处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法与流程

1.本发明涉及一种处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法。


背景技术：

2.在制造半导体或平板显示器等的制造工序中，使用如下的处理装置，其通过对设在半导体晶片或玻璃基板等基板的表面的膜供给蚀刻用的处理液来进行蚀刻，以形成所期望的电路图案。
3.例如，对旋转的基板供给处理液以逐片地进行处理的逐片式处理装置比起使多片浸渍于处理液中而统一进行处理的批次式的处理装置，能够使针对各基板的处理的均匀性高度一致，因此伴随近年的电路图案的微细化而得到广泛利用。
4.但是，在逐片式的处理装置中，由于是逐片地进行处理，因此若不缩短一片一片的处理时间，则生产性将比批次式差。因此，若既要维持高处理性能，又要提高生产性，则必须以短时间进行偏差少的处理。在批次式中，处理液的温度、浓度等参数的变动只要在处理前的处理槽内耗费时间来调整后浸渍即可。但是，在逐片式中，供给至基板的处理液必须以影响工艺性能的参数始终成为固定状态的方式来供给。
5.而且，无论是在批次式、逐片式的哪种处理装置中，考虑到降低处理成本的观点，都必须将用于处理的液体进行回收再利用。即便在像这样进行再利用的情况下，在批次式中，也能够在浸渍于处理槽的长的处理时间内一边确认参数一边进行调整。但是，在逐片式的情况下，是以短时间来处理每一片基板。因此，供给至基板的处理液的参数变动会作为对基板进行处理的处理性能的偏差而出现在制品中。因此，必须将所回收的处理液也包括在内，而将始终调整为最佳的浓度或温度的处理液持续供给至基板。即，在逐片式中，必须将所使用的处理液的浓度或温度的变动始终抑制在非常小的范围内。
6.此处，对处理液的温度变动造成大幅影响的是所述的回收液。即，在处理中使用的处理液由于温度下降，因此回收使用完毕的处理液后必须使其再次升温，但要将所述回收液的温度维持为相对高的温度来供给则需要工夫。例如，回收液在处理的时机，产生量发生变动，因此在规定的期间并非回收规定的回收量。尤其，在同时在多个处理室中进行处理的情况下，由于在各处理室中处理基板的时机发生变动，因此回收量因时间引起的变动也大。在将回收液收集到储槽中进行加热而再利用的结构中，根据回收液的流入量，将产生大的温度变动。
7.另一方面，关于处理液的浓度，由于必须耗费时间进行加热或者通过添加纯水等稀释液来进行浓度调整，因此要利用供给储槽进行调整。回收液在供给储槽中经浓度调整而成为处理液，因此浓度调整的范围相对小。但是，在处理液的成本高的情况下，为了提高处理液的回收率而实现处理成本的下降，混合有一定程度的冲洗液等不妨碍再使用的液体的处理液也要进行回收再利用。因此，恢复在处理中使用的处理液的浓度变得重要。
8.即便在回收液必然为低浓度的情况下，在长时间未进行处理而未加入新的回收液的回收储槽中，由于始终进行用于将回收储槽内的液体维持为高温的加热，因此随着时间
的经过，回收液的浓度也将变高。由于在无回收液流入的期间，也未进行基板的处理，因此也不会引起对回收储槽进行输液的供给储槽侧的液量下降，因而回收储槽的浓度将进一步上升。因而，在回收储槽中，浓度控制也变得重要。
9.在此种逐片式的处理液的回收与再利用时，作为抑制温度变动与浓度变动的方法，提出有专利文献1所示的基板处理装置。所述基板处理装置具有将处理液供给至处理单元的供给储槽、回收处理完毕的处理液的回收储槽、以及使回收液变得可再利用的调整用储槽。回收储槽在处理液的回收后，作为调整用储槽进行处理液的温度调整以及浓度调整，并将已作为调整用储槽而使用的储槽切换为回收储槽来使用。由此，所回收的处理液与进行了温度调整及浓度调整的处理液可连续输送至供给储槽。而且，处理液的浓度调整通过依次切换使用装有回收液的两个储槽，不会使各储槽闲置而能够有效率地实施。
10.[现有技术文献]
[0011]
[专利文献]
[0012]
专利文献1：日本专利第6324775号公报


技术实现要素：

[0013]
[发明所要解决的问题]
[0014]
所述的技术中，相对于一个供给储槽，将两个回收储槽切换为回收用与浓度调整用来使用，由此，从使温度与浓度收敛在目标范围内开始，直至处理液向供给储槽的供给结束为止，能够持续控制。此种装置中，在调整用的各储槽中设有浓度计，在各储槽中调整处理液时，使用各浓度计来调整处理液的浓度。
[0015]
但是，在每个储槽中存在浓度计这一做法中，由于各浓度计存在个体差异，因此各个浓度计所显示的测定值出现差异。即，利用各浓度计所测定的测定值产生偏差。若各浓度计的测定值产生偏差，则相对于共同的目标值所进行的控制产生偏差，因此会产生即便测定值一致但实际上未收敛为目标值的状态。为了消除此种偏差，必须调整各浓度计，但调整耗费时间，从而生产性下降。而且，在各储槽中设置浓度计将增大装置结构，从而造成高成本。
[0016]
本发明的实施方式的目的在于提供一种处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法，能够抑制成本而防止各储槽中的处理液的浓度的测定值产生偏差，从而能够调整所供给的处理液的浓度。
[0017]
[解决问题的技术手段]
[0018]
本发明的实施方式是一种处理液供给装置，对通过处理液来处理基板的处理装置供给所述处理液，所述处理液供给装置具有：多个储槽，储存所述处理液；供给路径，以所述处理液能够在多个所述储槽之间流通的方式连接多个所述储槽，通过依次经过多个所述储槽来对所述处理装置供给所述处理液；加热部，对所述处理液进行加热；稀释部，通过稀释液来稀释所述处理液；新液供给部，供给新的所述处理液；共同的共同流路，供多个所述储槽的所述处理液流通；切换部，切换在所述共同流路中流通的所述处理液是哪个所述储槽的所述处理液；浓度计，设在所述共同流路中；以及控制装置，使所述切换部进行切换而使所述浓度计测定每个所述储槽各自的所述处理液的浓度，并控制所述加热部、所述稀释部以及所述新液供给部中的至少一个，以使所述处理液的浓度成为目标值。
[0019]
本发明的实施方式的基板处理装置具有所述处理装置与所述处理液供给装置。
[0020]
本发明的实施方式是一种处理液供给方法，通过依次经过多个储槽来将处理液供给至通过所述处理液来处理基板的处理装置，其中，通过设在供多个所述储槽的所述处理液流通的共同的共同流路中的浓度计，切换在所述共同流路中流通的所述处理液的所述储槽而测定每个所述储槽各自的所述处理液的浓度，对加热所述处理液的加热部、稀释所述处理液的稀释部以及供给新的所述处理液的新液供给部中的至少一个进行控制，由此来调整所述处理液的浓度，以使所述处理液的浓度成为目标值。
