一种彩膜基板、显示面板和彩膜基板的制作方法与流程

1.本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、显示面板和彩膜基板的制作方法。


背景技术：

2.液晶显示(liquid crystal display，简称lcd)面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。为了确保阵列基板和彩膜基板对盒后的盒厚均匀，以及提高液晶显示面板的结构强度，通常在彩膜基板与阵列基板之间设置隔垫物(photo spacer，简称ps)进行支撑。随着液晶显示面板分辨率的进一步提高，要求ps的截面尺寸进一步减小以确保足够的开口率，目前通常将ps的形状设计为长条状，并且在阵列基板上设置与ps对应且相互垂直的长条状金属垫片对ps进行支撑，ps与金属垫片的接触位置容易产生凹陷，而出现盒厚不均、液晶扩散不均以及漏光的问题。


技术实现要素：

3.本发明提供一种彩膜基板、显示面板和彩膜基板的制作方法，用以克服显示面板的隔垫物凹陷变形过大，引起的盒厚不均、液晶扩散不均以及漏光问题。
4.本发明的第一方面，提供一种彩膜基板，包括：
5.第一衬底基板；
6.隔垫物，位于第一衬底基板的一侧；隔垫物在第一衬底基板上的正投影为长条状；
7.强化结构，位于隔垫物背离第一衬底基板一侧的表面上；强化结构的硬度大于隔垫物的硬度。
8.在本发明提供的彩膜基板中，隔垫物包括与第一衬底基板平行的第一表面以及位于第一表面与第一衬底基板之间，且以与第一表面呈设定夹角环绕第一表面设置的第二表面；
9.强化结构位于第一表面背离第一衬底基板的一侧。
10.在本发明提供的彩膜基板中，还包括：
11.黑矩阵，位于第一衬底基板和隔垫物之间；黑矩阵形成多个暴露第一衬底基板的像素开口；隔垫物在第一衬底基板上的正投影位于黑矩阵在第一衬底基板上的正投影之内；
12.滤光部，位于黑矩阵与隔垫物之间，且至少部分位于像素开口内。
13.在本发明提供的彩膜基板中，黑矩阵包括横纵交叉的第一子部和第二子部；两两相邻的第一子部和第二子部围绕形成像素开口；
14.隔垫物的长度方向平行于第一子部的延伸方向；或者；
15.隔垫物的长度方向平行于第二子部的延伸方向。
16.在本发明提供的彩膜基板中，彩膜基板包括阵列排布的多个隔垫物，各隔垫物相互分立；黑矩阵的第一子部和第二子部横纵交叉形成多少交点；其中一个隔垫物与一个交
点对应，隔垫物位于对应的交点所在的位置。
17.本发明实施例的第二方向，提供一种显示面板，包括：相对设置的彩膜基板和阵列基板，以及位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层；
18.彩膜基板包括：
19.第一衬底基板；
20.隔垫物，位于第一衬底基板的一侧；隔垫物在第一衬底基板上的正投影为长条状；
21.强化结构，位于隔垫物背离第一衬底基板一侧的表面上；强化结构的硬度大于隔垫物的硬度。
22.阵列基板包括：
23.第二衬底基板；
24.金属垫片，位于第二衬底基板面向彩膜基板的一侧；金属垫片在第二衬底基板上的正投影为长条状；
25.金属垫片的长度方向与隔垫物的长度方向交叉，且金属垫片在第二衬底基板上的正投影与隔垫物在第二衬底基板上的正投影存在交叠区域；强化结构在第二衬底基板上的正投影的面积覆盖且大于交叠区域的面积。
26.在本发明提供的显示面板中，彩膜基板还包括：
27.黑矩阵，位于第一衬底基板和隔垫物之间；黑矩阵形成多个暴露第二衬底基板的像素开口；隔垫物和金属垫片在第二衬底基板上的正投影均位于黑矩阵在第一衬底基板上的正投影之内；
28.滤光部，位于黑矩阵与隔垫物之间，且至少部分位于像素开口中。
29.在本发明提供的显示面板中，黑矩阵包括横纵交叉的第一子部和第二子部；两两相邻的第一子部和第二子部围绕形成像素开口；
30.隔垫物的长度方向平行于第一子部的延伸方向，金属垫片的长度方向平行于第二子部的延伸方向；或者；
31.隔垫物的长度方向平行于第二子部的延伸方向，金属垫片的长度方向平行于第一子部的延伸方向。
