低反射率镜片的制作方法

1.本实用新型涉及光学元件技术领域，具体涉及一种低反射率镜片。


背景技术：

2.光线通过镜片的前后表面时，不但会产生折射，还会产生反射。这种在镜片前表面产生的反射光会使别人看戴镜者眼睛时，看到的却是镜片表面一片白光。拍照时，这种反光还会严重影响戴镜者的美观。
3.常规镜片表面加工方式是通过镀ar膜(增透膜)来降低镜片表面的反射率，受镀膜膜材的折射率影响，经过镀膜方式的镜片表面反射率只能做到0.5％以内，且受限于波段，无法做到400-1100nm全波段低反射。因此，现有技术中，反射率太高在成像过程中会有光线多次反射形成杂光，最终影响成像质量，且更高端的成像设备中反射率在0.5％时已经严重影响成像质量。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种低反射率镜片，以实现镜片表面的反射率在380-1100nm波段内小于0.1％，提升成像质量的目的。
5.为实现上述实用新型目的，本实用新型提供一种低反射率镜片，包括基板以及依次设置于所述基板上的膜层和涂布层；
6.所述涂布层的折射率在1.1-1.3之间。
7.在上述任一技术方案中，所述膜层由高折射率膜、低折射率膜交替排列形成。
8.在上述任一技术方案中，所述高折射率膜的材料的折射率在2.0以上，所述低折射率膜的材料的折射率在1.3-1.9之间。
9.在上述任一技术方案中，所述高折射率膜厚度h1、所述低折射率膜厚度h2与所述涂布层厚度h3之间的比值满足如下关系：
10.h1:h2:h3＝(200
±
40):(250
±
65):(120
±
25)。
11.在上述任一技术方案中，所述低反射率镜片在400-1100nm波段下反射率小于0.1％。
12.在上述任一技术方案中，任一层所述高折射率膜由氧化钛或氧化钽中一种或多种组成；
13.任一层所述低折射率膜由氧化硅、氧化铝、氟化镁、氧化镁中一种或多种组成。
14.在上述任一技术方案中，所述涂布层为至少包括水、无机硅化合物、烷氧基烷醇、烷氧基-烷基烷醇、2-丙醇、甲基三乙氧基硅烷中两种及两种以上的混合物。
15.在上述任一技术方案中，所述基板为白玻璃、表面钢化处理的白玻璃、bg玻璃、有色玻璃或光学塑料。
16.在上述任一技术方案中，所述基板未设置所述膜层和所述涂布层的另一面的膜系种类为蒸镀ir-cut、bpf或者hr膜系。
17.根据本实用新型的构思，通过在基板上依次设置膜层和涂布层，并合理的配置涂布层的折射率，实现了镜片表面的反射率在380-1100nm波段内小于0.1％，保证成像质量，可以应用至各类可见光、红外产品的场景，拓展产品应用范围，提升市场竞争力。
18.根据本实用新型的方案，通过合理配置折射率膜厚度、低折射率膜厚度及涂布层厚度之间的比值，有利于保证低反射率镜片的应力平衡。
附图说明
19.图1示意性表示本实用新型的一种实施方式的低反射率镜片的结构图；
20.图2示意性表示本实用新型的实施例1中的低反射率镜片的反射光谱图；
21.图3示意性表示本实用新型的实施例2中的低反射率镜片的反射光谱图；
22.图4示意性表示本实用新型的实施例3中的低反射率镜片的反射光谱图。
23.附图标记：
24.10、基板；20、膜层；30、涂布层。
具体实施方式
25.为了更清楚地说明本实用新型实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
26.在针对本实用新型的实施方式进行描述时，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本实用新型的限制。
27.下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作详细地描述，实施方式不能在此一一赘述，但本实用新型的实施方式并不因此限定于以下实施方式。