[0021]
[发明的效果]
[0022]
本发明的实施方式可提供一种处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法，能够抑制成本而防止各储槽中的处理液的浓度的测定值产生偏差，从而能够调整所供给的处理液的浓度。
附图说明
[0023]
图1是表示实施方式的处理装置以及处理液供给装置的简略结构图。
[0024]
图2是表示实施方式的处理液供给装置所进行的浓度控制的一例的图表。
[0025]
图3是表示实施方式的处理液供给装置所进行的浓度控制的另一例的图表。
[0026]
图4是表示处理装置以及处理液供给装置的变形例的简略结构图。
[0027]
[符号的说明]
[0028]
1：处理液供给装置
[0029]
10a～40a、50a：容器
[0030]
21：基板处理控制部
[0031]
22：浓度控制部
[0032]
23：存储部
[0033]
100：处理装置
[0034]
100a：腔室
[0035]
101：旋转部
[0036]
101a：旋转体
[0037]
101b：保持部
[0038]
101c：驱动源
[0039]
102：供给部
[0040]
102a：喷嘴
[0041]
102b：臂
[0042]
103：回收部
[0043]
c：共同流路
[0044]
d：浓度计
[0045]
d1、d2：测定浓度与设定浓度之差
[0046]
e：控制装置
[0047]
f：过滤器
[0048]
h：加热部
[0049]
h1～h4：加热器
[0050]
i：稀释部
[0051]
j：新液供给部
[0052]
l：处理液
[0053]
p1～p4：泵
[0054]
pa1、pa2：隔板
[0055]
r1、r5：返回配管
[0056]
r2：回收配管
[0057]
r3、r4：输液配管
[0058]
rp1～rp4：处理液的补充时机
[0059]
s：供给路径
[0060]
s1～s4：供给配管
[0061]
ss：基板处理装置
[0062]
sw：切换部
[0063]
t：储槽
[0064]
t1：供给储槽
[0065]
t2：回收储槽
[0066]
t3：缓冲储槽
[0067]
t4：新液储槽
[0068]
t5：共用储槽
[0069]
t1～t4、bp1～bp4：配管
[0070]
v1a～v6b、vz：阀
[0071]
w：基板
[0072]
z：排出路
具体实施方式
[0073]
以下，参照附图来说明本发明的实施方式。
[0074]
[概要]
[0075]
如图1所示，实施方式的处理液供给装置1是通过依次经过多个储槽t来将处理液l供给至通过处理液l来处理基板w的处理装置100的装置。处理液供给装置1在供来自多个储槽t的处理液l流通的共同流路c中设置一个浓度计d，一边通过切换部sw来切换在共同流路c中流通的处理液l的储槽t，一边测定各储槽t的处理液l的浓度，并调整稀释液向各储槽t的处理液l中的添加量、加热处理液l的温度，以使各储槽t的处理液l成为规定的目标浓度。另外，以下的说明中，将一边在处理液供给装置1与处理装置100之间使处理液l循环一边进行处理的装置设为基板处理装置ss。
[0076]
[处理装置]
[0077]
处理装置100例如是通过对旋转的基板w供给处理液l，从而去除不必要的膜而保留电路图案的逐片式的蚀刻装置。以下的说明中，将处理液l中的用于处理的有效成分称作化学液。而且，所谓浓度，是指处理液l中所含的化学液的浓度。本实施方式中，使用作为化
学液的包含磷酸(h3po4)的水溶液(以下设为磷酸溶液)来作为处理液l。为了确保处理速率，磷酸溶液必须设为高温，且防止温度下降的必要性高。但所使用的处理液l并不限定于此，例如可广泛使用氢氟酸及硝酸的混合液、醋酸、硫酸及双氧水的混合液(sulfuric acid hydrogen peroxide mixture，spm)等酸系的液体。
[0078]
处理装置100是逐片地处理基板w的逐片式的装置。处理装置100具有构成在作为容器的腔室100a中的旋转部101、供给部102、回收部103。旋转部101具有旋转体101a、驱动源101c。旋转体101a是通过卡销等保持部101b来保持基板w的周缘，使其以与基板w正交的轴为中心旋转的旋转平台。驱动源101c是使旋转体101a旋转的马达。
[0079]
供给部102具有喷嘴102a、臂102b。喷嘴102a是朝向旋转的基板w的处理面喷出处理液l的喷出部。臂102b在前端设有喷嘴102a，使喷嘴102a在旋转体101a的中心上方与从旋转体101a退避的位置之间摆动。喷嘴102a经由后述的供给配管s1而连接于处理液供给装置1，供给处理液l。
[0080]
回收部103是以包围旋转体101a的方式而设，将从喷嘴102a供给至基板w的处理面并从基板w的端面漏出的处理液l从其底部予以回收的框体。在回收部103的底部以及腔室100a的底部设有开口，所述开口经由后述的回收配管r2连接于处理液供给装置1。
[0081]
[处理液供给装置]
[0082]
处理液供给装置1对处理装置100供给处理液l。而且，处理液供给装置1回收在处理装置100中处理完毕的处理液l，并与新供给的处理液l一同供给至处理装置100。图1中省略了图示，但处理装置100相对于一个处理液供给装置1而设有多个。
[0083]
处理液供给装置1具有储槽t、供给路径s、加热部h、稀释部i、共同流路c、浓度计d、控制装置e。储槽t储存处理液l。储槽t包含多个储槽，例如包含供给储槽t1、回收储槽t2、缓冲储槽t3、新液储槽t4。以下，在不区分这些t1～t4的情况下，作为储槽t来进行说明。
[0084]
供给路径s以处理液l可在多个储槽t1～t4之间流通的方式来连接多个储槽t1～t4，通过依次经过多个储槽t1～t4来对处理装置100供给处理液l。供给路径s包含供给配管s1～供给配管s4。加热部h对处理液l进行加热。加热部h包含加热器h1～加热器h4。另外，所谓依次经过多个储槽t，只要是经过储存处理液l的多个储槽t中的两个以上的储槽t的结构即可。即，只要以处理液l可在至少两个储槽t之间流通的方式来连接即可。
[0085]
(供给储槽)
[0086]
