的激光曝光，作为电荷产生材料，例如优选使用金属酞菁颜料或无金属酞菁颜料。具体而言，例如更优选为羟基镓酞菁；氯镓酞菁；二氯锡酞菁；氧钛酞菁。另一方面，为了应对近紫外区域的激光曝光，作为电荷产生材料，例如优选为二溴蒽嵌蒽酮等稠环芳香族颜料；硫靛类颜料；紫菜嗪化合物；氧化锌；三方晶系硒；双偶氮颜料等。即使在使用发光的中心波长在450nm以上且780nm以下的范围内的led、有机el图像阵列等非相干性光源的情况下，也可以使用上述电荷产生材料，但根据分辨率的观点，当以20μm以下的薄膜来使用感光层时，感光层中的电场强度变高，由电荷从基体注入引起而带电降低，从而容易产生所谓的被称为黑点的图像缺陷。这在使用了三方晶系硒、酞菁颜料等p型半导体中容易产生暗电流的电荷产生材料时变得显著。相对于此，当作为电荷产生材料使用了稠环芳香族颜料、苝颜料、偶氮颜料等n型半导体时，难以产生暗电流，即便设为薄膜，也能够抑制被称为黑点的图像缺陷。关于n型的判定，利用通常使用的飞行时间法并根据流动的光电流的极性进行判定，将相比于空穴以电子为载流子而容易流动的半导体设为n型。作为电荷产生层中所使用的粘结树脂，从广范围的绝缘性树脂中选择，并且，作为粘结树脂，可以从聚-n-乙烯基咔唑、聚乙烯蒽、聚乙烯芘、聚硅烷等有机光导电性聚合物中选择。
作为粘结树脂，例如可举出聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(双酚类及芳香族二元羧酸的缩聚体等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯吡啶树脂、纤维素树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂、聚乙烯吡咯烷酮树脂等。在此，“绝缘性”是指，体积电阻率为1
×
10
13
ω
·
cm以上。这些粘结树脂可单独使用一种，或混合使用两种以上。电荷产生材料与粘结树脂的配合比例如以质量比计优选在10:1至1:10的范围内。在电荷产生层中可以包含其他公知的添加剂。电荷产生层的形成并无特别限制，可利用公知的形成方法，但例如通过形成将上述成分添加于溶剂的电荷产生层形成用涂布液的涂膜，干燥该涂膜，并根据需要进行加热等来进行。电荷产生层的形成可以通过电荷产生材料的蒸镀来进行。电荷产生层基于蒸镀的形成例如尤其适合于作为电荷产生材料使用稠环芳香族颜料、苝颜料的情况。作为用于制备电荷产生层形成用涂布液的溶剂，可举出甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苄醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二噁烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂可单独使用一种，或混合使用两种以上。作为在电荷产生层形成用涂布液中分散粒子(例如电荷产生材料)的方法，例如可利用球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机、卧式砂磨机等介质分散机或搅拌机、超声波分散机、辊磨机、高压均质器等无介质分散机。作为高压均质器，例如可举出在高压状态下对分散液进行液-液碰撞或液-壁碰撞而使其分散的碰撞方式、在高压状态下贯穿微细的流路而使其分散的贯穿方式等。在进行该分散时，将电荷产生层形成用涂布液中的电荷产生材料的平均粒径设为0.5μm以下，例如优选设为0.3μm以下，更优选设为0.15μm以下有效。作为将电荷产生层形成用涂布液涂布于下涂层上(或中间层上)的方法，例如可举出刮板涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、珠涂布法、气刀涂布法、帘式涂布法等通常的方法。电荷产生层的厚度例如优选设定在0.1μm以上且5.0μm以下的范围内，更优选设定在0.2μm以上且2.0μm以下的范围内。[电荷传输层]电荷传输层例如为包含电荷传输材料及粘结树脂的层。电荷传输层可以是包含高分子电荷传输材料的层。作为电荷传输材料，可举出对苯醌、氯醌、四溴代苯醌、蒽醌等醌类化合物；四氰基对苯二甲烷类化合物；2,4,7-三硝基芴酮等芴酮化合物；蒽酮类化合物；二苯甲酮类化合物；氰基乙烯类化合物；乙烯类化合物等电子传输性化合物。作为电荷传输材料，还可举出三芳基胺类化合物、联苯胺类化合物、芳基烷类化合物、芳基取代乙烯类化合物、茋类化合物、蒽类化合物、腙类化合物等空穴传输性化合物。这些电荷传输材料可单独使用一种或使用两种以上，但并不限定于此。从电荷迁移率的观点出发，作为电荷传输材料例如优选为由下述结构式(a-1)表示的三芳基胺衍生物及由下述结构式(a-2)表示的联苯胺衍生物。
[化学式38]结构式(a-1)中，ar
t1
、ar
t2
及ar
t3
分别独立地表示取代或未取代的芳基、-c6h
4-c(r
t4
)＝c(r
t5
)(r
t6
)或-c6h
4-ch＝ch-ch＝c(r
t7
)(r
t8
)。r
t4
、r
t5
、r
t6
、r
t7
及r
t8