32.在本发明提供的显示面板中，阵列基板还包括横纵交叉的栅线和数据线；栅线和数据线均位于黑矩阵在阵列基板上的正投影之内；
33.其中，栅线和数据线的交点在第二衬底基板上的正投影、第一子部和第二子部的交点在第二衬底基板上的正投影与交叠区域在第二衬底基板上的正投影重合。
34.本发明的第三方面，提供一种彩膜基板的制作方法，包括：
35.提供第一衬底基板；
36.在第一衬底基板的一侧依次形成隔垫物材料层和强化结构层；
37.刻蚀强化结构层和隔垫物材料层，形成隔垫物和位于隔垫物背离第一衬底基板一侧的表面上的强化结构。
38.本发明有益效果如下：
39.本发明提供了一种彩膜基板、显示面板和彩膜基板的制作方法，彩膜基板包括第一衬底基板、隔垫物和强化结构。其中，隔垫物位于第一衬底基板的一侧，隔垫物在第一衬底基板上的正投影为长条状，强化结构位于隔垫物背离第一衬底基板一侧的表面上，且强
化结构的硬度大于隔垫物的硬度，由于强化结构的硬度更大，相较于隔垫物不容易发生凹陷变形，可以降低显示面板受到按压压力时，隔垫物在与阵列基板上的金属垫片的交叠区域发生凹陷变形的程度，从而避免因隔垫物凹陷过大超过其变形能力而无法恢复，导致的显示面板盒厚不均匀、液晶扩散不均匀等问题，并且可以避免因隔垫物凹陷过大，导致的隔垫物与阵列基板表面的取向膜接触而产生划伤，进而避免显示面板漏光等问题。
附图说明
40.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所介绍的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
41.图1为本发明实施例提供的彩膜基板的俯视结构示意图之一；
42.图2为本发明实施例提供的彩膜基板的截面结构示意图之一；
43.图3为相关技术中显示面板的截面结构示意图；
44.图4为本发明实施例提供的显示面板的截面结构示意图之一；
45.图5为本发明实施例提供的彩膜基板的俯视结构示意图之二；
46.图6为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面示意图之一；
47.图7为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面示意图之二；
48.图8为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面示意图之三；
49.图9为本发明实施例提供的显示面板的截面结构示意图之二；
50.图10为本发明实施例提供的显示面板的俯视结构示意图之一；
51.图11为本发明实施例提供的阵列基板的俯视结构示意图；
52.图12为本发明实施例提供的阵列基板的截面结构示意图；
53.图13为本发明实施例提供的显示面板的俯视结构示意图之二；
54.图14为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图；
55.图15为本发明实施例提供的彩膜基板的制作过程示意图。
具体实施方式
56.为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面将结合附图和实施例对本发明做进一步说明。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明更全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。本发明中所描述的表达位置与方向的词，均是以附图为例进行的说明，但根据需要也可以做出改变，所做改变均包含在本发明保护范围内。本发明的附图仅用于示意相对位置关系不代表真实比例。
57.图1为本发明实施例提供的彩膜基板的俯视结构示意图之一；图2为本发明实施例提供的彩膜基板的截面结构示意图之一。
58.本发明实施例的第一方面，提供一种彩膜基板，如图1和2所示，彩膜基板1包括：第一衬底基板110、隔垫物120和强化结构130。