供给储槽t1具有容器10a，在容器10a内储存被供给至处理装置100的处理液l。容器10a包含相对于处理液l具有耐蚀性的原材料。在供给储槽t1，连接有供给配管s1、返回配管r1。供给配管s1是连接于容器10a的底部，对处理装置100的供给部102供给处理液l的配管。
[0087]
在供给配管s1的路径上，设有泵p1、加热器h1、过滤器f、阀v1a。泵p1从供给储槽t1的底部抽吸并送出处理液l。加热器h1被设在泵p1的下游侧，将从泵p1送出的处理液l加热至规定的目标温度。另外，此处，将从供给储槽t1朝向处理装置100的流动中的供给储槽t1侧设为上游，将处理装置100侧设为下游。在加热器h1的下游侧，设有未图示的温度传感器，接收来自所述温度传感器的反馈，调整加热器h1的输出。温度传感器例如为热敏电阻。通过加热器h1加热至目标温度为止的处理液l被供给至处理装置100的供给部102。
[0088]
过滤器f被设在加热器h1的下游，从流经供给配管s1的处理液l中去除杂质。阀v1a
被设在过滤器f的下游，切换处理液l向处理装置100的供给的有无。
[0089]
返回配管r1在供给配管s1的阀v1a的上游分支而连接于供给储槽t1。在返回配管r1中设有阀v1b。从供给配管s1供给至处理装置100的处理液l在未进行基板w的处理的情况下，通过阀v1a关闭且阀v1b打开，而经由返回配管r1返回至供给储槽t1。即，由返回配管r1与供给配管s1形成循环路径。在所述循环路径中，通过加热器h1的加热，供给储槽t1内的处理液l的温度被维持为固定温度。
[0090]
而且，虽未图示，但在供给储槽t1中设有探测液面的液面传感器。由此，能够探测供给储槽t1内的处理液l是否已成为一定量以下。另外，在供给储槽t1的容器10a内，也可设置有将处理液l加热至固定温度的加热器。
[0091]
(回收储槽)
[0092]
回收储槽t2具有容器20a，在容器20a内储存从处理装置100回收的处理液l。容器20a包含相对于处理液l而具有耐蚀性的原材料。在回收储槽t2，连接有回收配管r2、供给配管s2。回收配管r2是从处理装置100的回收部103回收蚀刻处理后的处理液l的配管。
[0093]
供给配管s2连接于容器20a的底部。在供给配管s2中设有泵p2、加热器h2。泵p2从回收储槽t2的底部抽吸并送出处理液l。加热器h2被设在泵p2的下游，将从泵p2送出的处理液l加热至规定的目标温度。另外，此处，将从回收储槽t2的底部朝向后述的缓冲储槽t3、回收储槽t2的上部(返回)或共同流路c的流动中的回收储槽t2的底部侧设为上游，将其相反侧设为下游。在加热器h2的下游侧，设有未图示的温度传感器，接收来自所述温度传感器的反馈，调整加热器h2的输出。温度传感器例如为热敏电阻。
[0094]
在供给配管s2的中途存在分支点，从所述分支点分支为向后述的缓冲储槽t3输液的路径与返回回收储槽t2的路径。在所分支的路径中分别设有阀v2a、阀v2b。阀v2a切换处理液l向缓冲储槽t3的供给的有无。阀v2b切换处理液l向回收储槽t2的返回的有无。
[0095]
通过阀v2a关闭且阀v2b打开，经加热器h2加热的处理液l通常返回回收储槽t2，因此进行循环。由此，加热器h2将回收储槽t2的处理液l加热至目标温度。但在缓冲储槽t3的处理液l成为一定量以下而需要补充的情况下，通过阀v2a打开且阀v2b关闭，将已被加热至目标温度为止的处理液l供给至缓冲储槽t3。由此，被回收并经再加热的处理液l变得可再次利用。
[0096]
而且，虽未图示，但在回收储槽t2中设有探测液面的液面传感器。由此，能够探测回收储槽t2内的处理液l是否为一定量以下。通过探测是否为一定量以下，能够判断是否对缓冲储槽t3供给处理液l。即，在为一定量以下的情况下，不对缓冲储槽t3供给处理液l，而继续向回收储槽t2的循环。而且，在超过了一定量的情况下，在调整好处理液l的温度以及浓度后，开始向缓冲储槽t3的供给。另外，在回收储槽t2内，也可设置有用于将处理液l加热至固定温度的加热器。
[0097]
(缓冲储槽)
[0098]
缓冲储槽t3具有容器30a，在容器30a内储存来自回收储槽t2的处理液l。容器30a包含相对于处理液l而具有耐蚀性的原材料。在缓冲储槽t3，连接有供给配管s3、所述的供给配管s2。
[0099]
供给配管s3连接于容器30a的底部。在供给配管s3中设有泵p3、加热器h3。泵p3从缓冲储槽t3的底部抽吸并送出处理液l。加热器h3被设在泵p3的下游，将从泵p3送出的处理
液l加热至规定的目标温度。另外，此处，将从缓冲储槽t3的底部朝向供给储槽t1、缓冲储槽t3的上部(返回)或共同流路c的流动中的缓冲储槽t3的底部侧设为上游，将其相反侧设为下游。在加热器h3的下游侧，设有未图示的温度传感器，接收来自所述温度传感器的反馈，调整加热器h3的输出。温度传感器例如为热敏电阻。
[0100]
在供给配管s3的中途存在分支点，从所述分支点分支为向供给储槽t1输液的路径与返回缓冲储槽t3的路径。在分支的路径中分别设有阀v3a、阀v3b。阀v3a切换处理液l向供给储槽t1的供给的有无。阀v3b切换处理液l向缓冲储槽t3的返回的有无。
[0101]
通过阀v3a关闭且阀v3b打开，经加热器h3加热的处理液l通常返回缓冲储槽t3，因此进行循环。由此，加热器h3将缓冲储槽t3的处理液l加热至目标温度。但在供给储槽t1的处理液l成为一定量以下而需要补充的情况下，通过阀v3a打开且阀v3b关闭，从而将已加热至目标温度为止的处理液l供给至供给储槽t1。
[0102]
而且，虽未图示，但在缓冲储槽t3中设有探测液面的液面传感器。由此，能够探测缓冲储槽t3内的处理液l是否成为一定量以下。通过探测是否为一定量以下，能够判断是否从回收储槽t2接受供给。即，在为一定量以下的情况下，从回收储槽t2接受供给，不对供给储槽t1供给处理液l而继续向缓冲储槽t3的循环。而且，在超过一定量的情况下，不从回收储槽t2接受供给，而将处理液l的温度以及浓度调整为各自的目标值即目标温度以及目标浓度后，开始向供给储槽t1的供给。另外，在缓冲储槽t3内，也可设置有用于将处理液l加热至固定温度的加热器。
[0103]
进而，在所述的供给储槽t1、回收储槽t2、缓冲储槽t3的底部，分别连接有设有阀vz的配管，并汇流至共同的配管即排出路z。排出路z连接于工厂的废液路径。
[0104]
(新液储槽)
[0105]
新液储槽t4具有容器40a，在容器40a内储存新调配的处理液l(以下称作新液)。容器40a包含相对于处理液l而具有耐蚀性的原材料。在新液储槽t4，连接有输液配管r3、供给配管s4。输液配管r3是从未图示的处理液l的供给源对新液储槽t4供给处理液l的配管。