分别独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基或者取代或未取代的芳基。作为上述各基团的取代基，可举出卤原子、碳原子数1以上且5以下的烷基、碳原子数1以上且5以下的烷氧基。并且，作为上述各基团的取代基，可举出被碳原子数1以上且3以下的烷基取代的取代氨基。[化学式39]在结构式(a-2)中，r
t91
及r
t92
分别独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数1以上且5以下的烷基或碳原子数1以上且5以下的烷氧基。r
t101
、r
t102
、r
t111
及r
t112
分别独立地表示卤原子、碳原子数1以上且5以下的烷基、碳原子数1以上且5以下的烷氧基、被碳原子数1以上且2以下的烷基取代的氨基、取代或未取代的芳基、-c(r
t12
)＝c(r
t13
)(r
t14
)或-ch＝ch-ch＝c(r
t15
)(r
t16
)，r
t12
、r
t13
、r
t14
、r
t15
及r
t16
分别独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基。tm1、tm2、tn1及tn2分别独立地表示0以上且2以下的整数。作为上述各基团的取代基，可举出卤原子、碳原子数1以上且5以下的烷基、碳原子数1以上且5以下的烷氧基。并且，作为上述各基团的取代基，可举出被碳原子数1以上且3以下的烷基取代的取代氨基。在此，在电荷迁移率的观点上，例如在由结构式(a-1)表示的三芳基胺衍生物及由所述结构式(a-2)表示的联苯胺衍生物中，尤其优选具有
“‑
c6h
4-ch＝ch-ch＝c(r
t7
)(r
t8
)”的三芳基胺衍生物及具有
“‑
ch＝ch-ch＝c(r
t15
)(r
t16
)”的联苯胺衍生物。作为高分子电荷传输材料，可使用聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷、聚酯类高分子电荷传输材料等具有电荷传输性的公知材料。尤其例如优选为聚酯类高分子电荷传输材料。高分子电荷传输材料可以单独使用，但也可以与粘结树脂并用。作为电荷传输材料或高分子电荷传输材料，还可举出多环芳香族化合物、杂环化
合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、烯胺化合物、联苯胺化合物、三芳基胺化合物、二胺化合物、噁二唑化合物、咔唑化合物、有机聚硅烷化合物、吡唑啉化合物、吲哚化合物、噁唑化合物、异噁唑化合物、噻唑化合物、噻二唑化合物、咪唑化合物、吡唑化合物、三唑化合物及具有从这些物质衍生的基团的树脂。具体而言，可举出分别在日本特开2021-117377号公报的0078～0080段、日本特开2019-035900号公报的0046～0048段、日本特开2019-012141号公报的0052～0053段、日本特开2021-071565号公报的0122～0134段、日本特开2021-015223号公报的0101～0110段及日本特开2013-097300号公报的0116段中记载的化合物。电荷传输层中所包含的电荷传输材料的含量相对于总固体成份，例如为28质量％以上且55质量％以下即可。电荷传输层作为粘结树脂包含特定树脂。特定树脂在电荷传输层中所包含的粘结树脂的总量中所占的比例例如优选为50质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为90质量％以上，尤其优选为95质量％以上，最优选为100质量％。电荷传输层也可以包含除特定树脂以外的其他粘结树脂。作为其他粘结树脂，可举出甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯-马来酸酐共聚物、硅酮树脂、硅酮醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等。这些粘结树脂单独使用一种或使用两种以上。在电荷传输层中可以包含其他公知的添加剂。作为添加剂，例如可举出抗氧化剂、流平剂、消泡剂、填料、粘度调节剂等。电荷传输层的形成并无特别限制，可利用公知的形成方法，但例如通过形成将上述成分添加于溶剂的电荷传输层形成用涂布液的涂膜，干燥该涂膜，并根据需要进行加热等来进行。在此，通过将电荷传输层形成用涂布液的涂膜的干燥工序中的工率设为超过7w，容易将电荷传输层的膜物性设为优选方式。由此，容易实现提高耐磨性及抑制成膜中的一者或两者。在此，工率为通过在干燥工序中对涂膜赋予的热量(j)除以时间(秒)来定义的值，单位为“w”。作为用于制备电荷传输层形成用涂布液的溶剂，可举出苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香烃类；丙酮、2-丁酮等酮类；二氯甲烷、氯仿、二氯乙烷等卤化脂肪烃类；四氢呋喃、乙醚等环状或直链状的醚类等通常的有机溶剂。这些溶剂单独使用或混合使用两种以上。作为将电荷传输层形成用涂布液涂布于电荷产生层上时的涂布方法，可举出刮板涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、珠涂布法、气刀涂布法、帘式涂布法等通常的方法。电荷传输层的平均厚度ds为27μm以上且50μm以下，例如优选为31μm以上且48μm以下，更优选为35μm以上且46μm以下，尤其优选为37μm以上且45μm以下。[单层型感光层]单层型感光层(电荷产生/电荷传输层)为包含电荷产生材料、电荷传输材料、粘结树脂及根据需要包含其他添加剂的层。这些材料与在电荷产生层及电荷传输层中说明的材料相同。单层型感光层作为粘结树脂包含特定树脂。特定树脂的合计在单层型感光层中所