59.第一衬底基板110用于承载和支撑位于其上的隔垫物120、强化结构130等结构。第一衬底基板110的形状适应于显示面板的形状，通常设计为矩形、方形等，根据实际情况也可以为异形形状，在此不做限定。具体实施时，第一衬底基板110可以采用透明材料进行制作，如光学玻璃、光学塑料等，在此不做限定。
60.隔垫物120位于第一衬底基板110的一侧。隔垫物120用于在彩膜基板1与阵列基板对盒以形成显示面板时支撑盒厚，使显示面板的厚度均匀且可以抵挡外力的按压。隔垫物120的材料可以采用具有较高的弹性恢复率和外压形变承受能力的材料，以在显示面板承受外力按压时保持结构稳定，并在外力撤离后可以快速恢复。具体实施时，隔垫物120可以采用树脂等材料，在此不做限定。
61.图3为相关技术中显示面板的截面示意图；图4为本发明实施例提供的显示面板的截面结构示意图之一。
62.相关技术中，如图3所示，彩膜基板1上设置的隔垫物通常为圆柱形结构，随着显示面板分辨率的进一步提高，需要缩小圆柱形隔垫物的直径以提高开口率，导致显示面板在外力(如按压、冲击、跌落等)测试中通过率较低。举例来说，如图3所示，当彩膜基板1受到横向剪切力f1相对于阵列基板2移动后，由于圆柱形隔垫物120的直径较小，彩膜基板1上圆柱形隔垫物120相对于阵列基板2上用于支撑隔垫物120的金属垫片220发生错位，隔垫物120无法得到金属垫片220的有效支撑而与阵列基板2上的取向膜(pi)接触，划伤取向膜(pi)而导致漏光等现象发生。
63.在本发明实施例中，如图1和图2所示，隔垫物120在第一衬底基板110上的正投影为长条状。长条状隔垫物120在其长度方向w1的尺寸较大，例如在2000ppi的显示面板中，每个像素单元的尺寸约为4μm*12μm，长条状隔垫物120的尺寸可以设计为2μm*6μm，如图4所示，至少在平行于长条状隔垫物120的长度方向w1受到横向剪切力f1时，彩膜基板1相对于阵列基板2移动一定距离后，长条状隔垫物120仍然可以通过阵列基板2上的金属垫片220进行支撑，提高显示面板结构的稳定性。
64.在本发明实施例中，如图1和图2所示，彩膜基板1还包括：强化结构130，强化结构130位于隔垫物120背离第一衬底基板110一侧的表面上。强化结构130采用的材料的硬度大于隔垫物120采用的材料的硬度，具体实施时，强化结构130可以采用金属材料，具体的可以为钼(mo)、钛(ti)等金属，在此不做限定。如图4所示，当显示面板受到垂直于彩膜基板1的压力f2时，由于强化结构130的硬度更大，相较于隔垫物120不容易发生凹陷变形，可以降低显示面板受到按压压力时，隔垫物120在与金属垫片220的交叠区域发生凹陷变形的程度，从而避免因隔垫物120凹陷过大超过其变形能力而无法恢复，导致的显示面板盒厚不均匀、液晶扩散不均匀等问题，并且可以避免因隔垫物120凹陷过大，导致的隔垫物120与阵列基板2表面的取向膜接触而产生导致取向膜划伤，进而避免显示面板漏光等问题。
65.具体实施时，可以通过提高强化结构130与隔垫物120的接触面积，从而增大隔垫物120的受力面积，降低隔垫物120单位面积受到的压力，进而降低隔垫物120在与金属垫片220的交叠区域发生凹陷变形的程度，进一步避免显示面板漏光等问题。
66.在一些实施例中，如图2所示，彩膜基板1上的隔垫物120包括与第一衬底基板110平行的第一表面121以及位于第一表面121与第一衬底基板110之间，且以与第一表面121呈设定夹角环绕第一表面121设置的第二表面122。其中，强化结构130位于第一表面121背离
第一衬底基板110的一侧。具体实施时，制作隔垫物120和强化结构130时，可以通过薄膜沉积等工艺，依次在第一衬底基板110的一侧形成隔垫物材料层和强化结构层，然后对隔垫物材料层和强化结构层进行刻蚀，以形成图案化的隔垫物120和强化结构130。刻蚀过程可以采用等离子体刻蚀或者化学刻蚀等方式，由于刻蚀过程中通常是从远离第一衬底基板110的一侧开始，到靠近第一衬底基板110的一侧结束，因而远离第一衬底基板110的一侧的刻蚀程度通常大于靠近第一衬底基板110的一侧的刻蚀程度，如图2所示，从而使隔垫物120的横截面面积，由远离第一衬底基板110的一侧向靠近第一衬底基板110的一侧逐渐增大，使第一表面121与第二表面122之间形成大于90