[0106]
供给配管s4连接于容器40a的底部。在供给配管s4中，设有泵p4、加热器h4。泵p4从新液储槽t4的底部抽吸并送出处理液l。加热器h4被设在泵p4的下游，将从泵p4送出的处理液l加热至规定的目标温度。另外，此处，将从新液储槽t4的底部朝向回收储槽t2、缓冲储槽t3、供给储槽t1、新液储槽t4的上部(返回)或共同流路c的流动中的新液储槽t4的底部侧设为上游，将其相反侧设为下游。在加热器h4的下游侧，设有未图示的温度传感器，接收来自所述温度传感器的反馈，调整加热器h4的输出。温度传感器例如为热敏电阻。
[0107]
供给配管s4分支为向回收储槽t2、缓冲储槽t3、供给储槽t1输液的输液路径与返回新液储槽t4的路径。输液路径向回收储槽t2、缓冲储槽t3、供给储槽t1分支，且分别设有阀v4a、阀v4c、阀v4d。阀v4a、阀v4c、阀v4d分别切换处理液l向回收储槽t2、缓冲储槽t3、供给储槽t1的输送的有无。输液路径以及阀v4a、阀v4c、阀v4d是对回收储槽t2、缓冲储槽t3、供给储槽t1中的至少一个供给新液的新液供给部j。在返回新液储槽t4的路径中设有阀v4b。阀v4b切换处理液l向新液储槽t4的返回的有无。
[0108]
通过阀v4b打开，经加热器h4加热的处理液l通常返回新液储槽t4，因此进行循环。由此，加热器h4将新液储槽t4的处理液l加热至目标温度。进而，在新液成为可用作处理液l的状态的情况，且成为供给储槽t1的处理液l为一定量以下，缓冲储槽t3的处理液l也低于
一定量的状况的情况下，关闭阀v4b并打开阀v4d，向供给储槽t1输液预先规定的一定量。由此，对被供给至处理装置100而用于处理且依靠来自缓冲储槽t3的供给并不足的处理液l进行补充。另外，从新液储槽t4朝向回收储槽t2的新液的供给是通过关闭阀v4b并打开阀v4a来进行。但朝向回收储槽t2的新液的供给仅限于在回收储槽t2的处理液l为一定量以下且无回收液从处理装置100进入的状况持续的情况下进行，以免回收储槽t2因回收液与新液而溢出。
[0109]
对于向供给储槽t1补充了处理液l的新液储槽t4，从输液配管r3追加补充量的新液并进行后续的加热。另外，朝向缓冲储槽t3的新液的补充也是在缓冲储槽t3的处理液l为一定量以下，且依靠来自回收储槽t2的供给并不足的情况下，通过打开阀v4c来进行。
[0110]
而且，虽未图示，但在新液储槽t4中设有探测液面的液面传感器。由此，能够探测新液储槽t4内的处理液l是否为一定量以下，从而能够判断是否应通过来自输液配管r3的输液来进行补充。另外，在新液储槽t4内，也可设置有用于将处理液l加热至固定温度的加热器。
[0111]
(稀释部)
[0112]
稀释部i通过稀释液来稀释处理液l。稀释液是使储槽t内的化学液的浓度下降的液体，在本实施方式中为纯水。稀释部i具有输液配管r4。输液配管r4是从未图示的纯水的供给源向供给储槽t1、回收储槽t2、缓冲储槽t3、新液储槽t4分支而分别供给稀释液的配管。在所分支的朝向各储槽t1～t4的配管中分别设有阀v5。基于借助后述的浓度计d所进行的各储槽t1～t4的处理液l的浓度测定，来向各储槽t1～t4中添加规定添加量的纯水。
[0113]
(共同流路)
[0114]
共同流路c是供多个储槽t1～t4的处理液l流通的共同的路径。本实施方式的共同流路c是从供给配管s1～供给配管s4分支的配管t1～配管t4所汇流的配管。即，在供给配管s1的过滤器f的下游设有分支点，从此分支点分支有配管t1。从供给配管s2的朝向缓冲储槽t3以及回收储槽t2的分支点，分支有配管t2。从供给配管s3的朝向供给储槽t1以及缓冲储槽t3的分支点，分支有配管t3。进而，从供给配管s4的朝向供给配管s1等以及新液储槽t4的分支点，分支有配管t4。在来自供给配管s1～供给配管s4的配管t1～配管t4中，分别设有阀v6a。而且，共同流路c连接于向多个储槽t1～t4分支而返回的配管bp1～配管bp4。在从共同流路c分支并朝向多个储槽t1～t4的配管bp1～配管bp4中，分别设有阀v6b。这些阀v6a、v6b是如下所述的切换部sw，即，通过打开哪一个来切换在共同流路c中流通的处理液l是哪个储槽t1～储槽t4的处理液l。即，切换部sw切换使储槽t1～储槽t4的处理液l的哪个流通至共同流路c。
[0115]
(浓度计)
[0116]
浓度计d被设于共同流路c，对流经共同流路c的处理液l的浓度进行测定。朝向浓度计d的输液与朝向储槽t的返回是通过切换部sw的阀v6a、阀v6b的切换而对应于储槽t1～储槽t4的每一个来区分，且以处理液l不会在储槽t1～储槽t4间混合的方式来进行。即，至少构成为，从相同的储槽t中流出的处理液l返回相同的储槽t，以免积留在共同流路c内的其他储槽t的处理液l混合。本实施方式的浓度计d在共同流路c中设有一个。浓度计d优选使用精度相对高的光学式的浓度计。
[0117]
(控制装置)
[0118]
控制装置e控制基板处理装置ss的各部。控制装置e为了实现基板处理装置ss的各种功能，而具有执行程序的处理器、存储程序或运行条件等各种信息的存储器、驱动各元件的驱动电路。另外，控制装置e具有输入信息的输入装置、显示信息的显示装置。
[0119]
控制装置e具有基板处理控制部21、浓度控制部22、存储部23。基板处理控制部21通过控制处理装置100以及处理液供给装置1的各部来执行基板w的处理。即，基板处理控制部21控制基板w向腔室100a的搬入搬出、保持部101b对基板w的保持、驱动源101c对旋转体101a的旋转、臂102b对喷嘴102a的摆动、借助阀v1a及阀v1b的切换所实现的处理液l的供给的有无以及借助阀v2a、阀v2b、阀v3a、阀v3b、阀v4a、阀v4b的切换所进行的处理液l向各储槽t1～t4的补充等。
[0120]
浓度控制部22使浓度计d测定储槽t1～储槽t4各自的处理液l的浓度，并控制加热部h以及稀释部i，以使处理液l的浓度成为规定的目标值(目标浓度)。目标浓度包含设定浓度，是其前后的规定范围。设定浓度例如为87.7％。另外，在所述浓度控制中，如上所述，对于处理液l的温度也进行控制以成为规定的目标值(目标温度)。目标温度包含设定温度，是其前后的规定范围。设定温度例如为160℃。浓度控制部22基于测定值与目标值(目标浓度、目标温度)的差异以及测定值的变化量的其中任一者或两者来算出加热部h的输出以及稀释液的添加量，以控制加热部h以及稀释部i。另外，在算出测定值与目标值的差异时，使用设定浓度、设定温度，但不需要控制成与这些设定浓度、设定温度准确地一致，只要能够控制成收敛在目标浓度、目标温度的范围内即可。基于测定值的变化量的控制是指：在存在持续测定的期间的情况下，根据此测定期间的浓度变化量(图表的斜率)的值，来试算直至进行下次浓度测定为止的期间间隔后的浓度，从而算出当前的加热部h的输出以及稀释液的添加量。即，是基于直至下次浓度测定时间为止浓度下降多少来决定调整量的方法。