包含的粘结树脂的总量中所占的比例例如优选为50质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为90质量％以上，尤其优选为95质量％以上，最优选为100质量％。在单层型感光层中，电荷产生材料的含量相对于总固体成份，例如为0.1质量％以上且10质量％以下即可，优选为0.8质量％以上且5质量％以下。单层型感光层中所包含的电荷传输材料的含量相对于总固体成份，例如为40质量％以上且60质量％以下即可。与电荷产生层或电荷传输层的形成方法同样地，单层型感光层的形成例如通过形成将上述成分添加于溶剂的单层型感光层形成用涂布液的涂膜，干燥该涂膜，并根据需要进行加热来进行。另外，在此，通过将单层型感光层形成用涂布液的涂膜的干燥工序中的工率设为超过7w，容易将单层型感光层的膜物性设为优选方式。由此，容易实现提高耐磨性及抑制成膜中的一者或两者。单层型感光层的平均厚度dt为27μm以上且50μm以下，例如优选为31μm以上且48μm以下，更优选为35μm以上且46μm以下，尤其优选为37μm以上且45μm以下。[保护层]保护层根据需要设置于感光层上。保护层例如以防止带电时的感光层的化学变化或进一步改善感光层的机械强度为目的设置。因此，保护层例如适用由固化膜(交联膜)构成的层即可。作为这些层，例如可举出下述1)或2)所示的层。1)由包含在同一分子内具有反应性基团及电荷传输性骨架的含有反应性基团的电荷传输材料的组合物的固化膜构成的层(即，包含该含有反应性基团的电荷传输材料的聚合物或交联体的层)2)由包含非反应性的电荷传输材料及不具有电荷传输性骨架而具有反应性基团的含有反应性基团的非电荷传输材料的组合物的固化膜构成的层(即，包含非反应性的电荷传输材料及该含有反应性基团的非电荷传输材料的聚合物或交联体的层)作为含有反应性基团的电荷传输材料的反应性基团，可举出连锁聚合基团、环氧基、-oh、-or[其中，r表示烷基]、-nh2、-sh、-cooh、-sir
q13-qn
(or
q2
)
qn
[其中，r
q1
表示氢原子、烷基或者取代或未取代的芳基，r
q2
表示氢原子、烷基、三烷基甲硅烷基。qn表示1～3的整数]等公知的反应性基团。作为连锁聚合基团，只要是能够自由基聚合的官能团，则并无特别限定，例如为具有至少含有碳双键的基团的官能团。具体而言，可举出含有选自乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基硫醚基、苯基乙烯基、乙烯基苯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及它们的衍生物中的至少一个的基团等。其中，由于其反应性优异，因此作为连锁聚合基团，例如优选为含有选自乙烯基、苯基乙烯基、乙烯基苯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及它们的衍生物中的至少一个的基团。作为含有反应性基团的电荷传输材料的电荷传输性骨架，只要是电子照相感光体中的公知的结构，则并无特别限定，例如可举出三芳基胺类化合物、联苯胺类化合物、腙类化合物等来源于含氮的空穴传输性化合物的骨架且与氮原子共轭的结构。其中，例如优选为三芳基胺骨架。
具有这些反应性基团及电荷传输性骨架的含有反应性基团的电荷传输材料、非反应性的电荷传输材料以及含有反应性基团的非电荷传输材料从公知的材料中选择即可。在保护层中可以包含其他公知的添加剂。保护层的形成并无特别限制，可利用公知的形成方法，但例如通过形成将上述成分添加于溶剂的保护层形成用涂布液的涂膜，干燥该涂膜，并根据需要进行加热等固化处理来进行。作为用于制备保护层形成用涂布液的溶剂，可举出甲苯、二甲苯等芳香族类溶剂；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类溶剂；四氢呋喃、二噁烷等醚类溶剂；乙二醇单甲醚等溶纤类溶剂；异丙醇、丁醇等醇类溶剂等。这些溶剂单独使用或混合使用两种以上。保护层形成用涂布液可以是无溶剂的涂布液。作为将保护层形成用涂布液涂布于感光层(例如电荷传输层)上的方法，可举出浸渍涂布法、顶推涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法、帘式涂布法等通常的方法。保护层的厚度例如优选设定在1μm以上且20μm以下的范围内，更优选设定在2μm以上且10μm以下的范围内。