一种硅片清洗专用架的制作方法

1.本实用新型涉及硅片清洗技术领域，特别是涉及一种硅片清洗专用架。


背景技术：

2.在半导体器件生产中，大约有20％的工序与硅片清洗有关。硅片经过切片、倒角、研磨、表面处理、抛光、外延等不同工序加工后，表面已经受到严重的污染，清洗的目的就是为了去除硅片表面颗粒、金属离子以及有机物等污染。
3.经检索，中国专利公开号为cn206742270u的专利公开了一种太阳能硅片清洗架，其主要是通过对放置在清洗专用架上的硅片进行固定限位，从而避免在清洗时硅片发生碰撞损坏。
4.上述专利中装有硅片的清洗专用架放置在清洗机中，在对硅片进行冲洗时，水流从两个硅片之间穿过时，水流朝向一个方向流动，会造成相邻的两个硅片相互吸引粘连在一起，对硅片的清洗造成影响，容易造成硅片的破损。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种硅片清洗专用架。
6.本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：
7.一种硅片清洗专用架，包括防粘连单元和放置架；所述放置架的上下表面均设置有支座，外部取料机械手通过支座对放置架进行搬运移动，所述放置架的侧面设置有调节单元，所述放置架的两侧分别滑动连接有锯齿架，所述锯齿架连接所述调节单元，两个所述锯齿架的相对侧面上均等距离设置有插片槽、凹槽和所述防粘连单元，通过放置架对锯齿架进行支撑限位，通过调节单元对锯齿架进行一定范围内的移动，从而对两个锯齿架上插片槽之间的距离进行调整，从而对能够对一定尺寸范围内的不同尺寸硅片进行支撑放置，把硅片放置进插片槽内，通过凹槽减少硅片和插片槽的接触面积，使得水流能够通过凹槽进入到插片槽内，从而方便对插片槽内的硅片部位进行清洗，所述防粘连单元包括有通槽、滑座和线绳，所述通槽贯穿所述锯齿架和所述放置架，所述放置架上的所述通槽内等距离设置有滑杆，所述滑杆位于相邻的两个所述插片槽之间，所述滑杆上套接有弹簧一，所述弹簧一连接所述锯齿架和所述滑座，所述滑座的两侧倾斜设置有导流板，所述滑座滑动连接所述滑杆，所述滑座内设置有收卷组件，所述线绳的两端分别连接所述滑座内的所述收卷组件，装有硅片的放置架放置在清洗机中，清洗中的水流流动对硅片进行清洗时，水流通过倾斜设置的导流板对滑座施加作用力，使得滑座沿着滑杆进行滑动，并对弹簧一进行拉伸，再通过弹簧一的弹力对滑座反向拉伸，从而使得两个滑座沿着滑杆往复移动，使得两个滑座之间的距离进行变化，滑座通过收卷组件对线绳进行收放，使得线绳在相邻的两个硅片之间进行移动，并通过收卷组件对线绳进行张紧，避免线绳触碰到硅片，通过线绳对相邻两个硅片之间的水流流向进行扰乱，避免两个相邻的硅片因水流流向一致导致硅片粘连在一起影响清洗的效率或损伤硅片，从而能够更好的对硅片进行清洗，保证清洗的效率。
8.进一步的，所述收卷组件包括扭力弹簧和放置腔，所述放置腔设置在所述滑座内，所述放置腔内转动连接有转轴，所述转轴连接卷轮，所述卷轮连接所述线绳，所述扭力弹簧套接在所述转轴上，所述扭力弹簧的两端分别连接所述卷轮和所述滑座，两个滑座之间处于最短距离时，线绳位于两个硅片之间的部分处于水平状态，此时扭力弹簧处于正常状态，当两个滑座之间的距离变长时，线绳对卷轮进行拉拽，使得卷轮发生转动，卷轮对线绳进行放线，卷轮转动时，扭力弹簧受力变形，并对线绳施加反向作用力，从而使得线绳处于绷紧状态，避免线绳因延长触碰到硅片，保证线绳不与硅片接触，避免线绳对硅片造成损坏。