[0121]
更具体而言，浓度控制部22对切换部sw的阀v6a、阀v6b的开闭进行切换，以切换要测定浓度的储槽t1～储槽t4。储槽t1～储槽t4的切换是以针对储槽t1～储槽t4的每一个而设定的规定的时间间隔来进行。而且，浓度控制部22通过切换作为加热部h的加热器h1～加热器h4的输出、稀释部i的阀v5的开闭，从而进行处理液l的借助加热的浓缩、借助纯水添加的稀释。
[0122]
既可通过时间间隔的设定来将所有储槽t的测定时间设为相同，也可使各储槽t的测定时间不同。例如可延长或缩短特定的储槽t的测定时间。对于需要高精度的控制的储槽t，可提高浓度测定的频率或延长测定时间，对于只要能够大致调整即可的储槽t，可降低浓度测定的频率或缩短测定时间。但在相同的测定时间的情况下，比起将一次的测定时间确保得长，更优选的是增加测定频率。由此，能够在固定的时间内测定多个储槽t而调整各自的浓度，因此容易将与各储槽t对应的测定值收敛为目标值。另外，在切换要测定浓度的储槽t时，在积留于共同流路c中的前次的储槽t的处理液l流过了与置换为所切换的储槽t的处理液l相应的量的处理液l后，或者经过了与置换相应的时间后，开始测定。
[0123]
存储部23构成在存储器中，存储目标浓度、目标温度、时间间隔等。目标浓度、目标温度、时间间隔可由作业者通过输入装置来输入所期望的值。例如，对于对因被用于处理而浓度、温度的变动大的处理液l进行回收的回收储槽t2，可使测定频率多于其他储槽t而延长测定时间，以调整浓度。而且，也可使对基板处理的影响直接的供给储槽t1的测定频率多于其他储槽t而实现基板w的处理的稳定化。
[0124]
[动作]
[0125]
除了参照图1以外，还参照图2以及图3来说明如上所述的本实施方式的基板处理装置ss的动作。另外，通过如下所述的流程来处理基板w的基板处理方法也是本实施方式的一方式。
[0126]
(基板处理)
[0127]
首先说明处理装置100所进行的基板处理。成为处理对象的基板w由搬送机器人搬入至旋转体101a上，由保持部101b予以保持。驱动源101c使旋转体101a旋转，由此，基板w旋转。阀v1a打开，通过处理液供给装置1而成为所期望的浓度、温度的处理液l从喷嘴102a被供给至基板w的被处理面，由此来进行蚀刻处理。
[0128]
当经过了规定的处理时间时，阀v1a关闭，处理液l的供给停止。随后，基板w停止旋转，搬送机器人将保持部101b所进行的保持已被解除的基板w从腔室100a予以搬出。
[0129]
(处理液的供给)
[0130]
接下来，说明处理液供给装置1对处理液l的调整处理。供给储槽t1的处理液l在被供给至处理装置100之前，在关闭阀v1a且打开阀v1b的状态下，一边在供给配管s1、返回配管r1、供给储槽t1中循环，一边通过加热器h1进行加热，由此被维持为目标温度。并且，如上所述，在处理装置100中的处理的时机，供给储槽t1的处理液l被供给至处理装置100。
[0131]
缓冲储槽t3的处理液l在供给至供给储槽t1之前，在关闭阀v3a且打开阀v3b的状态下，一边在供给配管s3、缓冲储槽t3中循环，一边通过加热器h3进行加热，由此被维持为目标温度。并且，在供给储槽t1的处理液l成为一定量以下时，打开阀v3a且关闭阀v3b，由此被供给至供给储槽t1。
[0132]
回收储槽t2的处理液l在供给至缓冲储槽t3之前，在关闭阀v2a且打开阀v2b的状态下，一边在供给配管s2、回收储槽t2中循环，一边通过加热器h2进行加热，由此被维持为目标温度。并且，在缓冲储槽t3的处理液l成为一定量以下时，打开阀v2a且关闭阀v2b，由此被供给至缓冲储槽t3。
[0133]
新液储槽t4的处理液l在供给至回收储槽t2、缓冲储槽t3、供给储槽t1之前，在关闭阀v4a、阀v4c、阀v4d且打开阀v4b的状态下，一边在供给配管s4、新液储槽t4中循环，一边通过加热器h4进行加热，由此被维持为目标温度。并且，在缓冲储槽t3的处理液l的液量低于一定量而无法供给至供给储槽t1，进而，供给储槽t1的液量也低于一定量的情况下，打开阀v4d且关闭阀v4b，由此将来自新液储槽t4的新液供给至供给储槽t1。同样地，在回收储槽t2、缓冲储槽t3中，也可在供给不足而处理液l成为一定量以下的情况下，打开阀v4a、阀v4c，由此，将新液供给至回收储槽t2、缓冲储槽t3。
[0134]
(浓度控制)
[0135]
如上所述，对在通过依次经过各储槽t1～t4而将处理液l供给至处理装置100的过程中进行的浓度控制进行说明。首先，在浓度测定中，如上所述，以规定的时间间隔来依次切换将切换部sw的阀v6a、阀v6b中的与t1-t1、t2-t2、t3-t3、t4-t4的各组的任一个对应的阀打开而将其他关闭的操作。由此，切换在共同流路c中流通的处理液l的储槽t1～储槽t4，通过浓度计d来测定在共同流路c中流通的处理液l的浓度。由此，能够从储槽t1～储槽t4选择性地使处理液l流通至共同流路c，因此能够通过一个浓度计d而以规定的时间间隔来测定各储槽t1～t4的浓度。
[0136]
并且，在根据所测定的浓度与目标浓度的差值而需要浓缩的情况下，提高对应的储槽t1～储槽t4的加热器h1～加热器h4的输出。在需要稀释的情况下，打开朝向对应的储槽t1～储槽t4的稀释部i的配管的阀v5，以添加规定量的纯水。另外，以下的说明中的控制量是指：根据测定浓度与目标浓度的差值来调整加热部h的输出、规定量的纯水的添加量。
[0137]
参照图2、图3的图表来说明此种浓度控制的一例。图2是如下所述的示例，即，使用浓度计d来测定各储槽t1～t3的浓度，并以粗的实线来表示进行调整时的浓度值的时间变化。本示例中，按照供给储槽t1、缓冲储槽t3、供给储槽t1、回收储槽t2的顺序，每隔一个储槽进行供给储槽t1的测定，每隔三个储槽进行缓冲储槽t3与回收储槽t2的测定，且明示了供给储槽t1、缓冲储槽t3、回收储槽t2各自的浓度的推移。
[0138]