＜图像形成装置，处理盒＞本实施方式所涉及的图像形成装置具备电子照相感光体、使电子照相感光体的表面带电的带电机构、在带电的电子照相感光体表面形成静电潜像的静电潜像形成机构、通过包含色调剂的显影剂对形成于电子照相感光体表面的静电潜像进行显影来形成色调剂像的显影机构及将色调剂像转印到记录媒体表面的转印机构。而且，作为电子照相感光体，适用本实施方式所涉及的电子照相感光体。本实施方式所涉及的图像形成装置适用如下公知的图像形成装置：具备对转印到记录媒体表面的色调剂像进行定影的定影机构的装置；将形成于电子照相感光体表面的色调剂像直接转印到记录媒体的直接转印方式的装置；将形成于电子照相感光体表面的色调剂像一次转印到中间转印体的表面，并且将转印到中间转印体表面的色调剂像二次转印到记录媒体表面的中间转印方式的装置；具备在转印色调剂像之后清洁带电之前的电子照相感光体表面的清洁机构的装置；具备在转印色调剂像之后，在带电之前在电子照相感光体的表面照射除静电光而去除静电的除静电机构的装置；及具备用于提升电子照相感光体的温度并降低相对温度的电子照相感光体加热部件的装置等。在中间转印方式的装置的情况下，转印机构例如适用如下结构，该结构具有在表面转印色调剂像的中间转印体、将形成于电子照相感光体表面的色调剂像一次转印到中间转印体表面的一次转印机构及将转印到中间转印体表面的色调剂像二次转印到记录媒体表面的二次转印机构。本实施方式所涉及的图像形成装置可以是干式显影方式的图像形成装置、湿式显影方式(利用了液体显影剂的显影方式)的图像形成装置中的任一个。在本实施方式所涉及的图像形成装置中，例如，具备电子照相感光体的部分可以是相对于图像形成装置装卸的盒结构(处理盒)。作为处理盒，例如优选使用具备本实施方式所涉及的电子照相感光体的处理盒。在处理盒中，除电子照相感光体以外，例如还可以具
备选自由带电机构、静电潜像形成机构、显影机构及转印机构的组中的至少一个。以下，示出本实施方式所涉及的图像形成装置的一例，但并不限定于此。对图所示的主要部分进行说明，对于其他部分省略其说明。图3是表示本实施方式所涉及的图像形成装置的一例的概略结构图。如图3所示，本实施方式所涉及的图像形成装置100具备具有电子照相感光体7的处理盒300、曝光装置9(静电潜像形成机构的一例)、转印装置40(一次转印装置)及中间转印体50。在图像形成装置100中，曝光装置9配置于能够从处理盒300的开口部对电子照相感光体7进行曝光的位置，转印装置40配置于隔着中间转印体50与电子照相感光体7对置的位置，中间转印体50配置成其一部分与电子照相感光体7接触。虽然未图示，但还具有将转印到中间转印体50的色调剂像转印到记录媒体(例如纸张)的二次转印装置。中间转印体50、转印装置40(一次转印装置)及二次转印装置(未图示)相当于转印机构的一例。图3中的处理盒300在壳体内一体地支承电子照相感光体7、带电装置8(带电机构的一例)、显影装置11(显影机构的一例)及清洁装置13(清洁机构的一例)。清洁装置13具有清洁刮板(清洁部件的一例)131，清洁刮板131配置成与电子照相感光体7的表面接触。清洁部件可以是导电性或绝缘性的纤维状部件而不是清洁刮板131的方式，并且可以将其单独使用或与清洁刮板131并用。在图3中，作为图像形成装置，示出了具备将润滑剂14供给至电子照相感光体7表面的纤维状部件132(辊状)及辅助清洁的纤维状部件133(平刷状)的例子，但根据需要配置它们。以下，对本实施方式所涉及的图像形成装置的各结构进行说明。-带电装置-作为带电装置8，例如可使用利用了导电性或半导电性的带电辊、带电刷、带电膜、带电橡胶刮板、带电软管等接触式带电器。并且，还可使用非接触方式的辊带电器、利用了电晕放电的格栅电晕管带电器或电晕管带电器等其本身公知的带电器等。-曝光装置-作为曝光装置9，例如可举出在电子照相感光体7表面上将半导体激光、led光、液晶快门光等光曝光为规定的模样的光学系统设备等。光源的波长设为电子照相感光体的光谱灵敏度区域内。作为半导体激光器的波长，在780nm附近具有振荡波长的近红外光为主流。但是，并不限定于该波长，作为600nm波段的振荡波长激光器或蓝色激光器，可以利用在400nm以上且450nm以下的范围内具有振荡波长的激光器。并且，为了形成彩色图像而能够输出多光束的类型的面发光型激光源也有效。-显影装置-作为显影装置11，例如可举出接触或非接触显影剂而显影的常规显影装置。作为显影装置11，只要具有上述功能，则并无特别限制，可以根据目的选择。例如，可举出具有使用刷子、辊等使单组份显影剂或双组分显影剂附着于电子照相感光体7的功能的公知的显影器等。其中，例如优选为使用将显影剂保持于表面的显影辊的显影器。显影装置11中所使用的显影剂可以是单独色调剂的单组份显影剂，也可以是包含色调剂及载流子的双组分显影剂。并且，显影剂可以是磁性，也可以是非磁性。这些显影剂