28.参见图1，本实用新型的低反射率镜片，包括基板10以及依次设置于基板10上的膜层20和涂布层30；
29.涂布层30的折射率在1.1-1.3之间。
30.通过在基板10上依次设置膜层20和涂布层30，并合理的配置涂布层30的折射率，实现了镜片表面的反射率在380-1100nm波段内小于0.1％，保证成像质量，可以应用至各类可见光、红外产品的场景，拓展产品应用范围，提升市场竞争力。
31.在本实用新型的一个实施例中，优选地，膜层20由高折射率膜、低折射率膜交替排列形成。
32.在该实施例中，高折射率膜、低折射率膜的层数可以设置成对应相等的数量，如同样设置成10-50对，也可以设置成高折射率膜比低折射率膜多一层或高折射率膜比低折射率膜少一层；其中，可以设置高折射率膜与涂布层30接触，也可以设置低折射率膜与涂布层30接触。
33.在本实用新型的一个实施例中，优选地，高折射率膜的材料的折射率在2.0以上，
低折射率膜的材料的折射率在1.3-1.9之间。
34.在本实用新型的一个实施例中，优选地，高折射率膜厚度h1、低折射率膜厚度h2与涂布层30厚度h3之间的比值满足如下关系：
35.h1:h2:h3＝(200
±
40):(250
±
65):(120
±
25)。
36.通过合理配置折射率膜厚度、低折射率膜厚度及涂布层30厚度之间的比值，有利于保证低反射率镜片的应力平衡。
37.在本实用新型的一个实施例中，优选地，任一层高折射率膜由氧化钛或氧化钽中一种或多种组成；
38.任一层低折射率膜由氧化硅、氧化铝、氟化镁、氧化镁中一种或多种组成。
39.在本实用新型的一个实施例中，优选地，涂布层30为至少包括水、无机硅化合物、烷氧基烷醇、烷氧基-烷基烷醇、2-丙醇、甲基三乙氧基硅烷中两种及两种以上的混合物。
40.在本实用新型的一个实施例中，优选地，基板10为市面常见的白玻璃、表面钢化处理的白玻璃、bg玻璃、有色玻璃或光学塑料。
41.在本实用新型的一个实施例中，优选地，未设置膜层20和涂布层30的基板10的另一面的膜系种类为蒸镀ir-cut、bpf或者hr膜系。
42.以下以三种实施方式来详细描述本实用新型的低反射率镜片：
43.实施例1
44.在该实施例中，基板10为bg玻璃，膜料选取氟化镁、氧化硅、氧化钛，涂布层30选取折射率为1.2的涂布液体。
45.基板10选取bg玻璃，与bg玻璃接触的为氟化镁材料，与氟化镁材料接触的为氧化钛材料，与氧化钛材料接触的为氧化硅，最外层为折射率n值为1.2的涂布液体，与涂布液体接触的为氧化钛。膜层20结构详见表1。
46.表1
47.bg玻璃膜料名称厚度/nm1氟化镁20.092氧化钛6.763氧化硅714氧化钛15.165氧化硅52.436氧化钛29.387氧化硅27.218氧化钛52.199氧化硅1010氧化钛62.5211氧化硅22.8312氧化钛28.5313氧化硅64.8714氧化钛9.7215涂布液140.43
48.如图2所示，以实施例1中的结构得到的低反射率镜片，在400-1100nm波段内的反射率降低至0.1％。
49.实施例2
50.在该实施例中，基板10为bg玻璃，膜料选取氟化镁、氧化硅、氧化钽，涂布层30选取折射率为1.2的涂布液体。
51.基板10选取bg玻璃，与bg玻璃接触的为氟化镁材料，与氟化镁材料接触的为氧化钽材料，与氧化钽材料接触的为氧化硅，最外层为折射率n值为1.2的涂布液体，与涂布液体接触的为氧化硅。膜层20结构详见表2。
52.表2
[0053][0054][0055]
如图3所示，以实施例2中的结构得到的低反射率镜片，在400-1100nm波段内的反射率降低至0.1％。