首先，仅着眼于缓冲储槽t3的处理液l的浓度来进行说明。浓度计d是以规定的时间间隔切换多个储槽t来进行浓度测定，因此储槽t的浓度控制的控制量的变更仅限于各自储槽t正在进行浓度测定的期间。即，缓冲储槽t3的处理液l的控制量的切换为正在进行缓冲储槽t3的处理液l的浓度测定的期间(图中为[1]、[2]、[3])。
[0139]
如图2的[1]所示，利用浓度计d对缓冲储槽t3的处理液l进行测定所得的浓度呈现出比设定浓度87.7％高的浓度。因此，进行下述控制：添加基于测定浓度与设定浓度之差d1而求出的添加量的纯水，以使缓冲储槽t3的处理液l的浓度下降。纯水的添加量被设定为即便持续添加至下次测定为止，也不会成为设定浓度以下的量。由此，即便在通过浓度计d对从其他储槽t供给的处理液l的浓度进行测量的过程中，浓度值也呈下降趋势而朝向目标浓度。在此期间，浓度计d的测定对象切换为其他的储槽t，进行其他储槽t的浓度控制。
[0140]
缓冲储槽t3的浓度控制是：直至进行下次浓度测定为止，维持在测量中所设定的浓度控制。本示例中，如图2的箭头所示，在从[1]直至[2]为止的期间、从[2]直至[3]为止的期间，持续添加所设定的添加量的纯水。如图2的[2]所示，当进行下次的缓冲储槽t3的浓度测定时，在缓冲储槽t3的处理液l的量无变化的情况等下，通过纯水的添加而处理液l的浓度下降，由此推移为比前次的[1]时的浓度测定值更接近目标浓度的值。并且，基于测定浓度与设定浓度之差d2来设定比前次少的纯水添加量，而进行缓冲储槽t3的浓度控制。下次的[3]时的控制也同样，基于测定浓度与设定浓度之差d3，而进行浓度控制。
[0141]
这样，即便将进行浓度测定的时间划分得短，只要根据此时的从设定浓度计起的差值来设定直至下次测定为止的控制量(纯水的添加量)，通过重复此操作，便可接近目标浓度。当缓冲储槽t3的处理液l的浓度接近目标浓度时，设定与因加热器h3的加热而浓度上升的量相称的水添加量，由此，能够稳定地维持缓冲储槽t3内的处理液l的浓度。
[0142]
当从缓冲储槽t3输液至供给储槽t1而液面下降时，进行来自回收储槽t2的液补充，因此位于缓冲储槽t3内的处理液l会产生从所控制的浓度值的偏离。此时，通过下次的浓度测定来进行与新的测定浓度相应的控制设定。
[0143]
例如，在图2的[1]～[3]所示的使浓度下降的控制过程中，若在下次的测定中处理液l的浓度越过目标浓度例如处理液l的浓度变得低于目标浓度，则必须进行恢复为目标浓度的相反控制(加热)，而难以在包含目标浓度的所容许的范围内稳定地维持。因此，关于控制量的设定，若计算出以当前的纯水添加量持续至下次测定时间为止，浓度下降会过大而低于目标浓度，则变更为不会低于目标浓度的量的纯水添加量。而且，对于目标浓度设定有容许幅度，针对于此，瞄准所述容许幅度的上限来调整添加量。例如，在基于[1]时的测定结
果来添加纯水的情况下，在[2]时测定所述添加量时，根据[1]时的纯水添加量引起的浓度变化量，来变更直至[3]的测定时间为止的纯水添加量。
[0144]
接下来，着眼于供给储槽t1进行说明。所述图2所示的示例中，每隔一个储槽进行浓度测定与控制的供给储槽t1由于是对基板w直接供给处理液l，因此从一开始便是维持为目标浓度的状态下的控制。即，为维持加热与水添加平衡的状态下的浓度的控制，但实际上，因对处理装置100输送处理液l，供给储槽t1内的处理液l的量下降，而被补充来自缓冲储槽t3的处理液l，由此，浓度值发生变化。通过以即便针对此变动量也能够维持浓度的方式来进行纯水的添加与加热，使相对于目标浓度的偏离降低。即，将浓度维持在规定的容许范围内。
[0145]
进而，着眼于回收储槽t2进行说明。在回收储槽t2中，多需要从比目标浓度即规定的容许范围内的浓度低的低浓度侧进行浓度上升的控制。这是因为，回收储槽t2即便回收了处理液l，也会因冲洗处理引起纯水混合等，从而以低浓度且低温来回收的可能性高。此时，并非添加纯水，而是根据测定浓度与设定浓度的差值，通过加热器h2对借助泵p2循环的处理液l进行加热，使处理液l中的水分蒸发，而使处理液l的浓度上升。
[0146]
若通过加热而处理液l沸腾，则达到饱和温度。蚀刻速率在饱和温度时取得极大值，因此目标浓度被设定在饱和温度即沸点时的饱和浓度附近。但若以沸腾状态的处理液l进行处理，则处理不稳定，因此设定为比沸点稍低的温度。在低浓度侧，可通过加热进行浓度控制。测定浓度与设定浓度的差值越大，则加热器h2越加大输出，由此，能够尽快接近目标浓度。
[0147]
在此种从低浓度通过加热进行的浓度上升中，会引起循环的处理液l的因加热产生的沸腾，因此优选的是，预先使返回回收储槽t2的配管的阻力尽可能小，从而能使因沸腾的蒸气造成的体积膨胀顺利地进行，以防止加热器h2的内压的上升。沸腾而浓度上升的处理液l的温度也上升，因此回收储槽t2内的温度也上升。另外，在回收储槽t2内设置加热器的情况下，有可能在加热器的液体接触部引起沸腾，因此还必须使相对于加热表面积的输出不太大。
[0148]
如图2的[4]、[5]、[6]所示，在回收储槽t2中的处理液l的测定浓度成为目标浓度的情况下，进行仅仅对因从液体表面的水分蒸发引起的浓度上升与温度下降、从借助泵p2的循环管线的散热引起的温度下降进行修正的、纯水的添加与加热，由此，使回收储槽t2的处理液l的浓度与温度稳定地维持在容许范围内。但实际上，进行此种浓度控制，并且根据处理装置100对处理液l的使用来进行处理液l向各储槽t1～t4的补充。
[0149]
对于将此种在储槽t间进行液补充也考虑在内的浓度变化的一例，参照图3来进行说明。图中，处理液l的补充时机rp1～rp4以空心的圆来表示。而且，以虚线表示未进行浓度测定的储槽t的浓度推移。如上所述，当因供给储槽t1的处理液l被供给至处理装置100而供给储槽t1的液面下降时，液面传感器探测到此情况而从缓冲储槽t3补充处理液l。
[0150]
若从缓冲储槽t3补充的处理液l的浓度高于目标浓度，则供给储槽t1的处理液l的浓度将上升为比设定浓度高的浓度。但若补充量比供给储槽t1内的处理液l的量少，则其变化微弱。设想在rp1，在处理液l的补充时进行了缓冲储槽t3的浓度测定的情况，由于利用测定能够确认缓冲储槽t3的浓度变化，因此进行将此变化也包含在内的浓度修正。
[0151]
另一方面，供给储槽t1的处理液l的浓度维持为浓度微微上升的状态，但也能够对
其进行修正。即，能够根据所测定出的缓冲储槽t3的处理液l的浓度与补充量来估算供给储槽t1的浓度变化。通过使用此浓度变化的值来修正供给储槽t1的控制量。但也有可能成为相对于目标浓度而容许的变动范围内的修正，因此是否实施修正，也可在计算后进行判断。即，若浓度变化的量处于目标浓度的范围内，则不进行修正，而若处于目标浓度的范围外，则进行修正。