9.进一步的，所述放置架包括盖板，所述盖板共两个且分别连接支撑板和侧挡板的上下两端，所述盖板滑动连接所述锯齿架，所述侧挡板位于所述支撑板的两侧，所述侧挡板上设置有所述通槽，通过盖板、支撑板和侧挡板对锯齿架进行支撑限位，通过支撑板对放置在锯齿架上的硅片进行限位。
10.进一步的，所述调节单元包括有双向螺杆和导向杆，所述双向螺杆的两端螺纹方向相反，所述双向螺杆转动连接所述支撑板，所述双向螺杆的两端相反螺纹分别螺纹连接两个所述锯齿架，所述双向螺杆的端部设置有旋钮，所述导向杆设置在所述支撑板的两侧，且分别滑动连接两个所述导向杆，通过双向螺杆带动两个锯齿架移动，从而对两个锯齿架之间的距离进行调整，方便更好的对硅片进行放置，从而使得锯齿架能够对一定尺寸变化范围内的不同尺寸硅片进行放置支撑，通过导向杆对锯齿架移动时进行限位和导向。
11.进一步的，还包括缓冲单元，所述缓冲单元包括有弹簧二，所述弹簧二套接在所述支座上，所述弹簧二的两端分别连接防护罩和所述盖板，所述防护罩滑动连接所述支座和收纳槽，所述收纳槽设置在所述盖板上，防护罩和收纳槽均为锥台型，放置架放置进清洗机时，放置架处于水平放置，外部取料机械手通过支座对放置架进行移动时，通过弹簧二和防护罩对放置架在外部取料机械手上进行缓冲保护，避免取料过程中外部取料机械手和放置架碰撞对硅片造成损伤。
12.进一步的，还包括减震块和缓冲垫，所述减震块设置在所述盖板上和所述支撑板相平齐的侧面上，通过减震块对盖板进行缓冲保护，避免把硅片放置进清洗机时，因盖板碰撞到清洗机出现的颠簸造成硅片破损，所述缓冲垫设置在所述支撑板上，且所述缓冲垫位于两个所述锯齿架之间，通过缓冲垫对硅片进行缓冲保护，避免硅片放置时碰撞到支撑板发生损坏。
13.与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
14.1、清洗机内的水流通过倾斜设置的导流板对滑座施加作用力，通过滑杆和弹簧一使得滑座进行往复移动，从而带动线绳在相邻的两个硅片之间进行移动，避免两个相邻的硅片因水流流向一致导致硅片粘连在一起影响清洗的效率或损伤硅片，从而能够更好的对硅片进行清洗，保证清洗的效率，同时，通过扭力弹簧、转轴和卷轮使得线绳处于绷紧状态，避免线绳因延长触碰到硅片对硅片造成损伤。
15.2、通过旋钮和双向螺杆带动锯齿架移动，从而对相对应的两个插片槽之间的宽度进行调整，从而能够根据需求对一定尺寸变化范围内的不同尺寸硅片进行插片放置支撑，不需要频繁更换锯齿架，提高了适用范围。
附图说明
16.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1是本实用新型所述一种硅片清洗专用架的竖向放置时的整体结构示意图；
18.图2是本实用新型所述一种硅片清洗专用架的图1中a处局部放大结构示意图；
19.图3是本实用新型所述一种硅片清洗专用架的侧视结构示意图；
20.图4是本实用新型所述一种硅片清洗专用架的俯视剖面结构示意图；
21.图5是本实用新型所述一种硅片清洗专用架的图4中b处局部放大结构示意图；
22.图6是本实用新型所述一种硅片清洗专用架的横向放置时的整体结构示意图；
23.图7是本实用新型所述一种硅片清洗专用架的图6中c处局部放大结构示意图；
24.图8是本实用新型所述一种硅片清洗专用架的局部剖面结构示意图；
25.附图标记说明如下：
26.1、支座；2、防粘连单元；21、通槽；22、滑杆；23、弹簧一；24、滑座；25、导流板；26、扭力弹簧；27、转轴；28、卷轮；29、线绳；210、放置腔；3、放置架；31、盖板；32、支撑板；33、侧挡板；4、调节单元；41、导向杆；42、双向螺杆；43、旋钮；5、缓冲单元；51、收纳槽；52、弹簧二；53、防护罩；6、锯齿架；7、插片槽；8、凹槽；9、减震块；10、缓冲垫。
