光电膜层及其制备方法、发光器件以及显示设备与流程

1.本技术涉及显示技术领域，尤其涉及一种光电膜层及其制备方法、发光器件以及显示设备。


背景技术：

2.柔性oled显示器件主要采用聚酰亚胺(polyimide film，pi)作为柔性基板层，其与硬质玻璃基板的剥离方式是目前生产柔性显示器件的关键技术之一。
3.使用所述聚酰亚胺作为柔性基板层时，需要先将所述聚酰亚胺制备到基板上，再将所述聚酰亚胺制备的柔性基板层与所述基板分离，但采用该种方法分离出的柔性基板层的光提取效果较差，外部出光量子效率低。
4.亟需提出一种新的技术，使得制备的柔性基板层能够具有更好的光提取效果，提高外部出光量子效率。


技术实现要素：

5.有鉴于此，本技术提供一种光电膜层及其制备方法、发光器件以及显示设备，旨在改善柔性基板层的光提取效果，提高外部出光量子效率。
6.本技术实施例是这样实现的：
7.本技术的一实施例中提供了一种光电膜层的制备方法，包括以下步骤：在第一基板表面形成微粒层，所述微粒层的表面具有第一图案化结构；在所述微粒层的第一图案化结构表面形成柔性基板层；将所述柔性基板层与所述微粒层分离，以得到分离侧表面具有与所述第一图案化结构对应的第二图案化结构的光电膜层。
8.可选的，所述微粒层包括单层排列的微球；和/或所述微粒层包括若干微球，所述微球的粒径为1微米到100微米，相邻两微球的间距为1nm到100nm；和/或所述微粒层包括可在第一预设温度下热分解或挥发的微球。
9.可选的，将所述柔性基板层与所述微粒层分离的方法包括：对所述第一基板进行第一加热处理，将第一基板加热到第二预设温度，且所述第二预设温度大于所述第一预设温度，以使得所述微粒层挥发或热分解；和/或对所述第一基板进行超声处理，以将所述柔性基板层从所述第一基板表面剥离。
10.可选的，所述第一预设温度为150℃～200℃，所述第二预设温度为160～300℃，所述第一加热处理包括：将所述第一基板放置在160～300℃下烘烤30～60min。
11.可选的，所述在第一基板表面形成微粒层的方法包括：在一第二基板上形成多层微球层；将所述多层微球层从所述第二基板表面分离，并基于所述多层微球层形成单层微球层；将所述单层微球层转移至所述第一基板表面，并以所述单层微球层作为所述微粒层。
12.可选的，所述在一第二基板上形成多层微球层的方法包括：将微球溶液涂覆到所述第二基板表面；对所述微球溶液进行固化处理，以在所述第二基板表面形成多层微球层。
13.可选的，所述将所述多层微球层从所述第二基板表面分离，并基于所述多层微球
层形成单层微球层包括：将所述第二基板浸泡于液体环境中，以使所述多层微球层从所述第二基板表面转移到所述液体环境中并分散，在所述液体表面重新排列形成所述单层微球层。
14.可选的，对所述液体环境施加超声，以对所述液体环境中的多层微球层进行超声分散。
15.可选的，所述将所述单层微球层转移至所述第一基板表面的方法包括：将所述第一基板浸泡在所述液体环境中；形成所述单层微球层后，转移所述第一基板，使所述第一基板经由所述单层微球层的分布区域离开所述液体环境，使所述单层微球层覆盖于第一基板表面。
16.可选的，所述将所述单层微球层转移至所述第一基板表面后还包括以下步骤：去除所述第一基板表面的液体；对所述第一基板进行第二加热处理以及紫外线照射处理。
17.可选的，所述第二加热处理包括：处于50～80℃的温度，烘烤所述第一基板至少30分钟；和/或所述紫外线照射处理包括：对所述第一基板进行15min至30min的紫外线照射。
18.可选的，所述柔性基板层包括聚酰亚胺膜，在所述微粒层上形成柔性基板层包括：在所述微粒层表面涂覆聚酰亚胺溶液后固化形成所述聚酰亚胺膜。
19.可选的，所述微粒层包括单层排列的pmma微球。
20.可选的，还包括以下步骤：在所述柔性基板层上表面形成沿垂直所述第一基板表面的方向向上依次堆叠的第一水氧阻隔层、光电结构以及第二水氧阻隔层。
21.本技术的一实施例中还提供了一种光电膜层，包括：第一基板；形成于所述第一基板上表面的微粒层，所述微粒层的表面具有第一图案化结构；形成于所述微粒层的第一图案化结构表面的柔性基板层；所述柔性基板层与所述微粒层可分离，且所述柔性基板层的分离侧表面具有与所述第一图案化结构对应的第二图案化结构。
22.可选的，所述微粒层包括单层排列的微球；和/或所述微粒层包括若干微球，所述微球的粒径为1微米到100微米，相邻两微球的间距为1nm到100nm；和/或所述微粒层包括可在第一预设温度下热分解或挥发的微球。
23.本技术的一实施例中还提供了一种发光器件，包括所述光电膜层。