[0152]
而且，如rp2、rp4那样，在即便不处于缓冲储槽t3中的浓度测定中，但仍有处理液l的补充的情况下，可使用根据所维持的控制量而推测的浓度值来计算浓度变化。此时也为：若浓度变化的量处于目标浓度的范围内，则不进行修正，而若处于目标浓度的范围外，则进行修正。
[0153]
进而，在缓冲储槽t3的处理液l的液量减少而液面下降的情况下进行来自回收储槽t2的液补充的示例为rp3。当因回收储槽t2的处理液l的浓度低于目标浓度而缓冲储槽t3的处理液l的浓度下降时，若以正在持续的浓度的控制量，则在直至下次测定为止的期间内修正也有可能变得过剩。所谓过剩，例如是指纯水的添加量多，而在下次测定时低于目标浓度的状况。此时，减少纯水的添加量而设定为浓度上升的一侧(加热变强的一侧)。但若过度加热，则要再次增加纯水的添加，从而在目标浓度的上下变动。此种状况不能说是稳定的，因此应避免。因此，进行如下所述的控制，即：在接近目标浓度后，使纯水的添加量大致固定。
[0154]
另外，对于缓冲储槽t3或回收储槽t2的处理液l，在也可不要求精细的浓度精度的情况或者能够将储槽t的切换时间设定得短的情况下，有时也可为从开始浓度测定起便修正控制量的方式。这些设定可在确认实际的浓度控制状态后设定。
[0155]
而且，在所述的图2以及图3所示的示例中，对于新液储槽t4的处理液l的浓度测量未作记载。新液储槽t4只要在所补充的新液通过沸腾而达到固定的温度后进行测量便足以，因此只要在成为此状态后，以规定的间隔进行浓度测定即可。尤其，在二氧化矽溶解等需要追加的等待时间的新液制作中，将从变得可补充开始追加固定间隔的测量。
[0156]
[效果]
[0157]
(1)本实施方式是一种处理液供给装置1，对通过处理液l来处理基板w的处理装置100供给处理液l，所述处理液供给装置1具有：多个储槽t，储存处理液l；供给路径s，以处理液l能够在多个储槽t之间流通的方式连接多个储槽t，通过依次经过多个储槽t来对处理装置100供给处理液l；加热部h，对处理液l进行加热；稀释部i，通过稀释液来稀释处理液l；新液供给部j，供给新的处理液l；共同的共同流路c，供多个储槽t的处理液l流通；切换部sw，切换在共同流路c中流通的处理液l是哪个储槽t的处理液l；浓度计d，设在共同流路c中；以及控制装置e，使切换部sw进行切换而使浓度计d测定每个储槽t各自的处理液l的浓度，并控制加热部h、稀释部i以及新液供给部j中的至少一个，以使处理液l的浓度成为规定的目标值。
[0158]
而且，本实施方式是一种处理液供给方法，通过依次经过多个储槽t来将处理液l供给至通过处理液l来处理基板w的处理装置100，其中，通过设在供多个储槽t的处理液l流通的共同的共同流路c中的浓度计d，切换在共同流路c中流通的处理液l的储槽t而测定每个储槽t各自的处理液l的浓度，对加热处理液l的加热部h、稀释处理液l的稀释部i以及供给新的处理液的新液供给部j进行控制，由此来调整处理液l的浓度，以使处理液l的浓度成
为规定的目标值。
[0159]
因此，通过利用一个浓度计d划分为每段时间来测定多个各储槽t的处理液l的浓度，从而能够实质上并列地测定多个储槽t。因而，能够将多个储槽t的浓度计d汇集为一个，能够防止测定值产生因浓度计d的个体差异引起的偏差。由此，能够使各储槽t的处理液l的浓度准确地收敛为目标值，提高处理的均匀性。而且，不再需要为了抑制偏差而调整多个浓度计d的工夫与时间，因此可提高生产效率。进而，不需要对多个储槽t的每一个设置浓度计d，因此结构得以简化，能够降低成本。
[0160]
(2)针对多个储槽t的每一个而设有加热部h、稀释部i以及新液供给部j中的至少一个，以使得能够针对每个储槽t来控制处理液l的浓度。由于能够通过一个浓度计d来测定多个储槽t，并根据各个测定值来各别地控制多个储槽t的处理液l的浓度，因此可根据各储槽t的浓度变动的大小来进行适当的浓度调整。
[0161]
(3)浓度计d的测定的时间间隔是针对多个储槽t的每一个而设定。因此，通过根据各储槽t中的浓度调整所需的调整量的大小的不同来改变每个储槽t的测定的时间间隔的长短、测定的频率，能够容易地收敛为目标值。这样，能够将一个浓度计d有效活用于多个储槽t的浓度测定与浓度控制。
[0162]
(4)控制装置e基于测定值与目标值的差异以及测定值的变化量的其中任一者或两者来算出加热部h的输出以及稀释液的添加量，以控制加热部h以及稀释部i。因此，能够考虑向目标值的收敛，并且也考虑处理液l向各储槽t的补充所引起的变动，来控制处理液l的浓度。
[0163]
(5)多个储槽t包含：供给储槽t1，对处理装置100供给处理液l；回收储槽t2，回收在处理装置100中处理完毕的处理液l；缓冲储槽t3，配置在回收储槽t2与供给储槽t1之间；以及新液储槽t4，供给新的处理液l。因此，例如对于像逐片式的处理装置100那样，需要供给始终稳定的浓度的处理液l的多个储槽t，能够各别地进行最佳控制。
[0164]
[变形例]
[0165]
所述的实施方式也可构成如下所述的变形例。
[0166]
(1)各储槽t只要是储存处理液l的区域即可，未必需要为分离独立的容器。例如，图4中，也可在一个容器50a中设置隔板pa1、隔板pa2，使其中一部分作为回收储槽t2发挥功能，使另一部分作为缓冲储槽t3发挥功能，且使中间作为共用储槽t5发挥功能。在各隔板pa1、pa2，在一部分设有缺口以使处理液l流动，通过泵p2来抽吸回收储槽t2的处理液l，由此，处理液l从共用储槽t5流向回收储槽t2。与此同样地，通过泵p3来抽吸缓冲储槽t3的处理液l，由此，处理液l从共用储槽t5流向缓冲储槽t3。
[0167]
已在处理中使用的使用完毕的处理液l(回收液)通过回收配管r2而流入至回收储槽t2。另外，此回收液是以温度低的状态被回收。并且，通过泵p2来抽吸回收液，利用加热器h2进行加热，并经由供给配管s2输送至共用储槽t5。经所述加热器h2加热的回收液的液温上升，并且因水分的蒸发而浓度上升，因此，作为结果，在流入共用储槽t5时，浓度比回收至回收储槽t2时上升。
[0168]
利用泵p3抽吸的缓冲储槽t3的处理液l被送往供给储槽t1，但供给储槽t1的液面的过剩量经由返回配管r5而返回缓冲储槽t3。供给储槽t1的处理液l进行了加热以及纯水的添加等的控制，以维持为目标浓度。因此，因供给储槽t1中的过剩量返回缓冲储槽t3，而