°
的夹角。
67.图5为本发明实施例提供的彩膜基板的俯视结构示意图之二；图6为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面示意图之一；图7为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面示意图之二；图8为本发明实施例提供的彩膜基板的剖面示意图之三。
68.在一些实施例中，如图5～图8所示，其中图6～图8分别为图5沿剖面线a-a、剖面线b-b和剖面线c-c的剖视示意图，彩膜基板1还包括：黑矩阵140和滤光部150。黑矩阵140位于第一衬底基板110和隔垫物120之间。黑矩阵140形成多个暴露第一衬底基板110的像素开口k。滤光部150位于黑矩阵140与隔垫物120之间，且至少部分位于像素开口k内。其中，黑矩阵140可以采用黑色遮光材料制作，一个像素开口k对应一个子像素单元，用于透射光线进行图像显示，黑矩阵140可以避免相邻像素开口k透射的光线发生串扰，提高画面质量。滤光部150与像素开口k一一对应设置，且一个滤光部150对应一个子像素单元，滤光部150可以在第一衬底基板110上形成黑矩阵140之后，填充在各个像素开口k中。具体实施时，滤光部150可以全部填充在像素开口k之内，也可以如图6所示，滤光部150部分溢出像素开口k，搭接在黑矩阵140的边缘，在此不做限定。滤光部150可以包括红色滤光部、蓝色滤光部和绿色滤光部，其中红色滤光部用于滤除掺杂光线，出射红色光线，蓝色滤光部用于滤除掺杂光线，出射蓝色光线，绿色滤光部用于滤除掺杂光线，出射绿色光线，相邻设置的一个红色滤光部、一个蓝色滤光部和一个绿色滤光部构成一个像素单元，从而实现全彩显示。在一些实施例中，滤光部150还可以用于出射更少或者更多种颜色的光线，在此不做限定。
69.具体实施时，如图5～图8所示，隔垫物120在第一衬底基板110上的正投影位于黑矩阵140在第一衬底基板110上的正投影之内，从而可以通过黑矩阵140遮挡隔垫物120，避免隔垫物120位于像素开口k中影响画面质量。
70.在一些实施例中，黑矩阵140包括横纵交叉的第一子部141和第二子部142。具体实施时，如图5所示，第一子部141沿第一方向x延伸，沿第二方向y排列，第二子部142沿第二方向y延伸，沿第一方向x排列，其中第一方向x和第二方向y垂直，两两相邻的第一子部141和第二子部142围绕形成像素开口k。具体实施时，如图5所示，隔垫物120的长度方向w1平行于第一子部141的延伸方向，沿第一子部141的延伸方向，黑矩阵140具有足够的长度对隔垫物120的长边进行遮挡，从而可以避免增加黑矩阵140的宽度，确保开口率。
71.在一些实施例中，隔垫物120的长度方向w1也可以平行于第二子部142的延伸方向，在此不做限定。
72.在一些实施例中，彩膜基板1包括阵列排布的多个隔垫物120，且各隔垫物120相互分立。黑矩阵140的第一子部141和第二子部142横纵交叉形成多少交点n，其中一个隔垫物120与一个交点n对应，隔垫物120位于对应的交点n所在的位置。具体实施时，如图5所示，多
个隔垫物120沿第一方向x和第二方向y排列成多行多列，且相邻两个隔垫物120相距一定的距离。彩膜基板1上各隔垫物120相互分立地设置，从而在彩膜基板和阵列基板之间填充液晶层形成显示面板时，液晶材料可以通过各隔垫物120之间的多处间隙均匀的扩散，提高画面显示质量。