实施方式
27.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
28.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
29.下面结合附图对本实用新型作进一步说明：
实施例
30.如图1-图8所示，一种硅片清洗专用架，包括防粘连单元2和放置架3；放置架3的上下表面均设置有支座1，外部取料机械手通过支座1对放置架3进行搬运移动，放置架3的侧面设置有调节单元4，放置架3的两侧分别滑动连接有锯齿架6，锯齿架6连接调节单元4，两
个锯齿架6的相对侧面上均等距离设置有插片槽7、凹槽8和防粘连单元2，通过放置架3对锯齿架6进行支撑限位，通过调节单元4对锯齿架6进行一定范围内的移动，从而对两个锯齿架6上插片槽7之间的距离进行调整，从而对能够对一定尺寸范围内的不同尺寸硅片进行支撑放置，把硅片放置进插片槽7内，通过凹槽8减少硅片和插片槽7的接触面积，使得水流能够通过凹槽8进入到插片槽7内，从而方便对插片槽7内的硅片部位进行清洗，防粘连单元2包括有通槽21、滑座24和线绳29，通槽21贯穿锯齿架6和放置架3，放置架3上的通槽21内等距离设置有滑杆22，滑杆22位于相邻的两个插片槽7之间，滑杆22上套接有弹簧一23，弹簧一23连接锯齿架6和滑座24，滑座24的两侧倾斜设置有导流板25，滑座24滑动连接滑杆22，滑座24内设置有收卷组件，线绳29的两端分别连接滑座24内的收卷组件，装有硅片的放置架3放置在清洗机中，清洗中的水流流动对硅片进行清洗时，水流通过倾斜设置的导流板25对滑座24施加作用力，使得滑座24沿着滑杆22进行滑动，并对弹簧一23进行拉伸，再通过弹簧一23的弹力对滑座24反向拉伸，从而使得两个滑座24沿着滑杆22往复移动，使得两个滑座24之间的距离进行变化，滑座24通过收卷组件对线绳29进行收放，使得线绳29在相邻的两个硅片之间进行移动，并通过收卷组件对线绳29进行张紧，避免线绳29触碰到硅片，通过线绳29对相邻两个硅片之间的水流流向进行扰乱，避免两个相邻的硅片因水流流向一致导致硅片粘连在一起影响清洗的效率或损伤硅片，从而能够更好的对硅片进行清洗，保证清洗的效率。
31.收卷组件包括扭力弹簧26和放置腔210，放置腔210设置在滑座24内，放置腔210内转动连接有转轴27，转轴27连接卷轮28，卷轮28连接线绳29，扭力弹簧26套接在转轴27上，扭力弹簧26的两端分别连接卷轮28和滑座24，两个滑座24之间处于最短距离时，线绳29位于两个硅片之间的部分处于水平状态，此时扭力弹簧26处于正常状态，当两个滑座24之间的距离变长时，线绳29对卷轮28进行拉拽，使得卷轮28发生转动，卷轮28对线绳29进行放线，卷轮28转动时，扭力弹簧26受力变形，并对线绳29施加反向作用力，从而使得线绳29处于绷紧状态，避免线绳29因延长触碰到硅片，保证线绳29不与硅片接触，避免线绳29对硅片造成损坏。
32.放置架3包括盖板31，盖板31共两个且分别连接支撑板32和侧挡板33的上下两端，盖板31滑动连接锯齿架6，侧挡板33位于支撑板32的两侧，侧挡板33上设置有通槽21，通过盖板31、支撑板32和侧挡板33对锯齿架6进行支撑限位，通过支撑板32对放置在锯齿架6上的硅片进行限位。