缓冲储槽t3的处理液l的浓度可能接近供给储槽t1的处理液l的浓度。
[0169]
这样，通过对一个容器50a的一部分进行局部加热，便能够进行浓度控制、温度控制，直至可将处理液l补充至供给储槽t1的状态为止。即便是此种储槽t的结构，通过进行浓度测定和与此相应的加热以及稀释，也能够进行所需的浓度控制。
[0170]
(2)所述的方式中，设为进行所有的储槽t1～储槽t4的浓度测定的设定，但也可仅一部分储槽t不进行浓度测定。例如，由于流入回收储槽t2的回收液并非始终以固定量流入，因此液量会大幅变动。若液量发生变动，则回收储槽t2中的处理液l的浓度也会大幅变动。这样，对于回收储槽t2而言，液量以及浓度的变动大，也有时只要进行缓冲储槽t3中的浓度控制便足以，因此也可不进行回收储槽t2的浓度测定。而且，也可为：对于一部分储槽t，在通常时不进行浓度测定，但在处理液l的补充量与通常不同的情况等有可能引起大的浓度变化的情况下，将基于浓度测定的控制设为有效。
[0171]
(3)所述的方式中，是通过水添加来稀释处理液l，但也可通过追加低浓度的新液来实现稀释即浓度下降。进而，处理液l只要能够将供给至处理装置100时的浓度与温度控制为规定的值即可，因此缓冲储槽t3或回收储槽t2的目标浓度未必需要与供给储槽t1的目标浓度一致。即，也可针对每个储槽t来变更目标浓度。例如，在加热器h1的加热能力高的情况下，缓冲储槽t3的处理液l的温度与浓度也可低。尤其，即便缓冲储槽t3的浓度比供给储槽t1的目标浓度稍低也无问题。这是因为，即便比目标浓度低且温度低的处理液l从缓冲储槽t3流向供给储槽t1，但只要在供给储槽t1侧进行循环加热的加热器h1的加热能力高，便可容易地调整至目标浓度。
[0172]
(4)所述的方式中，共同流路c是以依次切换各储槽t的处理液l来使其流动的结构而表示，但也可在所述共同流路c连接对浓度计d内进行清洗的清洗液供给回路，并编入追加了浓度计d的清洗时间的控制。即，相对于基板处理的次数，每次或每隔规定次数，使来自清洗液供给回路的清洗液流至浓度计d内，通过进行此控制，能够进行浓度计d的清洗。由此，能够实现浓度计d的精度维持以及长寿命化。
[0173]
另外，也可在共同流路c中设置经由阀vz直接排水至排出路z的流路。由此，在浓度计d的清洗时，通过打开阀vz，能够使清洗液流至排出路z。而且，由于从各储槽t向浓度计d的通液的一开始的一定时间为置换之前的处理液l的处理，因此也可设定阀vz的开闭时机，以使处理液不返回储槽t而流至排出路z。
[0174]
[其他实施方式]
[0175]
以上，对本发明的实施方式以及各部的变形例进行了说明，但本实施方式或各部的变形例是作为一例而提示，并不意图限定发明的范围。前述的这些新颖的实施方式能够以其他的各种方式来实施，可在不脱离发明主旨的范围内进行各种省略、置换、变更。这些实施方式或其变形包含在发明的范围或主旨中，并且包含在权利要求所记载的发明中。

技术特征：
1.一种处理液供给装置，对通过处理液来处理基板的处理装置供给所述处理液，所述处理液供给装置具有：多个储槽，储存所述处理液；供给路径，以所述处理液能够在多个所述储槽之间流通的方式连接多个所述储槽，通过依次经过多个所述储槽来对所述处理装置供给所述处理液；加热部，对所述处理液进行加热；稀释部，通过稀释液来稀释所述处理液；新液供给部，供给新的所述处理液；共同的共同流路，供多个所述储槽的所述处理液流通；切换部，切换在所述共同流路中流通的所述处理液是哪个所述储槽的所述处理液；浓度计，设在所述共同流路中；以及控制装置，使所述切换部进行切换而使所述浓度计测定每个所述储槽各自的所述处理液的浓度，并控制所述加热部、所述稀释部以及所述新液供给部中的至少一个，以使所述处理液的浓度成为目标值。2.根据权利要求1所述的处理液供给装置，其中针对多个所述储槽的每一个而设有所述加热部、所述稀释部以及所述新液供给部中的至少一个，以使得能够针对每个所述储槽来控制所述处理液的浓度。3.根据权利要求1或2所述的处理液供给装置，其中所述浓度计的测定的时间间隔是针对多个所述储槽的每一个而设定。4.根据权利要求1至3中任一项所述的处理液供给装置，其中所述控制装置基于所述浓度计的测定值与所述目标值的差异以及所述测定值的变化量的其中任一者或两者，来算出所述加热部的输出以及所述稀释液的添加量，以控制所述加热部以及所述稀释部。5.根据权利要求1至4中任一项所述的处理液供给装置，其中多个所述储槽包含：供给储槽，对所述处理装置供给所述处理液；回收储槽，回收在所述处理装置中处理完毕的所述处理液；缓冲储槽，配置在所述回收储槽与所述供给储槽之间；以及新液储槽，供给新的所述处理液。6.一种基板处理装置，包括：所述处理装置；以及如权利要求1至5中任一项所述的处理液供给装置。7.一种处理液供给方法，通过依次经过多个储槽来将处理液供给至通过所述处理液来处理基板的处理装置，所述处理液供给方法中，通过设在供多个所述储槽的所述处理液流通的共同的共同流路中的浓度计，切换在所述共同流路中流通的所述处理液的所述储槽而测定每个所述储槽各自的所述处理液的浓度，对加热所述处理液的加热部、稀释所述处理液的稀释部以及供给新的所述处理液的新液供给部中的至少一个进行控制，由此来调整所述处理液的浓度，以使所述处理液的浓度
成为目标值。8.根据权利要求7所述的处理液供给方法，其中通过控制所述加热部、所述稀释部以及所述新液供给部中的至少一个，针对每个所述储槽来调整所述处理液的浓度。9.根据权利要求7或8所述的处理液供给方法，其中借助所述浓度计所进行的测定的时间间隔是针对每个所述储槽而设定的时间间隔。

技术总结
本发明提供一种处理液供给装置、基板处理装置以及处理液供给方法，能够抑制成本而防止各储槽中的处理液的浓度的测定值产生偏差，从而能够调整所供给的处理液的浓度。实施方式是一种处理液供给装置，其连接于基板的处理装置，处理液供给装置具有：多个储槽；供给路径，通过依次经过多个储槽来对处理装置供给处理液；加热部，对处理液进行加热；稀释部，对处理液进行稀释；新液供给部，供给新液；共同的共同流路，供多个储槽的处理液流通；切换部，切换共同流路的处理液是哪个储槽的处理液；浓度计，设于共同流路；以及控制装置，使浓度计测定每个储槽的处理液的浓度，并控制加热部、稀释部以及新液供给部中的至少一个，以使浓度成为规定的目标值。定的目标值。定的目标值。


技术研发人员：古矢正明 小林浩秋 森秀树
受保护的技术使用者：芝浦机械电子装置株式会社
技术研发日：2023.03.07
技术公布日：2023/9/13