24.本技术的一实施例中还提供了一种显示设备，包括所述发光器件。
25.本技术的光电膜层的制备方法在所述第一基板表面形成了微粒层，并基于所述微粒层进行了后续的柔性基板层以及光电膜层所需结构的制备，由于所述微粒层的表面具有第一图案化结构，且将所述柔性基板层与所述微粒层分离后得到分离侧表面具有第二图案化结构的光电膜层，所述第二图案化结构能够降低所述光电膜层在柔性基板层发生全反射的几率，增加光电膜层外量子效率。
附图说明
26.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
27.图1是本技术实施例提供的一种光电膜层的制备方法的步骤流程示意图；
28.图2是本技术实施例提供的在第一基板表面形成微粒层的步骤流程示意图；
29.图3是本技术实施例提供的将所述单层微球层施加至所述第一基板表面的步骤流程示意图；
30.图4是本技术实施例提供的第二基板及其上形成的多层微球层的结构示意图；
31.图5是本技术实施例提供的将所述第二基板浸入到所述液体环境中后的示意图；
32.图6是本技术实施例提供的基于多层微球层制备的单层微球层的示意图；
33.图7是本技术实施例提供的转移所述第一基板后的示意图；
34.图8是本技术实施例提供的第一基板表面形成单层排列的pmma微球的示意图；
35.图9是本技术实施例提供的在所述单层微球层上形成柔性基板层和光电结构的示意图；
36.图10是本技术实施例提供的将形成了光电结构的柔性基板层从所述第一基板表面分离的示意图。
具体实施方式
37.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”具体为附图中的图面方向。另外，在本技术的描述中，术语“包括”是指“包括但不限于”。本发明的各种实施例可以以一个范围的形式存在；应当理解，以一范围形式的描述仅仅是因为方便及简洁，不应理解为对本发明范围的硬性限制；因此，应当认为所述的范围描述已经具体公开所有可能的子范围以及该范围内的单一数值。例如，应当认为从1到6的范围描述已经具体公开子范围，例如从1到3，从1到4，从1到5，从2到4，从2到6，从3到6等，以及所述范围内的单一数字，例如1、2、3、4、5及6，此不管范围为何皆适用。另外，每当在本文中指出数值范围，是指包括所指范围内的任何引用的数字(分数或整数)。
38.研究发现，现有技术中光电膜层制备得到的聚酰亚胺膜光提取效果较差，外部出光量子效率低的原因在于，采用聚酰亚胺(pi)制备的柔性基板层的折射率通常在1.3～1.7左右，比外部空气折射率高，所以底发射oled发出的光在基板/空气界面形成全反射造成光损耗，该光损耗非常容易影响光提取效果，降低外部出光量子效率。
39.研究发现，可以通过破坏全反射边界条件来减少柔性基板层/空气界面的光损耗，因此，本技术提供如下文的光电膜层及其制备方法、发光器件以及显示设备，能够破坏所述柔性基板层的全反射边界条件，从而减少柔性基板层/空气界面的光损耗，优化光提取效果，提高外部出光量子效率。
40.请参阅图1、图5以及图9，其中图1为一实施例中所述光电膜层的制备方法的步骤流程示意图，图5是本技术实施例提供的将所述第二基板浸入到所述液体环境中后的示意图，图9为本技术实施例提供的在所述单层微球层上形成柔性基板层和光电结构的示意图。
41.在该实施例中，所述光电膜层的制备方法包括以下步骤：
42.步骤s101：在第一基板401表面形成微粒层700，所述微粒层700具有第一图案化结
构；
43.步骤s102：在所述微粒层700的第一图案化结构表面形成柔性基板层801；
44.步骤s103：将所述柔性基板层801与所述微粒层700分离，以得到分离侧表面具有与所述第一图案化结构对应的第二图案化结构的光电膜层。
45.在该实施例中，所述柔性基板层801是基于所述微粒层700的第一图案化结构表面形成的，因此所述柔性基板层801与所述微粒层700的分离侧表面的第二图案化结构相当于是由所述第一图案化结构印制形成，与所述第一图案化结构可以互补，在所述第一图案化结构为规则的周期性结构时，所述第二图案化结构也为规则的周期性结构。
46.在该实施例中，由于在所述第一基板401表面形成了微粒层700，且微粒层700具有第一图案化结构，所述柔性基板层801也生长在所述第一图案化结构，在将所述柔性基板层801与所述微粒层700得到分离侧表面具有第二图案化结构的光电膜层，能够降低所述光电膜层在柔性基板层发生全反射的几率，增加光电膜层外量子效率。
