芯片光刻装置的制作方法

1.本发明涉及光刻处理领域，特别涉及一种芯片光刻装置。


背景技术：

2.众所周知，在芯片的生产制造过程中，单面数字化光刻系统通常需要对第一面和第二面采取至少两次曝光，并且在对第一面进行曝光之后需进行翻转操作，进行第二面的曝光。因此，在曝光的过程中需要多次对基板进行翻转。然而，目前对基板的翻转作业通常具有效率低下和对位不准的问题。


技术实现要素：

3.本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种芯片光刻装置，能够更加高效、准确地进行翻转作业。
4.根据本发明的第一方面实施例的芯片光刻装置，包括：机台、位移平台、光刻机构和翻转机构；位移平台设置于所述机台，所述位移平台上设置有用于承载电路板的治具盘，所述治具盘的两侧均具有镂空的光刻位；光刻机构设置于所述机台，所述光刻机构用于对所述治具盘上的光刻位进行光刻作业；翻转机构设置于所述机台，所述位移平台能够带动所述治具盘运动靠近或远离所述翻转机构，所述翻转机构包括至少两个能够带动所述治具盘运动的轮转架，所述翻转机构用于带动各个所述轮转架依次翻转并依次运动靠近或远离所述位移平台。
5.根据本发明实施例的芯片光刻装置，至少具有如下有益效果：光刻机构通过治具盘上镂空的光刻位对治具盘上的电路板的一面进行光刻处理后，位移平台可以带动治具盘运动远离光刻机构，并使得治具盘被运送至轮转架上。随后，翻转机构将能够带动轮转架进行翻转。在此过程的持续下，各个所述轮转架上均会搭载有治具盘。因此，在翻转机构的持续运作下，各个轮转架上的治具盘能够有序地依次进行翻转并逐个前往光刻机构处进行光刻作业，从而使得光刻作业中的翻转过程不仅可以更加有序、准确地进行，并且可以通过各个轮转架的一并翻转，实现对多个治具盘的一并翻转效果，进而可以有效地达到提高翻转效率的效果。
6.根据本发明的一些实施例，所述光刻机构和所述翻转机构分别位于所述位移平台的两侧，所述位移平台用于带动所述治具盘往复运动于所述光刻机构和所述翻转机构之间。
7.根据本发明的一些实施例，所述位移平台包括第一电机和丝杆螺母副，所述第一电机通过所述丝杆螺母副连接有位移座；所述位移座设置有固定夹爪，所述治具盘安装于所述固定夹爪内。
8.根据本发明的一些实施例，所述光刻机构包括设置于所述机台上的安装架，所述安装架连接有调节组件，所述调节组件连接有空间光调制器并能够带动其相对于所述安装架进行位移。
9.根据本发明的一些实施例，所述调节组件包括第一气缸、第二气缸和第三气缸，所述第一气缸、所述第二气缸和所述第三气缸的朝向两两相异且依次连接；所述第三气缸连接有连接架，所述空间光调制器设置于所述连接架处。
10.根据本发明的一些实施例，所述安装架位于所述位移平台的上方，所述第一气缸、所述第二气缸和所述第三气缸的其中之一指向于其自身的下方，所述位移平台沿水平方向带动所述治具盘位移。
11.根据本发明的一些实施例，所述翻转机构包括设置于所述机台的底架，所述底架设置有连接臂和驱动装置，所述驱动装置与所述连接臂连接并能够带动其翻转，各个所述轮转架均安装于所述连接臂。
12.根据本发明的一些实施例，所述轮转架上设置有吸盘组并能够通过所述吸盘组吸附所述治具盘。
13.根据本发明的一些实施例，所述机台具有取料位，所述光刻机构和所述取料位分别位于所述连接臂的两侧；所述驱动装置连接于所述连接臂的中部；所述轮转架为两个且分别连接于所述连接臂的两端。
14.根据本发明的一些实施例，所述连接臂的端部连接有第二电机，所述第二电机与所述轮转架连接并能够驱动其相对于所述连接臂翻转。
15.本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
16.本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
17.图1为本发明实施例的芯片光刻装置的示意图；
18.图2为图1示出的芯片光刻装置的光刻机构的示意图；
19.图3为图1示出的芯片光刻装置的位移平台的示意图；
20.图4为图1示出的芯片光刻装置的翻转机构的示意图；
21.图5为图1示出的芯片光刻装置的连接臂的示意图。