适用公知的显影剂。-清洁装置-清洁装置13可使用具备清洁刮板131的清洁刮板方式的装置。除清洁刮板方式以外，还可以采用毛刷清洁方式、显影同时清洁方式。-转印装置-作为转印装置40，例如可举出使用了带、辊、薄膜、橡胶刮板等的接触式转印带电器；利用了电晕放电的格栅电晕管转印带电器；电晕管转印带电器等其本身公知的转印带电器。-中间转印体-作为中间转印体50，可使用包含赋予了半导电性的聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等的带状转印体(中间转印带)。并且，作为中间转印体的方式，除带状以外，还可以使用滚筒状的转印体。图4是表示本实施方式所涉及的图像形成装置的另一例的概略结构图。图4所示的图像形成装置120为搭载有四个处理盒300的串联方式的多色图像形成装置。在图像形成装置120中，在中间转印体50上分别排列配置有四个处理盒300，且成为对一个颜色使用一个电子照相感光体的结构。图像形成装置120除了串联方式以外，还具有与图像形成装置100相同的结构。实施例以下，根据实施例对发明的实施方式进行详细说明，但发明的实施方式并不受这些实施例的任何限定。在以下说明中，若无特别说明，则“份”及“％”为质量基准。在以下说明中，若无特别说明，则合成、处理、制造等在室温(25℃
±
3℃)下进行。＜树脂的准备＞[聚酯树脂a的合成]在具备搅拌装置的反应容器中加入4,4-(2-乙基亚己基)双苯酚12.6373g、4-叔丁基苯酚0.1233g、连二亚硫酸钠0.0632g、水240ml，制成悬浊液。在搅拌下，在温度20℃下，在该悬浊液中添加氢氧化钠4.8392g、苄基三丁基氯化铵0.1981g、水160ml，并且在氮气氛下搅拌了30分钟。在该水溶液中加入邻二氯苯220ml，在氮气氛下搅拌30分钟之后，添加了粉体状的4,4
’‑
联苯基乙酰氯12.0000g。在添加结束之后，在温度20℃下，在氮气氛下搅拌4个小时而推进了反应。将聚合之后的溶液用300ml的邻二氯苯来稀释，并去除了水层。用稀乙酸溶液及离子交换水清洗之后，投入到甲醇中析出了聚合物。滤出所析出的聚合物，在50℃下进行了干燥。将该聚合物再次溶解于900ml四氢呋喃，并投入到甲醇中析出了聚合物。滤出所析出的聚合物，用甲醇清洗之后，在50℃进行干燥，由此获得了白色聚合物17.5g。作为洗脱液使用四氢呋喃来进行基于gpc(凝胶渗透色谱法)的分子量测定，将聚合物的分子量确定为聚苯乙烯换算的分子量。将聚合物的重均分子量mw及分子量分布mw/mn记录于表1中。[聚酯树脂b～g及c1～c3]适当改变了单体种类及其使用量，除此以外，以与聚酯树脂a的制造工序相同的方式合成了聚酯树脂b～g及c1～c3。在下述表1中示出聚酯树脂的结构单元及组成比。[聚碳酸酯树脂h]
作为聚碳酸酯树脂h，准备了具有下述表1中所记载的重均分子量mw及分子量分布mw/mn的聚碳酸酯树脂(pcb-1)。(pcb-1)是作为已叙述的bp聚碳酸酯树脂的具体例来举出的例子。表1中记入有聚酯树脂中的“结构单元:组成比”(例如，a2-3:50)。组成比为二羧酸单元(从原料的二羧酸去除了两个oh原子的单元)及二醇单元(从原料的二醇去除了两个h原子的单元)各自的摩尔％。表1中所记入的a2-3等是作为已叙述的二羧酸单元的具体例来举出的例子。表1中所记入的b1-2等是作为已叙述的二醇单元的具体例来举出的例子。[表1]＜具备层叠型感光层的感光体的制造＞[实施例s1]-下涂层的形成-作为导电性基体，准备了外径30mm、长度250mm、壁厚1mm的铝制圆筒管。将氧化锌(平均粒径70nm，比表面积15m2/g，tayca corporation制)100份与甲苯500份混合搅拌，添加硅烷偶联剂(商品名称：kbm603，shin-etsu chemical co.,ltd.制，n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷)1.3份，搅拌了2个小时。然后，对甲苯进行减压蒸馏，在120℃下进行3个小时烧结，获得了通过硅烷偶联剂进行了表面处理的氧化锌。将已进行表面处理的氧化锌110份与四氢呋喃500份混合搅拌，添加将茜素0.6份溶解于四氢呋喃50份的溶液，在50℃下搅拌了5个小时。然后，通过减压过滤而滤出固体成分，在60℃下进行减压干燥，获得了赋予茜素的氧化锌。混合将赋予茜素的氧化锌60份、固化剂(封端异氰酸酯，商品名称：sumidur3175，sumika bayer urethane co.,ltd.制)13.5份及缩丁醛树脂(商品名称：s-lec bm-1，sekisui chemical co.,ltd.制)15份溶解于甲基乙基酮68份的溶液100份和甲基乙基酮5份，使用的玻璃珠并通过砂磨机进行2个小时的分散，获得了分散液。在分散液中作为催化剂添加二月桂酸二辛基锡0.005份及硅酮树脂粒子(商品名称：tospearl145，momentive performance materials inc.制)4份，获得了下涂层形成用涂布液。通过浸渍涂布法将下涂层形成用涂布液涂布于导电性基体的外周面，在170℃下进行40分钟干燥固
化，形成了下涂层。下涂层的平均厚度设为25μm。-电荷产生层的形成-将由作为电荷产生物质的羟基镓酞菁(在使用了cukα特性x射线的x射线衍射光谱的布拉格角度(2θ
±
0.2
°
)至少为7.5
°
、9.9
°
、12.5
°
、16.3
°
、18.6
°
、25.1
°
及28.3
°
的位置上具有衍射峰。)15份、作为粘结树脂的氯乙烯