73.在一些实施例中，如图6～图8所示，彩膜基板1还包括：平坦层160和刻蚀阻挡层170。其中平坦层160位于滤光部150和黑矩阵140背离第一衬底基板110的一侧，用于填补制作黑矩阵140和滤光部150所形成的段差，使彩膜基板1的表面平坦化。具体实施时，平坦层160可以采用有机材料，并通过涂覆、喷墨打印等方式进行制作，在此不做限定。刻蚀阻挡层170位于平坦层160与隔垫物120之间，用于在通过刻蚀形成隔垫物120时，避免刻蚀到黑矩阵140和滤光部150。具体实施时，刻蚀阻挡层170可以采用无机材料，如二氧化硅等，并通过物理沉积等方式进行制作，在此不做限定。
74.图9为本发明实施例提供的显示面板的截面结构示意图之一；图10为本发明实施例提供的显示面板的俯视结构示意图之一。
75.本发明实施例的第二方面，提供一种显示面板，如图9所示，显示面板包括相对设置的彩膜基板1、阵列基板2以及位于彩膜基板1和阵列基板2之间的液晶层3。其中显示面板通过在彩膜基板1和阵列基板2之间形成电场，以驱动液晶层3中的液晶分子发生偏转，从而调制后入射至显示面板中的光线的透过率，实现图像显示。
76.在一些实施例中，如图1和图2所示，彩膜基板1包括：第一衬底基板110、隔垫物120和强化结构130。其中，关于第一衬底基板110、隔垫物120和强化结构130的具体设置可以参考前述彩膜基板1的实施例的描述，在此不做赘述。
77.如图10所示，阵列基板2包括：第二衬底基板210和金属垫片220。
78.第二衬底基板210用于承载和支撑位于其上的金属垫片220等结构。第二衬底基板210的形状适应于显示面板的形状，通常设计为矩形、方形等，根据实际情况也可以为异形形状，在此不做限定。具体实施时，第一衬底基板110可以采用透明材料进行制作，如光学玻璃、光学塑料等，在此不做限定。
79.金属垫片220位于第二衬底基板210面向彩膜基板1的一侧，用于在彩膜基板1和阵列基板2对盒时支撑隔垫物120。具体实施时，如图10所示，金属垫片220在第二衬底基板210上的正投影为长条状，且金属垫片220的长度方向w2与隔垫物120的长度方向w1交叉，从而如图4和图10所示，在至少在平行于长条状隔垫物120的长度方向w1和/或在平行于长条状金属垫片220的长度方向w2受到横向剪切力f1时，彩膜基板1相对于阵列基板2移动一定距离后，长条状隔垫物120仍然可以通过阵列基板2上的长条状金属垫片220进行支撑，提高显示面板结构的稳定性。
80.如图10所示，金属垫片220在第二衬底基板210上的正投影与隔垫物120在第二衬底基板210上的正投影存在交叠区域s，金属垫片220通过交叠区域s对隔垫物120进行支撑。随着显示面板分辨率的提高，需要减小隔垫物120和金属垫片220的宽度以确保开口率，导致交叠区域s的面积很小，隔垫物120直接受力时单位面积的压力较大，容易形成较大程度的凹陷。本发明实施例中在隔垫物120面向金属垫片220一侧的表面上设置有强化结构130，强化结构130的硬度大于隔垫物120的硬度，从而降低强化结构130受到压力时产生的形变程度，具体实施时，强化结构130在第二衬底基板210上的正投影的面积覆盖且大于交叠区
域s的面积，从而可以通过强化结构130增大隔垫物120的受力面积，降低隔垫物120单位面积中受到的压力，从而进一步减小隔垫物120的形变程度，避免显示面板发生漏光等问题。
81.在一些实施例中，如图5～8所示，彩膜基板1还包括：黑矩阵140和滤光部150。其中关于黑矩阵140和滤光部150的内容可以参照前述彩膜基板1的实施例中的相关描述，在此不做赘述。具体实施时，隔垫物120和金属垫片220在第二衬底基板210上的正投影均位于黑矩阵140在第二衬底基板210上的正投影之内，从而可以通过黑矩阵140遮挡隔垫物120和金属垫片220，避免隔垫物120和金属垫片220位于像素开口k中影响画面质量。
82.在一些实施例中，如图5～8所示，黑矩阵140包括横纵交叉的第一子部141和第二子部142。其中关于第一子部141和第二子部142的内容可以参照前述彩膜基板1的实施例中的相关描述，在此不做赘述。具体实施时，结合图5和图10所示，隔垫物120的长度方向w1平行于第一子部141的延伸方向，金属垫片220的长度方向w2平行于第二子部142的延伸方向，从而使黑矩阵140具有足够的长度对隔垫物120的长边和金属垫片220的长边进行遮挡，从而可以避免增加黑矩阵140的宽度，确保开口率。