22.附图标记：机台100；取料位150；位移平台200；第一电机210；传动带220；丝杆螺母副230；位移座240；固定夹爪250；翻转机构300；底架310；连接臂320；转轴330；第二电机340；轮转架350；驱动装置360；治具盘400；光刻机构500；安装架510；连接架520；调节组件530；第一气缸531；第二气缸532；第三气缸533；空间光调制器550；
具体实施方式
23.下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
24.在本发明的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和
操作，因此不能理解为对本发明的限制。
25.在本发明的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
26.本发明的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本发明中的具体含义。
27.参照图1，一种芯片光刻装置，包括：机台100、位移平台200、光刻机构500和翻转机构300；位移平台200设置于机台100，位移平台200上设置有用于承载电路板的治具盘400，治具盘400的两侧均具有镂空的光刻位；光刻机构500设置于机台100，光刻机构500用于对治具盘400上的光刻位进行光刻作业；翻转机构300设置于机台100，位移平台200能够带动治具盘400运动靠近或远离翻转机构300，翻转机构300包括至少两个能够带动治具盘400运动的轮转架350，翻转机构300用于带动各个轮转架350依次翻转并依次运动靠近或远离位移平台200。光刻机构500通过治具盘400上镂空的光刻位对治具盘400上的电路板的一面进行光刻处理后，位移平台200可以带动治具盘400运动远离光刻机构500，并使得治具盘400被运送至轮转架350上。随后，翻转机构300将能够带动轮转架350进行翻转。在此过程的持续下，各个轮转架350上均会搭载有治具盘400。因此，在翻转机构300的持续运作下，各个轮转架350上的治具盘400能够有序地依次进行翻转并逐个前往光刻机构500处进行光刻作业，从而使得光刻作业中的翻转过程不仅可以更加有序、准确地进行，并且可以通过各个轮转架350的一并翻转，实现对多个治具盘400的一并翻转效果，进而可以有效地达到提高翻转效率的效果。
28.具体地，治具盘400为中空的框体，通过框体的边缘对基板进行固定。治具盘400在翻转时，其两侧均可以通过其中空的部分进行光刻作业。
29.在某些实施例中，参照图1，光刻机构500和翻转机构300分别位于位移平台200的两侧，位移平台200用于带动治具盘400往复运动于光刻机构500和翻转机构300之间。由于各个轮转架350将会不断地进行翻转作业，因此光刻作业和翻转作业将会出现同时运作的情况。光刻机构500和翻转机构300的位置关系使得光刻作业和翻转作业各自在运行时不会相互干扰，从而有效地确保二者能够顺利地同时进行运作，进而达到提高整体的加工效率的效果。
30.在某些实施例中，参照图3，位移平台200包括第一电机210和丝杆螺母副230，第一电机210通过丝杆螺母副230连接有位移座240；位移座240设置有固定夹爪250，治具盘400安装于固定夹爪250内。第一电机210启动后，将会带动丝杆螺母副230进行运动，从而可以通过丝杆螺母副230带动位移座240进行位移，并直接、有效地达到驱动位移座240上的治具盘400进行位移的效果。而固定夹爪250则能够有效地实现对治具盘400的夹紧固定或者放松效果，从而便于治具盘400进行位移或者被轮转架350所带走，进而便于治具盘400完成其翻转作业。
31.具体地，第一电机210和丝杆螺母副230之间具有传动带220并通过传动带220连接，从而使得二者之间可以进行位置布局的调整和转速的调节，进而使得位移座240能够更
加平稳地带动治具盘400进行运动。
32.进一步地，固定夹爪250为气缸夹爪。当然，固定夹爪250也可以由其他部件组成，具体的实施方式可以根据实际的需要做相应的调整，在此不做限制。