·
乙酸乙烯酯共聚物树脂(商品名称：vmch，nippon unicar company limited制)10份及乙酸正丁酯200份组成的混合物使用直径1mm的玻璃珠并通过砂磨机进行了4个小时分散。在分散液中添加乙酸正丁酯175份及甲基乙基酮180份，进行搅拌而获得了电荷产生层形成用涂布液。将电荷产生层形成用涂布液浸渍涂布于下涂层上，在室温(25℃
±
3℃)下进行干燥，形成了平均厚度0.18μm的电荷产生层。-电荷传输层的形成-将60份作为粘结树脂的聚酯树脂a及40份作为电荷传输材料的下述结构的htm-1溶解于四氢呋喃270份及甲苯30份，获得了电荷传输层形成用涂布液。将电荷传输层形成用涂布液浸渍涂布于电荷产生层上，对所获得的涂膜在145℃下进行30分钟干燥，形成了电荷传输层。另外，将电荷传输层形成用涂布液的涂膜的干燥工序中的工率(w)示于表2中。并且，将电荷传输层的平均厚度ds(μm)记入于表2中。[化学式40][实施例s2～s32、比较例sc1～sc12]在电荷传输层的形成中，将粘结树脂的种类、电荷传输材料的量、电荷传输层的平均厚度ds、干燥工序时的工率等变更为表2中所记载的规格，除此以外，以与实施例s1相同的方式制作了各感光体。＜具备单层型感光层的感光体的制造＞[实施例t1]-单层型感光层的形成-混合作为粘结树脂的聚酯树脂a45.75份、作为电荷产生材料的v型羟基镓酞菁(在使用了cukα特性x射线的x射线衍射光谱的布拉格角度(2θ
±
0.2
°
)至少为7.3
°
、16.0
°
、24.9
°
、28.0
°
的位置上具有衍射峰。)1.25份、9份的电子传输材料即下述结构的etm-1、44份的空穴传输材料即下述结构的htm-1、作为溶剂的四氢呋喃175份及甲苯75份，使用直径1mm的玻璃珠并通过砂磨机进行4个小时分散处理，获得了单层型感光层形成用涂布液。通过浸渍涂布法将所获得的单层型感光层形成用涂布液涂布于外径30mm、长度244.5mm、壁厚1mm的铝基体上，对所获得的涂膜在温度110℃下进行40分钟干燥固化，形成了单层型感光层。另外，将单层型感光层形成用涂布液的涂膜的干燥工序中的工率(w)示于表3中。将单层型感光层的平均厚度dt(μm)记入于表3中。[化学式41]
[实施例t2～t32、比较例tc1～tc12]在单层型感光层的形成中，将粘结树脂的种类、电荷传输材料的量、单层型感光层的平均厚度dt、干燥工序时的工率等变更为表3中所记载的规格，除此以外，以与实施例t1相同的方式制作了各感光体。＜感光体的性能评价＞[耐磨性]将感光体搭载于电子照相系统的图像形成装置docu centre f1100(fujifilm business innovation corp.制)，在温度30℃且相对湿度85％的环境下，以a3尺寸的纸张形成了10万张1％实心图像、图像密度(区域覆盖范围)1％的图像。然后，在温度10℃且相对湿度15％的环境下，以a3尺寸的纸张形成了10万张100％实心图像、图像密度(区域覆盖范围)100％的固体图像。重复了5次上述图像形成。在上述图像形成前后，求出电荷传输层(或单层型感光层)的平均厚度，将图像形成前后的平均厚度之差设为磨损量(nm)。作为膜厚测定机，使用了fisher instruments k.k.制permascope。将磨损量分类如下。将结果示于表2及表3中。a：磨损量小于500nm。b：磨损量为500nm以上且小于1000nm。c：磨损量为1000nm以上且小于1500nm。d：磨损量为1500nm以上且小于2000nm。e：磨损量为2000nm以上。[成膜]在上述图像形成中，对用nikon制光学显微镜mm-40拍摄了输出100万张之后的感光体的表面的明场图像进行图像分析，求出了色调剂的堆积部(即，成膜部)的面积率(％)。将结果示于表2及表3中。[初始画质及行进后画质]将感光体安装于硒鼓，并搭载于安装有电位传感器的图像形成装置apeosportc4300(fujifilm business innovation corp.制)，在温度30℃且相对湿度85％的环境下，以a4尺寸的纸张输出了100万张50％中间色调图像。关于第1张及第100万张的输出图像，用肉眼及放大镜观察图像颗粒度，并分类如下。将结果示于表2及表3中。a：没有图像缺陷。b：若用放大镜观察，观察到轻微的图像缺陷，但在实用上的允许范围内。c：肉眼观察到图像缺陷。d：肉眼观察到图像缺陷，且以条状延伸。
e：肉眼观察到图像缺陷，且以条状延伸。确认到明显的浓度不均。[表2][表3]
上述本发明的实施方式是以例示及说明为目的而提供的。另外，本发明的实施方式并不全面详尽地包括本发明，并且并不将本发明限定于所公开的方式。很显然，对本发明所属的领域中的技术人员而言，各种变形及变更是自知之明的。本实施方式是为了最容易理解地说明本发明的原理及其应用而选择并说明的。由此，本技术领域中的其他技术人员能够通过对假定为各种实施方式的特定使用最优化的各种变形例来理解本发明。本发明的范围由以上的权利要求书及其等同物来定义。

技术特征：