47.在一些实施例中，所述微粒层700包括可在预设温度下热分解或挥发的微球。微球指的是微小球状实体，呈球形或类球形，微球粒径范围一般为1～500um。在该实施例中，所述微粒层700包括若干微球，所述微球的粒径为1微米到100微米，相邻两微球的间距为1nm到100nm，且所述微粒层70包括可在第一预设温度下热分解或挥发的微球。
48.在一些实施例中，所述微粒层中的微球尺寸均一，任意相邻两微球的间距几乎相等，因此所述柔性基板层801与所述微粒层700的分离侧表面能够形成具有周期性的第二图案化结构，呈波纹阵列状，对克服柔性基板层801由于全反射造成的光损耗问题大有裨益。
49.在一些实施例中，所述将所述柔性基板层801与所述微粒层700分离的方法包括：在预设温度下对所述第一基板401进行第一加热处理，将第一基板加热到第二预设温度，且所述第二预设温度大于所述第一预设温度，以使得所述微粒层700挥发或热分解，和/或对所述第一基板401进行超声处理，以将所述柔性基板层801从所述第一基板401表面剥离。
50.由于使用预设温度对所述第一基板401进行第一加热处理以使得所述微粒层700挥发或热分解，并结合对所述第一基板401进行超声处理，使得所述柔性基板层801从所述第一基板401表面剥离，因此，在该实施例中避免了使用高强度激光剥离所述柔性基板层801与所述微粒层700时对所述柔性基板层的分离侧表面造成的损伤，有利于优化所述柔性基板层801的质量。
51.在完成剥离后，所述光电膜层的结构如图10所示，该图10为本技术实施例提供的将形成了光电结构的柔性基板层801从所述第一基板401表面分离的示意图。
52.在一些实施例中，所述第一预设温度为150℃～200℃，所述第二预设温度为160～300℃，所述第一加热处理包括：将所述第一基板放置在160～300℃下烘烤30～60min。在一种优选的实施例中，将所述第一基板401放置在200～230℃下烘烤30～60min。该温度下既能够满足大于所述第一预设温度的要求，也不会由于温度过高出现过度烘烤。
53.在一些实施例中，所述微粒层包括单层排列的微球。实际上，所述微粒层700也可以是多层排列的微球中，并且所述微粒层包括可在第一预设温度下热分解或挥发的微球，使得所述第一基板401对所述柔性基板层801的粘附力变弱，甚至是消失，从而使得所述第一基板401和所述柔性基板层801分离。
54.在一些实施例中，所述第一加热处理的优选烘烤温度为230～250℃，烘烤时间为
30～60min，随着所述第一加热处理的进行，第一基板401和柔性基板层801之间的微粒层700逐渐进行热分解和挥发，第一基板401和柔性基板层801之间的粘连性逐渐变弱。
55.在一些实施例中，所述超声处理包括：朝向所述第一基板401发射20khz～40khz的超声波5～10min。实际上，所述超声处理的频率和时长都可以根据需要进行设置。
56.在一些优选的实施例中，所述微粒层700是单层pmma层，从而使得所述微粒层700热分解后，所述柔性基板层801/空气界面上的微粒层700能够被完全分解，从而在所述柔性基板层801/空气界面上形成周期波纹阵列，以减弱聚酰亚胺膜/空气界面的全反射造成的光损耗，利于界面的光取出。
57.请参阅图2，为一实施例中，所述在第一基板401表面形成微粒层700的步骤流程示意图。
58.在该实施例中，所述在第一基板401表面形成微粒层700包括：
59.步骤s201：在一第二基板301上形成多层微球层；
60.步骤s202：将所述多层微球层从所述第二基板301表面分离，并基于所述多层微球层形成单层微球层；
61.步骤s203：将所述单层微球层转移至所述第一基板401表面，并以所述单层微球层作为所述微粒层700。
62.在该实施例中，所述第一基板401和第二基板301均为玻璃基板，实际上也可以是其他材质的刚性基板。
63.在该实施例中，先在所述第二基板301表面形成多层微球层，为了获取进一步的效果，基于所述多层微球层形成单层微球层，并将所述单层微球层覆盖到所述第一基板401表面。所述进一步的效果指的是，分离所述柔性基板层801以及所述第一基板401时，对单层微球层的分离更加干净，不会在所述柔性基板层801表面剩余单层或多层的微粒层。并且，柔性基板层801表面与单层微球层分离后，该单层微球层可以在所述柔性基板层801表面形成波纹阵列的条纹，从而具有较佳的全反射破坏效果，有利于光信号经由所述柔性基板层801传播。