33.在某些实施例中，参照图2，光刻机构500包括设置于机台100上的安装架510，安装架510连接有调节组件530，调节组件530连接有空间光调制器550并能够带动其相对于安装架510进行位移。安装架510可以将空间光调制器550安装至靠近位移平台200处，并通过调节组件530对空间光调制器550进行进一步地位置调节，从而有效地确保空间光调制器550所传递出的激光能够更加准确地对基板进行光刻作业。
34.具体地，安装架510延伸至位移平台200的上方并将空间光调制器550装载于位移平台200的上方，从而通过升降实现位置调节效果。
35.在某些实施例中，参照图2，调节组件530包括第一气缸531、第二气缸532和第三气缸533，第一气缸531、第二气缸532和第三气缸533的朝向两两相异且依次连接；第三气缸533连接有连接架520，空间光调制器550设置于连接架520处。两两朝向相异的第一气缸531、第二气缸532和第三气缸533可以分别从不同的维度方向对连接架520进行驱动，从而使得连接架520可以在第一气缸531、第二气缸532和第三气缸533的作用下位移至三维空间的任一方位，进而可以有效的达到准确定位并进行光刻作业的效果。
36.具体地，第一气缸531、第二气缸532和第三气缸533分别沿左右、前后和上下方向设置。
37.在某些实施例中，参照图2，安装架510位于位移平台200的上方，第一气缸531、第二气缸532和第三气缸533的其中之一指向于其自身的下方，位移平台200沿水平方向带动治具盘400位移。连接架520从上下方向运动靠近或远离位移平台200，而位移平台200则从水平方向对治具盘400进行带动。因此，光刻作业和位移平台200的位移作业可以更加有效地避免发生相互干扰的问题，进而确保二者可以顺利进行。
38.在某些实施例中，参照图4，翻转机构300包括设置于机台100的底架310，底架310设置有连接臂320和驱动装置360，驱动装置360与连接臂320连接并能够带动其翻转，各个轮转架350均安装于连接臂320。驱动装置360启动后，将会带动连接臂320进行翻转，从而使得安装于连接臂320的轮转架350能够跟随其一并进行翻转运动，因此可以顺利地达到对各个轮转架350一并进行翻转的效果，并提高翻转作业的效率。
39.具体地，底架310上设置有转轴330，驱动装置360为电机并与转轴330连接；连接臂320的中部套于转轴330的外周，轮转架350为两个且分别连接于连接臂320的两端。当然，轮转架350的数量和分布方式并不唯一，个人是可以，在此不做限制。
40.在某些实施例中，参照图4，轮转架350上设置有吸盘组并能够通过吸盘组吸附治具盘400。吸盘组启动后，能够通过负压吸附的方式对治具盘400进行吸附固定，从而有效的达到对轮转架350和治具盘400之间进行相对固定的效果，进而确保轮转架350能够带动治具盘400一并进行翻转运动。
41.在某些实施例中，参照图1，机台100具有取料位150，光刻机构500和取料位150分别位于连接臂320的两侧；驱动装置360连接于连接臂320的中部；轮转架350为两个且分别连接于连接臂320的两端。驱动装置360启动后，将会通过连接臂320带动轮转架350往复转动于取料位150和光刻机构500之间，以便于治具盘400进行翻转作业后再次回到光刻机构
500处。两面均进行光刻作业后的治具盘400，能够在连接臂320的作用下被带动至取料位150处，并得以取走并进行下一步的作业，从而便于整体作业的高效运行。
42.在某些实施例中，参照图5，连接臂320的端部连接有第二电机340，第二电机340与轮转架350连接并能够驱动其相对于连接臂320翻转。第二电机340可以带动轮转架350相对于连接臂320进行旋转，从而可以更加方便、准确地实现轮转架350的朝向角度调节效果，进而可以顺利、准确地达到对轮转架350进行翻转的目的，因此可以顺利、准确地确保治具盘400在翻转至背面后再次运送回光刻机构500处进行光刻作业。
43.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
44.上面结合附图对本发明实施例作了详细说明，但是本发明不限于上述实施例，在所述技术领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本发明宗旨的前提下作出各种变化。