33.调节单元4包括有双向螺杆42和导向杆41，双向螺杆42的两端螺纹方向相反，双向螺杆42转动连接支撑板32，双向螺杆42的两端相反螺纹分别螺纹连接两个锯齿架6，双向螺杆42的端部设置有旋钮43，导向杆41设置在支撑板32的两侧，且分别滑动连接两个导向杆41，通过旋钮43转动双向螺杆42，通过双向螺杆42带动两个锯齿架6移动，从而对两个锯齿架6之间的距离进行调整，方便更好的对硅片进行放置，从而使得锯齿架6能够对一定尺寸变化范围内的不同尺寸硅片进行放置支撑，通过导向杆41对锯齿架6移动时进行限位和导向。
34.还包括缓冲单元5，缓冲单元5包括有弹簧二52，弹簧二52套接在支座1上，弹簧二52的两端分别连接防护罩53和盖板31，防护罩53滑动连接支座1和收纳槽51，收纳槽51设置在盖板31上，防护罩53和收纳槽51均为锥台型，放置架3放置进清洗机时，放置架3处于水平
放置，外部取料机械手通过支座1对放置架3进行移动时，通过弹簧二52和防护罩53对放置架3在外部取料机械手上进行缓冲保护，避免取料过程中外部取料机械手和放置架3碰撞对硅片造成损伤。
35.还包括减震块9和缓冲垫10，减震块9设置在盖板31上和支撑板32相平齐的侧面上，通过减震块9对盖板31进行缓冲保护，避免把硅片放置进清洗机时，因盖板31碰撞到清洗机出现的颠簸造成硅片破损，缓冲垫10设置在支撑板32上，且缓冲垫10位于两个锯齿架6之间，通过缓冲垫10对硅片进行缓冲保护，避免硅片放置时碰撞到支撑板32发生损坏。
36.工作原理：根据需要放置清洗的硅片尺寸，转动旋钮43，通过旋钮43带动双向螺杆42转动，通过双向螺杆42带动两个锯齿架6移动，从而对相对应的两个插片槽7之间的宽度进行调整，把放置架3竖直放置，通过支座1对放置架3进行支撑，把需要清洗的硅片依次插入进插片槽7内，通过缓冲垫10对硅片进行防护，避免硅片放置时碰撞到支撑板32发生损坏，插片时，两个滑座24之间处于最短距离时，线绳29位于两个硅片之间的部分处于水平状态，硅片放置完成后，通过支座1把放置架3水平放置，并使得支撑板32位于硅片的下方，放置架3的开口方向向上，通过减震块9对盖板31进行支撑，外部取料机械手通过支座1把放置架3移动进清洗机内，移动过程中，通过弹簧二52和防护罩53对放置架3在外部取料机械手上进行缓冲保护，避免取料过程中外部取料机械手和放置架3碰撞对硅片造成损伤，装有硅片的放置架3放置进清洗机内，清洗中的水流流动对硅片进行清洗时，水流通过倾斜设置的导流板25对滑座24施加作用力，使得滑座24沿着滑杆22进行滑动，并对弹簧一23进行拉伸，再通过弹簧一23的弹力对滑座24反向拉伸，从而使得两个滑座24沿着滑杆22往复移动，使得两个滑座24之间的距离进行变化，当两个滑座24之间的距离变长时，线绳29对卷轮28进行拉拽，使得卷轮28发生转动，卷轮28对线绳29进行放线，卷轮28转动时，扭力弹簧26受力变形，并对线绳29施加反向作用力，从而使得线绳29处于水平绷紧状态，避免线绳29因延长触碰到硅片，通过线绳29对相邻两个硅片之间的水流流向进行扰乱，避免两个相邻的硅片因水流流向一致导致硅片粘连在一起影响清洗的效率或损伤硅片。
37.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。

技术特征：