64.在一些实施例中，所述在一第二基板301上形成多层微球层包括：将微球溶液涂覆到所述第二基板301表面；对所述微球溶液进行固化处理，从而在所述第二基板表面形成多层微球层302。此处可以参阅图4，为本技术实施例提供的第二基板301及其上形成的多层微球层302的结构示意图。所述多层微球层302包括多个微球3021，且各个所述微球3021在垂直所述第二基板301表面的方向堆叠形成所述多层微球层302。
65.在一些实施例中，所述微粒层700包括单层排列的pmma(polymethyl methacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)微球。所述pmma微球具有形态均一的特点，在将由单层排列的pmma微球构成的微粒层700从所述柔性基板层801底部去除后，将会在所述柔性基板层801底部形成尺寸均一的波纹阵列，有利于防止光的全反射，并有利于光信号的提取。
66.研究发现，采用所述单层排列的pmma微球作为所述微粒层700时，分离所述柔性基板层801和第一基板时，可以在所述柔性基板层801的分离侧表面形成周期性的第二图案化结构，呈周期性的波纹阵列状。该周期性的第二图案化结构有利于克服柔性基板层801由于全反射造成的光损耗问题，并且成本较低，并且所述第二图案化结构的几何形状与所述pmma微球的形状直接相关，因此可以通过控制pmma微球的粒径、分布来控制所述第二图案
化结构的几何形状，能够很便捷的在所述柔性基板层801表面形成纵横比可控且均一的周期性波纹阵列，从而优化光提取效果，增加所述光电膜层外量子效率，避免大量出光形成全反射造成光损耗。
67.实际上，也可根据具体需求选择所述微粒层700的具体构成。例如，还可以选择ps(polystyrene，聚苯乙烯)微球等材料制备所述微粒层700。这些材料都具有形貌均匀的微球，有助于在所述柔性基板层801表面形成周期波纹阵列的条纹，并且沸点和熔点适中，在200℃附近，很容易实现柔性基板层801的剥离。
68.在一些实施例中，可以根据所需的波纹的尺寸，来选择制备所述微粒层700的材料。在使用所述光电膜层制备oled的实施例中，所需的波纹阵列的条纹的尺寸约为十微米级，因此选用制备微粒层700的材料时，考虑颗粒尺寸在10微米左右的材料即可。
69.在一些实施例中，当使用单层排列的pmma微球作为所述微粒层700时，通过所述旋涂技术将所述pmma溶液涂覆到所述第二基板301表面，所用的旋涂速度为3000至5000rpm，旋涂时间为30至60秒，此时，所述pmma溶液能够均匀的涂覆到所述第二基板301表面，并具有合适的厚度。
70.实际上，也可根据所述微粒层700的具体制备材料选择所述旋涂的时间和转速，以克服所述制备材料的应力等，使所述制备材料能够均匀涂覆在所述第二基板301表面。
71.在该实施例中，所述将所述多层微球层从所述第二基板301表面分离，并基于所述多层微球层形成单层微球层包括：将所述第二基板301浸泡于液体环境中，使所述多层微球层从所述第二基板301表面转移到所述液体环境中并分散，在所述液体表面重新排列形成所述单层微球层。
72.此处可以参阅图5至图6，其中图6是本技术实施例提供的基于多层微球层制备的单层微球层的示意图。
73.所述多层微球层302中的各个微球3021在所述液体环境中具有较好的分散性，因此，在将所述多层微球层302浸入到所述液体环境中后，所述多层微球层302中的各个微球3021会从所述第二基板301表面脱离，并在所述液体环境402的液面逐渐自组装形成单层膜，构成所述单层微球层。
74.在一些实施例中，所述液体环境中的液体包括去离子水，实际上也可以是无水乙醇等其他与微粒层700中的微粒极性相对较大的液体，以使得所述微粒层中的各个微粒能够在所述液体的液面自行组装形成所述单层膜。
75.在一些优选的实施例中，所述制备方法中还包括以下步骤；采用物理振动的方式加快所述多层微球层从所述第二基板301表面分离的速度。
76.在一些实施例中，对所述液体环境施加超声，以对所述液体环境中的多层微球层进行超声分散，使所述液体环境中的液体发生振动，从而加快所述多层微球层从所述第二基板301表面分离的速度。
77.在一些实施例中，所述超声分散使用的是40khz～80khz的中高频的超声波。实际上也可根据需要设置所述超声波的频段，如超高频、甚高频等。所述超声分散还有助于所述多层微球层的各个微球克服微粒间的作用力，使各个所述微球分散开来，以便在所述液面形成单层微球层。
78.实际上，还可以采用摇晃所述液体环境的方式来加速所述多层微球层从所述第二
基板301表面分离，也可根据需要设置具体的物理振动方式。