技术特征：
1.一种芯片光刻装置，其特征在于，包括：机台(100)；位移平台(200)，设置于所述机台(100)，所述位移平台(200)上设置有用于承载电路板的治具盘(400)，所述治具盘(400)的两侧均具有镂空的光刻位；光刻机构(500)，设置于所述机台(100)，所述光刻机构(500)用于对所述治具盘(400)上的光刻位进行光刻作业；翻转机构(300)，设置于所述机台(100)，所述位移平台(200)能够带动所述治具盘(400)运动靠近或远离所述翻转机构(300)，所述翻转机构(300)包括至少两个能够带动所述治具盘(400)运动的轮转架(350)，所述翻转机构(300)用于带动各个所述轮转架(350)依次翻转并依次运动靠近或远离所述位移平台(200)。2.如权利要求1所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述光刻机构(500)和所述翻转机构(300)分别位于所述位移平台(200)的两侧，所述位移平台(200)用于带动所述治具盘(400)往复运动于所述光刻机构(500)和所述翻转机构(300)之间。3.如权利要求2所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述位移平台(200)包括第一电机(210)和丝杆螺母副(230)，所述第一电机(210)通过所述丝杆螺母副(230)连接有位移座(240)；所述位移座(240)设置有固定夹爪(250)，所述治具盘(400)安装于所述固定夹爪(250)内。4.如权利要求1所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述光刻机构(500)包括设置于所述机台(100)上的安装架(510)，所述安装架(510)连接有调节组件(530)，所述调节组件(530)连接有空间光调制器(550)并能够带动其相对于所述安装架(510)进行位移。5.如权利要求4所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述调节组件(530)包括第一气缸(531)、第二气缸(532)和第三气缸(533)，所述第一气缸(531)、所述第二气缸(532)和所述第三气缸(533)的朝向两两相异且依次连接；所述第三气缸(533)连接有连接架(520)，所述空间光调制器(550)设置于所述连接架(520)处。6.如权利要求5所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述安装架(510)位于所述位移平台(200)的上方，所述第一气缸(531)、所述第二气缸(532)和所述第三气缸(533)的其中之一指向于其自身的下方，所述位移平台(200)沿水平方向带动所述治具盘(400)位移。7.如权利要求1所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述翻转机构(300)包括设置于所述机台(100)的底架(310)，所述底架(310)设置有连接臂(320)和驱动装置(360)，所述驱动装置(360)与所述连接臂(320)连接并能够带动其翻转，各个所述轮转架(350)均安装于所述连接臂(320)。8.如权利要求7所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述轮转架(350)上设置有吸盘组并能够通过所述吸盘组吸附所述治具盘(400)。9.如权利要求8所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述机台(100)具有取料位(150)，所述光刻机构(500)和所述取料位(150)分别位于所述连接臂(320)的两侧；所述驱动装置(360)连接于所述连接臂(320)的中部；所述轮转架
(350)为两个且分别连接于所述连接臂(320)的两端。10.如权利要求9所述的芯片光刻装置，其特征在于：所述连接臂(320)的端部连接有第二电机(340)，所述第二电机(340)与所述轮转架(350)连接并能够驱动其相对于所述连接臂(320)翻转。

技术总结
本发明公开了一种芯片光刻装置，其包括：机台、位移平台、光刻机构和翻转机构；位移平台设置于机台，位移平台上设置有用于承载电路板的治具盘，治具盘的两侧均具有镂空的光刻位；光刻机构设置于机台，光刻机构用于对治具盘上的光刻位进行光刻作业；翻转机构设置于机台，位移平台能够带动治具盘运动靠近或远离翻转机构，翻转机构包括至少两个能够带动治具盘运动的轮转架，翻转机构用于带动各个轮转架依次翻转并依次运动靠近或远离位移平台。在翻转机构的持续运作下，各个轮转架上的治具盘能够有序地依次进行翻转并逐个前往光刻机构处进行光刻作业，从而使得光刻作业中的翻转过程不仅可以更加有序、高效地进行。高效地进行。高效地进行。


技术研发人员：陈超 涂先勤 蔡自立 汪益立 零萍 敦士军 唐战备
受保护的技术使用者：中山新诺科技股份有限公司
技术研发日：2023.06.07
技术公布日：2023/10/6