83.在一些实施例中，隔垫物120的长度方向w1平行于第二子部142的延伸方向，金属垫片220的长度方向w2平行于第一子部141的延伸方向，在此不做限定。
84.图11为本发明实施例提供的阵列基板的俯视结构示意图；图12为本发明实施例提供的阵列基板的截面结构示意图；图13为本发明实施例提供的显示面板的俯视结构示意图之二。
85.在本发明实施例中，如图11所示，阵列基板2还包括横纵交叉的栅线g和数据线d。具体实施时，如图11所示，栅线g沿第一方向x延伸，沿第二方向y排列，数据线d沿第二方向y延伸，沿第一方向x排列，其中第一方向x与第二方向y垂直。两两相邻的栅线g和数据线d相互交叉定义一个像素区域，一个像素区域内包括一个薄膜晶体管t和一个像素电极e，其中薄膜晶体管t的栅极与栅线g连接，薄膜晶体管t的源极与数据线g连接，薄膜晶体管t的漏极与像素电极e连接，从而可以通过控制薄膜晶体管t开启向像素电极e输入驱动电压，进而驱动像素区域内的液晶分子发生偏转，对入射光线进行调制。
86.具体实施时，如图12所示，阵列基板2包括：第二衬底基板210；位于第二衬底基板210一侧的缓冲层；位于缓冲层背离第二衬底基板210一侧的半导体层230，其中半导体层230可以采用低温多晶硅或者氧化物半导体等半导体材料，用于形成薄膜晶体管t的沟道；位于半导体层230背离缓冲层一侧的栅极绝缘层；位于栅极绝缘层背离半导体层230一侧的第一导电层240，第一导电层240包括薄膜晶体管t的栅极以及与栅极连接的栅线g；位于第一导电层240背离栅极绝缘层一侧的层间介质层；位于层间介质层背离第一导电层240一侧的第二导电层250，其中第二导电层250包括薄膜晶体管t的源极、与源极连接的数据线d以及薄膜晶体管t的漏极；位于第二导电层250背离层间介质层的平坦层260；位于平坦层260背离第二导电层250一侧的第三导电层270，其中第三导电层270包括像素电极e，像素电极e通过贯穿平坦层260的过孔与薄膜晶体管t的漏极电连接；位于第三导电层270背离平坦层260一侧的保护层。其中，金属垫片220位于保护层背离第三导电层270的一侧。具体实施时，薄膜晶体管t的源极和漏极可以均采用金属材料；或者薄膜晶体管t的源极可以采用金属材料，薄膜晶体管t的漏极可以采用透明导电材料，如氧化铟锡等，以提高显示面板的透过率，在此不做限定。
87.如图13所示，栅线g和数据线d的交点在第二衬底基板210上的正投影、第一子部141和第二子部142的交点n在第二衬底基板210上的正投影与交叠区域s在第二衬底基板210上的正投影重合，从而使栅线g、数据线d、金属垫片220和隔垫物120均可以通过黑矩阵140进行遮挡，从而提高显示画面的质量。在一些实施例中，薄膜晶体管t也可以设置在黑矩阵140在第二衬底基板210上的正投影之内，以进一步避免薄膜晶体管t影响显示面板的透过率，在此不做限定。
88.在一些实施例中，如图5所示，彩膜基板1包括阵列排布的多个隔垫物120，各隔垫物120相互分立，且沿第一方向x和第二方向y排列成多行多列。如图10和图13所示，阵列基板2包括多个金属垫片220，各金属垫片220相互分立，且沿第一方向x和第二方向y排列成多行多列。其中一个金属垫片220与一个隔垫物120对应。黑矩阵140的第一子部141和第二子部142横纵交叉形成多少交点n，其中一个隔垫物120与一个交点n对应，隔垫物120和其对应的金属垫片220均位于该隔垫物120对应的交点n所在的位置。彩膜基板1上各隔垫物120相互分立地设置，且阵列基板2上各金属垫片220相互分立地设置，从而在彩膜基板和阵列基板之间填充液晶层形成显示面板时，液晶材料可以通过各隔垫物120之间的多处间隙以及各金属垫片220之间的多处间隙均匀的扩散，提高画面显示质量。
89.图14为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图。