79.请参阅图3，为一实施例中，将所述单层微球层施加至所述第一基板401表面的步骤流程示意图。
80.在该实施例中，所述将所述单层微球层施加至所述第一基板401表面包括：步骤s301：将所述第一基板401浸泡在所述液体环境中，此处可以参阅图5和图6，在该实施例中，所述第一基板401浸泡在所述液体环境中，并位于所述第二基板301的下方；步骤s302：形成所述单层微球层后，转移所述第一基板401，使所述第一基板401经由所述单层微球层的分布区域离开所述液体环境，使所述单层微球层覆盖于所述第一基板401表面，从而在所述第一基板401表面形成所述单层微球层。
81.请参阅图5至图8，其中图7是本技术实施例提供的转移所述第一基板401后的示意图，图8是本技术实施例提供的第一基板401表面形成单层排列的pmma微球的示意图。
82.在该图5至图8所示的实施例中，采用了特定的提拉装置403以提拉所述第一基板401。所述提拉装置403的制备材料优选为不会与所述液体环境中的液体发生反应的材料，如特氟龙等。实际上还可以根据实际需要设置所述第一基板401的提拉设备和第二基板301的撤除设备，从而撤出所述第二基板301。
83.在一些实施例中，所述将所述单层微球层转移至所述第一基板401表面后还至少包括以下步骤：去除所述第一基板401表面的液体；对所述第一基板401进行第二加热处理和紫外线照射处理，使所述单层微球层与所述第一基板401表面的附着更加紧密。
84.在一些其他的实施例中，所述液体环境中的液体容易在高温下挥发，并且挥发温度低于所述单层微球层的挥发温度，也低于所述第二加热处理的温度。此时，无需额外去除所述第一基板401表面的所述液体，可以借用所述第二加热处理将所述第一基板401表面的液体去除。
85.在一些其他的实施例中，所述液体环境中的液体不易在高温下挥发，或挥发温度大于所述第二加热处理的温度，则可以采用真空干燥的方式等，将所述第一基板401表面的液体去除。
86.在一些实施例中，所述第二加热处理包括：处于50～80℃的温度，烘烤所述第一基板401至少30分钟。经第二加热处理后，所述单层微球层与所述第一基板401表面的附着更加紧密。在该第二加热处理下，所述单层微球层不会发生分解，但与所述第一基板401表面的附着更加紧密。
87.在一些实施例中，所述紫外线照射处理包括：对所述第一基板进行15min至30min的紫外线照射。
88.在一些实施例中，所述在第一基板401表面形成微粒层700前，至少包括以下步骤：清洁所述第一基板401表面；所述清洁所述第一基板401至少包括以下步骤：采用清洁剂清洗所述第一基板401；干燥所述第一基板401；为所述第一基板401提供紫外线光照，且光照时长至少为预设时长。
89.所述清洁剂包括清洗液、去离子水和异丙醇中的至少一种。在一些实施例中，依次使用所述清洗液、去离子水和异丙醇对所述第一基板401进行清洗。实际上也可根据需要设置所述清洁剂的具体材质以及具体清洁顺序。所述清洁剂优选为不与所述第一基板401发生反应的液体，主要作用在于将所述第一基板401表面的附着物冲洗去除。
90.所述紫外线光照可以用来去除所述第一基板401表面的油脂等附着物，起到了一定的清洁效果。在一些实施例中，所述紫外线光照的预设时长至少为20min。
91.在一些实施例中，采用清洁剂清洗所述第一基板401还至少包括以下步骤：向所述清洁剂发射超声波10～20min，使所述清洁剂发生振动，起到更好的清洁效果。
92.实际上，上述方法不仅可以对第一基板401的清洁，也可以实现对所述第二基板301的清洁。在一些实施例中，所述第二基板301的表面形成所述多层微球层前，使用同样的方法对所述第二基板301进行清洁，以防止后续形成的膜层等生长在第二基板301表面附着的脏污上，导致最终形成的光电膜层存在质量问题。
93.在一些实施例中，所述柔性基板层801包括聚酰亚胺膜，在所述微粒层700上形成柔性基板层801包括：在所述微粒层700上涂覆聚酰亚胺溶液后固化形成所述聚酰亚胺膜。
94.在一种具体实施方式中，使用狭缝涂布的方法在所述微粒层700上表面涂覆聚酰亚胺溶液，从而在所述微粒层700上表面形成所述聚酰亚胺膜。
95.狭缝涂布作为一种精密的涂布技术，工作原理为涂布液在一定压力一定流量下沿着涂布模具的缝隙挤压喷出而转移到基材上。相比其它涂布方式，具有很多优点，如涂布速度快、精度高、湿厚均匀；系统封闭，涂布过程中能防止污染物进入，浆料利用率高、能够保持浆料性质稳定，可同时进行多层涂布。通过控制速率，精密计量和泵送工艺流体来实现涂布，在涂布过程中，涂布模具相对于基片作精确移动。