1.一种硅片清洗专用架，其特征在于，包括：防粘连单元（2）和放置架（3）；所述放置架（3）的上下表面均设置有支座（1），所述放置架（3）的侧面设置有调节单元（4），所述放置架（3）的两侧分别滑动连接有锯齿架（6），所述锯齿架（6）连接所述调节单元（4），两个所述锯齿架（6）的相对侧面上均等距离设置有插片槽（7）、凹槽（8）和所述防粘连单元（2），所述防粘连单元（2）包括有通槽（21）、滑座（24）和线绳（29），所述通槽（21）贯穿所述锯齿架（6）和所述放置架（3），所述放置架（3）上的所述通槽（21）内等距离设置有滑杆（22），所述滑杆（22）位于相邻的两个所述插片槽（7）之间，所述滑杆（22）上套接有弹簧一（23），所述弹簧一（23）连接所述锯齿架（6）和所述滑座（24），所述滑座（24）的两侧倾斜设置有导流板（25），所述滑座（24）滑动连接所述滑杆（22），所述滑座（24）内设置有收卷组件，所述线绳（29）的两端分别连接所述滑座（24）内的所述收卷组件。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗专用架，其特征在于：所述收卷组件包括扭力弹簧（26）和放置腔（210），所述放置腔（210）设置在所述滑座（24）内，所述放置腔（210）内转动连接有转轴（27），所述转轴（27）连接卷轮（28），所述卷轮（28）连接所述线绳（29），所述扭力弹簧（26）套接在所述转轴（27）上，所述扭力弹簧（26）的两端分别连接所述卷轮（28）和所述滑座（24）。3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗专用架，其特征在于：所述放置架（3）包括盖板（31），所述盖板（31）共两个且分别连接支撑板（32）和侧挡板（33）的上下两端，所述盖板（31）滑动连接所述锯齿架（6），所述侧挡板（33）位于所述支撑板（32）的两侧，所述侧挡板（33）上设置有所述通槽（21）。4.根据权利要求3所述的一种硅片清洗专用架，其特征在于：所述调节单元（4）包括有双向螺杆（42）和导向杆（41），所述双向螺杆（42）的两端螺纹方向相反，所述双向螺杆（42）转动连接所述支撑板（32），所述双向螺杆（42）的两端相反螺纹分别螺纹连接两个所述锯齿架（6），所述双向螺杆（42）的端部设置有旋钮（43），所述导向杆（41）设置在所述支撑板（32）的两侧，且分别滑动连接两个所述导向杆（41）。5.根据权利要求3所述的一种硅片清洗专用架，其特征在于：还包括缓冲单元（5），所述缓冲单元（5）包括有弹簧二（52），所述弹簧二（52）套接在所述支座（1）上，所述弹簧二（52）的两端分别连接防护罩（53）和所述盖板（31），所述防护罩（53）滑动连接所述支座（1）和收纳槽（51），所述收纳槽（51）设置在所述盖板（31）上。6.根据权利要求3所述的一种硅片清洗专用架，其特征在于：还包括减震块（9）和缓冲垫（10），所述减震块（9）设置在所述盖板（31）上和所述支撑板（32）相平齐的侧面上，所述缓冲垫（10）设置在所述支撑板（32）上，且所述缓冲垫（10）位于两个所述锯齿架（6）之间。

技术总结
本实用新型公开了一种硅片清洗专用架，涉及硅片清洗技术领域，包括防粘连单元和放置架；所述放置架的上下表面均设置有支座，外部取料机械手通过支座对放置架进行搬运移动，所述放置架的侧面设置有调节单元，所述放置架的两侧分别滑动连接有锯齿架，所述锯齿架连接所述调节单元，所述两个锯齿架的相对侧面上均等距离设置有插片槽、凹槽和所述防粘连单元。有益效果在于：本实用新型，通过导流板、滑座和卷轮使得线绳处于绷紧状态，避免线绳触碰到硅片，通过导流板、滑座、滑杆和弹簧一使得线绳在相邻的两个硅片之间进行移动，对两个相邻硅片之间水流进行扰乱，避免水流使得硅片粘连从而影响硅片清洗的质量。影响硅片清洗的质量。影响硅片清洗的质量。


技术研发人员：邹俊卓 姜电华 昝将林 王志勇
受保护的技术使用者：河南省华兴隆新能源科技有限公司
技术研发日：2023.05.29
技术公布日：2023/9/23