90.本发明实施例的第三方面，提供一种彩膜基板的制作方法，如图14所示，彩膜基板的制作方法包括以下步骤：
91.s131：提供第一衬底基板；
92.s132：在第一衬底基板的一侧依次形成隔垫物材料层和强化结构层；
93.s133：刻蚀强化结构层和隔垫物材料层，形成隔垫物和位于隔垫物背离第一衬底基板一侧的表面上的强化结构。
94.如图2所示，制作隔垫物120和强化结构130时，可以通过薄膜沉积等工艺，依次在第一衬底基板110的一侧形成隔垫物材料层和强化结构层，然后对隔垫物材料层和强化结构层进行刻蚀，以形成图案化的隔垫物120和强化结构130。刻蚀过程可以采用等离子体刻蚀或者化学刻蚀等方式，由于刻蚀过程中通常是从远离第一衬底基板110的一侧开始，到靠近第一衬底基板110的一侧结束，因而远离第一衬底基板110的一侧的刻蚀程度通常大于靠近第一衬底基板110的一侧的刻蚀程度，如图2所示，从而使隔垫物120的横截面面积，由远离第一衬底基板110的一侧向靠近第一衬底基板110的一侧逐渐增大，使第一表面121与第二表面122之间形成大于90
°
的夹角。
95.图15为本发明实施例提供的彩膜基板的制作过程示意图。
96.具体实施时，如图15所示，在制作彩膜基板时，首先在第一衬底基板110的一侧制作黑矩阵140，其中黑矩阵140包括多个像素开口k。接着向多个像素开口k中填充荧光材料等具有滤光功能的材料，形成多个滤光部150。然后，在黑矩阵140和滤光部150背离第一衬底基板110的一侧形成平坦层160，用于填平制作黑矩阵140和滤光部150后形成的段差。形成平坦层160后，在平坦层160背离第一衬底基板110的一侧形成刻蚀阻挡层170，刻蚀阻挡层170用于在后续刻蚀过程中保护黑矩阵140和滤光部150。形成刻蚀阻挡层170之后，在刻蚀阻挡层背离第一衬底基板110的一侧形成隔垫物材料层12，然后在隔垫物材料层12背离第一衬底基板110的一侧形成强化结构层13。最后对隔垫物材料层12和强化结构层13进行
刻蚀，形成隔垫物120和强化结构130。具体实施时，可以通过等离子体刻蚀等干刻方式对隔垫物材料层12和强化结构层13进行一次性刻蚀，或者采用化学药剂等湿刻方式分别刻蚀隔垫物材料层12和强化结构层13，在此不做限定。
97.本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法，可以用于制作前述实施例提供的彩膜基板，具体实施时，彩膜基板制作的具体过程可以参照前述彩膜基板的具体结构，在此不做赘述。
98.尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
99.显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

技术特征：
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：第一衬底基板；隔垫物，位于所述第一衬底基板的一侧；所述隔垫物在所述第一衬底基板上的正投影为长条状；强化结构，位于所述隔垫物背离所述第一衬底基板一侧的表面上；所述强化结构的硬度大于所述隔垫物的硬度。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物包括与所述第一衬底基板平行的第一表面以及位于所述第一表面与所述第一衬底基板之间，且以与所述第一表面呈设定夹角环绕所述第一表面设置的第二表面；所述强化结构位于所述第一表面背离所述第一衬底基板的一侧。3.如权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：黑矩阵，位于所述第一衬底基板和所述隔垫物之间；所述黑矩阵形成多个暴露所述第一衬底基板的像素开口；所述隔垫物在所述第一衬底基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述第一衬底基板上的正投影之内；滤光部，位于所述黑矩阵与所述隔垫物之间，且至少部分位于所述像素开口内。