96.实际上，也可以根据需要采用普通的旋涂方式等在所述微粒层700上涂覆所述聚酰亚胺溶液，以形成所述聚酰亚胺膜。
97.实际上，所述柔性基板层801也可以采用其他的材料制备，如使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)等。所述柔性基板层801的厚度与该光电膜层的应用场景相关，一般在7微米至125微米。在一些实施例中，所述光电膜层是用于制备oled屏幕的，所述柔性基板层801的厚度约为5微米至125微米。
98.在一些实施例中，所述聚酰亚胺溶液的溶剂包括n，n-二甲基乙酰胺或丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一种，所述形成所述聚酰亚胺膜后，包括以下步骤：对所述第一基板401进行第三加热处理，以使得所述溶剂挥发。
99.在一些实施例中，所述第三加热处理的温度为100～120℃，烘烤时间为5min～10min。实际上，所述第三加热处理的具体温度与时长与所述溶剂的具体材料相关，所述第三加热处理应当能够使所述溶剂挥发，溶质保留在所述微粒层700表面。
100.请参阅图9，为本技术实施例提供的在所述单层微球层上形成柔性基板层801和光电结构的示意图。
101.在该实施例中，所述光电膜层为oled膜层，所述制备方法还包括以下步骤：在所述柔性基板层上表面形成沿垂直所述第一基板表面的方向向上依次堆叠的第一水氧阻隔层802、光电结构以及第二水氧阻隔层805。
102.所述光电结构包括tft(thin film transistor，薄膜晶体管)层803以及oled发光层804。
103.实际上，在一些其他的实施例中，所述光电膜层为其他基于柔性基板层801实现的光电膜层，此时，所述光电结构也会跟随发生变化。
104.本技术的实施例中还提供了一种光电膜层，包括第一基板；形成于所述第一基板
上表面的微粒层，所述微粒层的表面具有第一图案化结构；形成于所述微粒层的第一图案化结构表面的柔性基板层；所述柔性基板层与所述微粒层可分离，且所述柔性基板层的分离侧表面具有与所述第一图案化结构对应的第二图案化结构。
105.在一种实施例中，所述微粒层包括单层排列的微球；和/或所述微粒层包括若干微球，所述微球的粒径为1微米到100微米，相邻两微球的间距为1nm到100nm；和/或所述微粒层包括可在第一预设温度下热分解或挥发的微球。
106.在一种优选的实施例中，所述微球的粒径为5到20nm。
107.在该实施例中，所述光电膜层中的所述柔性基板层的分离侧表面具有第二图案化结构，该第二图案化结构能够降低所述光电膜层在柔性基板层发生全反射的几率，增加光电膜层外量子效率，使得所述光电膜层具有较佳的光提取效果。并且，由于所述第二图案化结构的几何形状与所述微球的形状直接相关，因此可以通过控制微球的粒径、分布来控制所述第二图案化结构的几何形状，能够很便捷的在所述柔性基板层801表面形成纵横比可控且均一的周期性波纹阵列，从而优化光提取效果，增加所述光电膜层外量子效率，避免大量出光形成全反射造成光损耗。
108.本技术的实施例中还提供了一种发光器件，所述光电器件包括上述光电膜层，因此所述光电器件能够获得具有波纹阵列表面的柔性基板层，该柔性基板层波纹阵列表面能够降低所述光电膜层在柔性基板层发生全反射的几率，增加光电膜层外量子效率，使得所述光电器件具有较佳的光提取效果。
109.本技术的实施例中还提供了一种显示设备，所述显示设备包括所述的发光器件，且所述光电器件的光电膜层具有波纹阵列表面的柔性基板层，该柔性基板层波纹阵列表面能够降低所述光电膜层在柔性基板层发生全反射的几率，增加光电膜层外量子效率，使得所述光电器件具有较佳的光提取效果，因此所述显示设备也具有较佳的显示效果。
110.以下提供第一具体实施方式：
111.1、通过旋涂和水转移技术在刚性玻璃构成的第一基板上表面形成紧密相连的单层pmma微球；
112.2、在单层pmma微球上依次形成聚酰亚胺膜柔性基板层、水氧阻隔层、tft层、oled发光层、水氧阻隔层，从而形成oled底发光器件。
113.3、热处理，将所述聚酰亚胺膜构成的柔性基板层从第一基板剥离，形成以聚酰亚胺膜作为柔性基板层的柔性oled底发光器件。
114.上述步骤1中，使用到了第一基板和第二基板，其中，采用旋涂技术在第二基板上制备多层pmma微球；采用水转移技术在所述第一基板上形成单层pmma微球。并且，在对第一基板和第二基板进行相应的制备前，依次使用清洗液、去离子水、异丙醇超声清洗所述第一基板和第二基板10～20min，之后使用氮气枪将表面液体吹干后，再在230℃的温度下烘烤所述第一基板和第二基板20～30min，冷却后在紫外uv灯光照15～30min取出备用。