1.一种电子照相感光体，其具备导电性基体以及配置于所述导电性基体上的依次具有电荷产生层及电荷传输层的层叠型感光层，所述电荷传输层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂，当将对所述电荷传输层进行压入试验至0.5μm深度时的马氏硬度设为hm(n/mm2)，将压痕硬度设为nit(n/mm2)时，满足以下(0)的关系式，且弹性变形率为45％以上且70％以下，(0)nit＝a
×
hm-b(a＝2
±
0.2，b＝100
±
20)所述电荷传输层的拉伸弹性模量为2,300mpa以上且5,000mpa以下。2.一种电子照相感光体，其具备导电性基体及配置于所述导电性基体上的单层型感光层，所述单层型感光层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂，当将对所述单层型感光层进行压入试验至0.5μm深度时的马氏硬度设为hm(n/mm2)，将压痕硬度设为nit(n/mm2)时，满足以下(0)的关系式，且弹性变形率为45％以上且70％以下，(0)nit＝a
×
hm-b(a＝2
±
0.2，b＝100
±
20)所述单层型感光层的拉伸弹性模量为2,300mpa以上且5,000mpa以下。3.根据权利要求1所述的电子照相感光体，其中，所述电荷传输层包含所述树脂及电荷传输材料，当将所述树脂的重均分子量mw设为a(万)，将所述电荷传输材料的质量m1与所述电荷传输层的质量m2之比m1/m2的值设为cs，将所述电荷传输层的平均厚度设为ds(μm)时，满足以下(1)至(4)，(1)5≤a≤40(2)0.28≤cs≤0.55(3)27≤ds≤50(4)2.5≤(a
×
ds)/(cs
×
100)≤70.0。4.根据权利要求2所述的电子照相感光体，其中，所述单层型感光层包含所述树脂及电荷传输材料，当将所述树脂的重均分子量mw设为a(万)，将所述电荷传输材料的质量m1与所述单层型感光层的质量m2之比m1/m2的值设为ct，将所述单层型感光层的平均厚度设为dt(μm)时，满足以下(1)至(4)，(1)5≤a≤40(2)0.40≤ct≤0.60(3)27≤dt≤50(4)2.5≤(a
×
dt)/(ct
×
100)≤48.0。5.根据权利要求1至4中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述聚酯树脂为具有由下述式(a)表示的二羧酸单元(a)及由下述式(b)表示的二醇单元(b)的聚酯树脂，[化学式1]式(a)
式(b)在式(a)中，x为有机基团，在式(b)中，ar
b1
及ar
b2
分别独立地为可以具有取代基的芳香环，l
b
为单键、氧原子、硫原子或-c(rb1)(rb2)-，n
b1
为0、1或2，rb1及rb2分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且20以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数7以上且20以下的芳烷基，rb1与rb2可以键合而形成环状烷基。6.根据权利要求5所述的电子照相感光体，其中，所述二羧酸单元(a)为由下述式(a’)表示的二羧酸单元(a’)，[化学式2]式(a
′
)在式(a’)中，ar
a1
及ar
a2
分别独立地为可以具有取代基的芳香环，l
a
为单键或二价连结基团，n
a1
为0、1或2。7.根据权利要求5或6所述的电子照相感光体，其中，所述二羧酸单元(a)包含选自以由下述式(a1)表示的二羧酸单元(a1)、由下述式(a2)表示的二羧酸单元(a2)、由下述式(a3)表示的二羧酸单元(a3)及由下述式(a4)表示的二羧酸单元(a4)组成的组中的至少一种，[化学式3]式(a1)式(a2)
式(a3)式(a4)在式(a1)中，n
101
为0以上且4以下的整数，n
101
个ra
101
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基，在式(a2)中，n
201
及n
202
分别独立地为0以上且4以下的整数，n
201
个ra
201
及n
202
个ra
202
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基，在式(a3)中，n
301
及n
302
分别独立地为0以上且4以下的整数，n
301
个ra
301
及n
302
个ra
302
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基，在式(a4)中，n
401
为0以上且6以下的整数，n
401
个ra
401
分别独立地为碳原子数1以上且10以下的烷基、碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数1以上且6以下的烷氧基。8.根据权利要求5至7中任一项所述的电子照相感光体，其中，所述二醇单元(b)包含选自以由下述式(b1)表示的二醇单元(b1)、由下述式(b2)表示的二醇单元(b2)、由下述式(b3)表示的二醇单元(b3)、由下述式(b4)表示的二醇单元(b4)、由下述式(b5)表示的二醇单元(b5)、由下述式(b6)表示的二醇单元(b6)、由下述式(b7)表示的二醇单元(b7)及由下述式(b8)表示的二醇单元(b8)组成的组中的至少一种，[化学式4]式(b1)式(b2)