4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵包括横纵交叉的第一子部和第二子部；两两相邻的所述第一子部和所述第二子部围绕形成所述像素开口；所述隔垫物的长度方向平行于所述第一子部的延伸方向；或者；所述隔垫物的长度方向平行于所述第二子部的延伸方向。5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括阵列排布的多个隔垫物，各所述隔垫物相互分立；所述黑矩阵的所述第一子部和所述第二子部横纵交叉形成多少交点；其中一个所述隔垫物与一个所述交点对应，所述隔垫物位于对应的所述交点所在的位置。6.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，以及位于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层；所述彩膜基板包括：第一衬底基板；隔垫物，位于所述第一衬底基板的一侧；所述隔垫物在所述第一衬底基板上的正投影为长条状；强化结构，位于所述隔垫物背离所述第一衬底基板一侧的表面上；所述强化结构的硬度大于所述隔垫物的硬度；所述阵列基板包括：第二衬底基板；金属垫片，位于所述第二衬底基板面向所述彩膜基板的一侧；所述金属垫片在所述第二衬底基板上的正投影为长条状；所述金属垫片的长度方向与所述隔垫物的长度方向交叉，且所述金属垫片在所述第二衬底基板上的正投影与所述隔垫物在所述第二衬底基板上的正投影存在交叠区域；所述强化结构在所述第二衬底基板上的正投影的面积覆盖且大于所述交叠区域的面积。7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：
黑矩阵，位于所述第一衬底基板和所述隔垫物之间；所述黑矩阵形成多个暴露所述第一衬底基板的像素开口；所述隔垫物和所述金属垫片在所述第二衬底基板上的正投影均位于所述黑矩阵在所述第二衬底基板上的正投影之内；滤光部，位于所述黑矩阵与所述隔垫物之间，且至少部分位于所述像素开口中。8.如权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述黑矩阵包括横纵交叉的第一子部和第二子部；两两相邻的所述第一子部和所述第二子部围绕形成所述像素开口；所述隔垫物的长度方向平行于所述第一子部的延伸方向，所述金属垫片的长度方向平行于所述第二子部的延伸方向；或者；所述隔垫物的长度方向平行于所述第二子部的延伸方向，所述金属垫片的长度方向平行于所述第一子部的延伸方向。9.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括横纵交叉的栅线和数据线；所述栅线和所述数据线均位于所述黑矩阵在所述阵列基板上的正投影之内；其中，所述栅线和所述数据线的交点在所述第二衬底基板上的正投影、所述第一子部和所述第二子部的交点在所述第二衬底基板上的正投影与所述交叠区域在所述第二衬底基板上的正投影重合。10.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：提供第一衬底基板；在所述第一衬底基板的一侧依次形成隔垫物材料层和强化结构层；刻蚀所述强化结构层和所述隔垫物材料层，形成隔垫物和位于所述隔垫物背离所述第一衬底基板一侧的表面上的强化结构。

技术总结
本发明公开了一种彩膜基板、显示面板和彩膜基板的制作方法，彩膜基板包括第一衬底基板、隔垫物和强化结构。其中，隔垫物位于第一衬底基板的一侧，隔垫物在第一衬底基板上的正投影为长条状，强化结构位于隔垫物背离第一衬底基板一侧的表面上，且强化结构的硬度大于隔垫物的硬度，可以克服显示面板的隔垫物凹陷变形过大，引起的盒厚不均、液晶扩散不均以及漏光问题。问题。问题。


技术研发人员：李少辉 舒适 于勇 刘鑫华 徐传祥 李翔 岳阳
受保护的技术使用者：北京京东方技术开发有限公司
技术研发日：2023.07.07
技术公布日：2023/10/7