[0056]
实施例3
[0057]
在该实施例中，基板10为白玻璃，膜料选取氧化硅、氧化钽，涂布层30选取折射率为1.2的涂布液体。
[0058]
基板10选取白玻璃，与白玻璃接触的为氧化硅材料，与氧化硅材料接触的为氧化钽材料，与氧化钽材料接触的为氧化硅，最外层为折射率n值为1.2的涂布液体，与涂布液体接触的为氧化钽。膜层20结构详见表3。
[0059]
表3
[0060][0061][0062]
如图4所示，以实施例3中的结构得到的低反射率镜片，在400-1100nm波段内的反射率降低至0.1％。
[0063]
本实用新型的低反射率镜片的制备方法中，包括以下步骤：
[0064]
在基板10的一个面上镀制膜层20，膜层20镀制时使用高能离子源进行辅助，保证膜层的致密性极高，进一步替身膜层的耐候性；
[0065]
在膜层20上旋涂涂布液体形成涂布层30；以及
[0066]
在基板10的另一个面上蒸镀红外截止膜、带通膜或高反射率膜。
[0067]
在该实施例中，以上述方法制备低反射率镜片，能够确保在涂布时镜片比较平整，有效保证涂布液体厚度的均匀性，进一步的保证产品的光学性能波动量小。
[0068]
在本发明的一个实施例中，优选地，基板10的镀膜温度小于120℃，镀膜温度需要控制在120℃以下，同步辅助以高能离子源保证膜层的耐候性。
[0069]
以上述方法制造的镜片，实现了镜片表面的反射率在380-1100nm波段内小于0.1％，保证成像质量，可以应用至各类可见光、红外产品的场景，拓展产品应用范围，提升市场竞争力。
[0070]
以上所述仅为本实用新型的一个实施方式而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包括在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：
1.一种低反射率镜片，其特征在于，包括基板(10)以及依次设置于所述基板(10)上的膜层(20)和涂布层(30)；所述涂布层(30)的折射率在1.1-1.3之间。2.根据权利要求1所述的低反射率镜片，其特征在于，所述膜层(20)由高折射率膜、低折射率膜交替排列形成。3.根据权利要求2所述的低反射率镜片，其特征在于，所述高折射率膜的材料的折射率大于或等于2.0，所述低折射率膜的材料的折射率在1.3-1.9之间。4.根据权利要求2所述的低反射率镜片，其特征在于，所述高折射率膜的厚度h1、所述低折射率膜的厚度h2与所述涂布层(30)的厚度h3之间的比值满足如下关系：h1:h2:h3＝(200
±
40):(250
±
65):(120
±
25)。5.根据权利要求1所述的低反射率镜片，其特征在于，所述低反射率镜片在400-1100nm波段下反射率小于0.1％。6.根据权利要求1所述的低反射率镜片，其特征在于，所述基板(10)为白玻璃、bg玻璃、有色玻璃或光学塑料。7.根据权利要求1所述的低反射率镜片，其特征在于，所述基板(10)未设置所述膜层(20)和所述涂布层(30)的另一面的膜为红外截止膜、带通膜或高反射率膜。

技术总结
本实用新型涉及一种低反射率镜片，低反射率镜片包括基板以及依次设置于所述基板上的膜层和涂布层；所述涂布层的折射率在1.1-1.3之间。本实用新型的低反射率镜片，实现了镜片表面的反射率在380-1100nm波段内小于0.1％，保证成像质量，可以应用至各类可见光、红外产品的场景，拓展产品应用范围，提升市场竞争力。提升市场竞争力。提升市场竞争力。


技术研发人员：贺倩倩 方叶庆 马科 郭景朝 韩晓卫 张见宝 王佳嘉 杨伟 丁维红 霍恒 王立平 黎普超
受保护的技术使用者：信阳舜宇光学有限公司
技术研发日：2023.03.24
技术公布日：2023/9/16