式(b3)式(b4)[化学式5]式(b5)式(b6)式(b7)式(b8)在式(b1)中，rb
101
为碳原子数4以上且20以下的支链烷基，rb
201
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
401
、rb
501
、rb
801
及rb
901
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子，在式(b2)中，rb
102
为碳原子数4以上且20以下的直链烷基，rb
202
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
402
、rb
502
、rb
802
及rb
902
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子，
在式(b3)中，rb
113
及rb
213
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且3以下的直链烷基、碳原子数1以上且4以下的烷氧基或卤原子，d为7以上且15以下的整数，rb
403
、rb
503
、rb
803
及rb
903
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子，在式(b4)中，rb
104
及rb
204
分别独立地为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
404
、rb
504
、rb
804
及rb
904
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子，在式(b5)中，ar
105
为碳原子数6以上且12以下的芳基或碳原子数7以上且20以下的芳烷基，rb
205
为氢原子或碳原子数1以上且3以下的烷基，rb
405
、rb
505
、rb
805
及rb
905
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子，在式(b6)中，rb
116
及rb
216
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且3以下的直链烷基、碳原子数1以上且4以下的烷氧基或卤原子，e为4以上且6以下的整数，rb
406
、rb
506
、rb
806
及rb
906
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子，在式(b7)中，rb
407
、rb
507
、rb
807
及rb
907
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子，在式(b8)中，rb
408
、rb
508
、rb
808
及rb
908
分别独立地为氢原子、碳原子数1以上且4以下的烷基、碳原子数1以上且6以下的烷氧基或卤原子。9.根据权利要求3所述的电子照相感光体，其满足3.6≤(a
×
ds)/(cs
×
100)≤46.0。10.根据权利要求4所述的电子照相感光体，其满足3.5≤(a
×
dt)/(ct
×
100)≤40.0。11.根据权利要求3或9所述的电子照相感光体，其满足30≤ds≤48。12.根据权利要求4或10所述的电子照相感光体，其满足30≤dt≤48。13.根据权利要求3至12中任一项所述的电子照相感光体，其满足6≤a≤30。14.一种处理盒，其具备权利要求1至13中任一项所述的电子照相感光体，所述处理盒装卸于图像形成装置。15.一种图像形成装置，其具备：权利要求1至13中任一项所述的电子照相感光体；带电机构，使所述电子照相感光体的表面带电；静电潜像形成机构，在带电的所述电子照相感光体表面形成静电潜像；显影机构，通过包含色调剂的显影剂对形成于所述电子照相感光体表面的静电潜像进行显影来形成色调剂像；及转印机构，将所述色调剂像转印到记录媒体的表面。

技术总结
一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置，所述电子照相感光体具备导电性基体以及配置于所述导电性基体上的依次具有电荷产生层及电荷传输层的层叠型感光层，所述电荷传输层包含选自聚酯树脂及聚碳酸酯树脂中的至少一种树脂，当将对所述电荷传输层进行压入试验至0.5μm深度时的马氏硬度设为HM(N/mm2)，将压痕硬度设为nIT(N/mm2)时，满足以下(0)的关系式，且弹性变形率为45％以上且70％以下，(0)nIT＝a


技术研发人员：小林纮子 佐佐木知也 桥本考平 藤井亮介 冈崎有杜 成田幸介
受保护的技术使用者：富士胶片商业创新有限公司
技术研发日：2023.03.09
技术公布日：2023/9/13