115.并且，上述步骤1中使用pmma微球溶液来制备微球。将形貌均一pmma微球胶体加热溶解于甲苯等有机溶剂中，取20～50ul旋涂于第二基板上，旋涂速度为3000～5000rpm，旋涂时间为30～60s，然后真空干燥15～30min，在第二基板形成多层pmma微球薄膜。
116.并且，上述步骤1中，通过将形成多层pmma微球薄膜的第二基板倾斜缓慢浸入去离子水105中，来获取单层pmma微球。在去离子水中，由于表面活性以及去离子水的极性等因
素，所述多层pmma微球薄膜中的各个微球均漂浮到液面，并自组成单层的pmma微球薄膜。
117.并且，在上述步骤1中，还朝向所述去离子水发射40khz～80khz的中高频超声，加速多层微球从所述第二基板表面的分离速度，之后再移除所述第二基板。
118.并且，上述步骤1中，所述第一基板放置在所述去离子水的液面下方，由特氟龙提升工具缓慢垂直的转移所述第一基板至脱离液面，并且提升过程中，第一基板经过所述单层排列的pmma微球所在的区域，从而将所述单层排列的pmma微球捞起，在所述第一基板表面形成单层排列的pmma微球。
119.并且，在上述步骤1中，在所述第一基板表面形成单层排列的pmma微球后，在所述第一基板边缘贴上吸水薄纸吸收第一基板上多余的水分，使单层排列的pmma微球中的各个微球更加紧凑和有序，然后50～80℃烘烤30min，最后得到表面紧密附着单层pmma微球102的玻璃基板103。
120.在上述步骤2中，对上述经过烘烤的附着有单层pmma微球的第一基板103进行紫外线照射，在紫外uv灯光照15～30min。
121.本实施例使用狭缝涂布的方法，在附着有单层pmma微球的第一基板103上形成厚度为5～30um的无色透明的聚酰亚胺薄膜。所述狭缝涂布使用的聚酰亚胺浆料溶剂为n,n-二甲基乙酰胺或丙二醇甲醚醋酸酯的一种，涂布完之后的烘烤温度为100～120℃，烘烤时间为5～10min。
122.依次在柔性基板层上形成水氧阻隔层、tft层、oled发光层、上层水氧阻隔层，形成带有第一基板的oled底发光器件。
123.对上述器件在中低频超声(20～40khz)5～10min后缓慢剥离刚性玻璃基板，形成以聚酰亚胺膜作为柔性基板层的柔性oled底发光器件。剥离后，柔性基板层/空气界面由于pmma微球热分解形成纵横比相对均一周期波纹阵列。柔性基板层/空气的曲形界面有利于减少底发射出光全反射损耗，使得外部出光量子效率增大。
124.以上对本技术实施例所提供的光电膜层及其制备方法、发光器件以及显示设备进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。

技术特征：
1.一种光电膜层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在第一基板表面形成微粒层，所述微粒层的表面具有第一图案化结构；在所述微粒层的第一图案化结构表面形成柔性基板层；将所述柔性基板层与所述微粒层分离，以得到分离侧表面具有与所述第一图案化结构对应的第二图案化结构的光电膜层。2.根据权利要求1所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述微粒层包括单层排列的微球；和/或所述微粒层包括若干微球，所述微球的粒径为1微米到100微米，相邻两微球的间距为1nm到100nm；和/或所述微粒层包括可在第一预设温度下热分解或挥发的微球。3.根据权利要求1所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，将所述柔性基板层与所述微粒层分离的方法包括：对所述第一基板进行第一加热处理，将第一基板加热到第二预设温度，且所述第二预设温度大于所述第一预设温度，以使得所述微粒层挥发或热分解；和/或对所述第一基板进行超声处理，以将所述柔性基板层从所述第一基板表面剥离。4.根据权利要求3所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述第一预设温度为150℃～200℃，所述第二预设温度为160～300℃，所述第一加热处理包括：将所述第一基板放置在160～300℃下烘烤30～60min。5.根据权利要求1所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述在第一基板表面形成微粒层的方法包括：在一第二基板上形成多层微球层；将所述多层微球层从所述第二基板表面分离，并基于所述多层微球层形成单层微球层；将所述单层微球层转移至所述第一基板表面，并以所述单层微球层作为所述微粒层。6.根据权利要求5所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述在一第二基板上形成多层微球层的方法包括：将微球溶液涂覆到所述第二基板表面；对所述微球溶液进行固化处理，以在所述第二基板表面形成多层微球层。7.根据权利要求6所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述将所述多层微球层从所述第二基板表面分离，并基于所述多层微球层形成单层微球层包括：将所述第二基板浸泡于液体环境中，以使所述多层微球层从所述第二基板表面转移到所述液体环境中并分散，在所述液体表面重新排列形成所述单层微球层。8.根据权利要求7所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，对所述液体环境施加超声，以对所述液体环境中的多层微球层进行超声分散。9.根据权利要求5所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述将所述单层微球层转移至所述第一基板表面的方法包括：将所述第一基板浸泡在所述液体环境中；形成所述单层微球层后，转移所述第一基板，使所述第一基板经由所述单层微球层的分布区域离开所述液体环境，使所述单层微球层覆盖于第一基板表面。10.根据权利要求5所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述将所述单层微球层
转移至所述第一基板表面后还包括以下步骤：去除所述第一基板表面的液体；对所述第一基板进行第二加热处理以及紫外线照射处理。11.根据权利要求10所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述第二加热处理包括：处于50～80℃的温度，烘烤所述第一基板至少30分钟；和/或所述紫外线照射处理包括：对所述第一基板进行15min至30min的紫外线照射。12.根据权利要求1所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述柔性基板层包括聚酰亚胺膜，在所述微粒层上形成柔性基板层包括：在所述微粒层表面涂覆聚酰亚胺溶液后固化形成所述聚酰亚胺膜。13.根据权利要求1所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，所述微粒层包括单层排列的pmma微球。14.根据权利要求1所述的光电膜层的制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：在所述柔性基板层上表面形成沿垂直所述第一基板表面的方向向上依次堆叠的第一水氧阻隔层、光电结构以及第二水氧阻隔层。15.一种光电膜层，其特征在于，包括：第一基板；形成于所述第一基板上表面的微粒层，所述微粒层的表面具有第一图案化结构；形成于所述微粒层的第一图案化结构表面的柔性基板层；所述柔性基板层与所述微粒层可分离，且所述柔性基板层的分离侧表面具有与所述第一图案化结构对应的第二图案化结构。16.根据权利要求15所述的光电膜层，其特征在于，所述微粒层包括单层排列的微球；和/或所述微粒层包括若干微球，所述微球的粒径为1微米到100微米，相邻两微球的间距为1nm到100nm；和/或所述微粒层包括可在第一预设温度下热分解或挥发的微球。17.一种发光器件，其特征在于，包括如权利要求15或16所述的光电膜层。18.一种显示设备，其特征在于，包括如权利要求17所述的发光器件。

技术总结
本申请公开一种光电膜层及其制备方法、发光器件以及显示设备，旨在改善柔性基板层的光提取效果，提高外部出光量子效率。本申请的一实施例中提供了一种光电膜层的制备方法，包括以下步骤：在第一基板表面形成微粒层，所述微粒层的表面具有第一图案化结构；在所述微粒层的第一图案化结构表面形成柔性基板层；将所述柔性基板层与所述微粒层分离，以得到分离侧表面具有与所述第一图案化结构对应的第二图案化结构的光电膜层。化结构的光电膜层。化结构的光电膜层。


技术研发人员：潘帅 王士攀 苏亮 庄锦勇 付东
受保护的技术使用者：广东聚华印刷显示技术有限公司
技术研发日：2021.12.31
技术公布日：2023/7/13