一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法

1.本发明涉及测量技术领域，具体涉及一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法。


背景技术：

2.光学式荧光染色薄膜厚度测量技术是一种基于光学方法测量透明荧光染色液体或固体薄膜厚度的技术，如测量led荧光薄膜厚度、间隙内荧光液体薄膜厚度，或间接测量结构间隙的高度、表面凹槽的深度等，在机械、电子、生物等行业中均有应用。荧光法是一种基于激光诱导荧光原理的透明薄膜厚度测量方法。该方法使用激光激发标准厚度的荧光染色薄膜，得到荧光图像，通过计算拟合，得到薄膜厚度与荧光强度之间的标定关系式；然后，使用荧光剂将待测薄膜均匀染色，通过激光激发得到荧光图像，使用荧光图像的灰度值计算各个像素对应的薄膜厚度。
3.然而，荧光法一般用于微米至毫米尺度的薄膜厚度测量，对于微米尺度以下的膜厚测量灵敏度欠佳。而光干涉法以激光干涉原理为基础，得到薄膜的激光干涉图像，通过干涉条纹级次与相对光强计算间隙厚度，在纳米尺度的薄膜厚度测量方面具有较高的灵敏度。因此，如果能够将荧光法与光干涉法在原位实现相互耦合，即可通过光干涉法计算得到的薄膜厚度对荧光法的标定关系式进行修正，从而可以提升荧光法在微米以下尺度的薄膜厚度测量灵敏度，扩大荧光法的有效量程。


技术实现要素：

4.有鉴于此，本发明提供了一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，能够将荧光法与光干涉法在原位实现相互耦合，并通过光干涉法计算得到的薄膜厚度对荧光法的标定关系式进行修正，从而提升荧光法在微米以下尺度的薄膜厚度测量灵敏度，扩大荧光法的有效量程。
5.一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，采用的测量系统包括干涉-荧光原位耦合主光路和待测薄膜组合模块；
6.所述待测薄膜组合模块包括黄金镀膜(3)、玻璃片(4)、微沟槽器件(1)以及荧光染色介质(2)；所述玻璃片(4)下表面镀有黄金镀膜(3)；所述微沟槽器件(1)上表面抛光并刻蚀有矩形的微沟槽，槽底表面作为反射面；微沟槽内为荧光染色介质(2)；
7.所述荧光染色介质(2)的荧光发射峰波长为λe；
8.所述干涉-荧光原位耦合主光路包括物镜(5)、第一成像透镜(13)、第二成像透镜(15)、荧光模块、光干涉模块、分光模块、第一相机(14)、第二相机(16)、第一激光源(7)、第二激光源(10)；
9.所述待测薄膜组合模块、物镜(5)、荧光模块、干涉模块、分光模块在主光路中顺次布置；
10.所述荧光模块包括阈值为λ1的二相色长通滤光片(17)、阈值为λ2的第一长通滤光
片(18)；二相色长通滤光片(17)与主光路光轴呈45度角，第一长通滤光片(18)垂直主光路光轴放置；
11.所述光干涉模块包括全波长半反半透滤光片(19)；所述全波长半反半透滤光片(19)滤光片与主光路光轴呈45度角；
12.所述分光模块包括阈值为λ3的二相色短通滤光片(20)、阈值为λ4的短通滤光片(21)、阈值为λ5的第二长通滤光片(22)；二相色短通滤光片(20)与主光路光轴呈45度角；短通滤光片(21)垂直主光路光轴，第二长通滤光片(22)平行主光路光轴；
13.所述荧光模块、光干涉模块、分光模块均可分别移入、移出主光路；
14.所述第一相机(14)与第一成像透镜(13)放置于第二长通滤光片(22)的反射光路中，用于干涉成像；
15.所述第二相机(16)与第二成像透镜(15)放置于全波长半反半透滤光片(19)的反射光路中，用于荧光成像；
16.所述第一激光源(7)的工作波长为λf，其产生的激光经二相色长通滤光片(17)反射进入主光路；第二激光源(10)的工作波长为λr，经全波长半反半透滤光片(19)反射进入主光路；
17.波长关系满足下式：
18.λf《λ1《λ2《λe《530nm《λ4《λ3《λ5《λr；
19.所述测量方法包括：
20.步骤s11：准备数量为kc个、沟槽深度不同的微沟槽器件(1)，使用荧光染色介质(2)填满微沟槽，将玻璃片(4)的黄金镀膜(3)表面与槽顶表面贴合，构成标准固定厚度荧光染色薄膜；
21.步骤s12：开启第二激光源(10)与第二相机(16)，对标准固定厚度荧光染色薄膜进行对焦与拍摄，得到kc张荧光图像；
22.步骤s13：准备数量为kw个、微沟槽深度不同的微沟槽器件(1)，将玻璃片(4)表面的黄金镀膜(3)表面任一边缘与槽底表面接触，使用荧光染色介质(2)填满玻璃片(4)与微沟槽之间形成的楔形间隙，构成标准楔形荧光染色薄膜；
23.步骤s14：开启第一激光源(7)、第二激光源(10)、第一相机(14)以及第二相机(16)，对标准楔形荧光染色薄膜进行对焦，拍摄荧光图像与干涉条纹图像；
24.步骤s15：对所有标准楔形荧光染色薄膜重复执行步骤s14，得到kw张的荧光图像与干涉条纹图像；
25.步骤s16：使用光干涉法计算第k张干涉条纹图像的任一像素(i,j)的薄膜厚度步骤s16：使用光干涉法计算第k张干涉条纹图像的任一像素(i,j)的薄膜厚度
26.其中，为微沟槽在(i,jc)处的深度；为微沟槽边缘处灰度值；为微沟槽边缘处极值点数；rf为荧光染色介质(2)的折射率；jc为微沟槽器件(1)的标准楔形荧光染色薄膜厚度最大位置的像素列坐标，p
i,j(k)
为第i行像素中，像素(i,j)与像素(i,jc)之间的
灰度极值点个数；其中，p
i,jc(k)
表示沟槽边缘处极值点数，为0，g
i,j(k)
为像素(i,j)的灰度值，g
i,j(k)max
为第i行像素中，距离像素(i,j)最近的灰度极大值，g
i,j(k)min
为第i行像素中，距离像素(i,j)最近的灰度极小值；
27.步骤s17：对kw张干涉条纹图像重复执行s16，得到所有干涉条纹图像对应的薄膜厚度；
28.步骤s18：对k＝kc+kw张荧光图像，构建标定系数线性方程组：
[0029][0030]
其中，a
i,j(n)
为像素(i,j)对应的第n阶拟合项系数，n为拟合公式总阶数，h
i,j(k)
为第k张图像中像素(i,j)对应的薄膜厚度，其中，k＝kc+kw张荧光图像中，前kc张拍摄的是标准固定厚度荧光染色薄膜，厚度为已知，后kw张拍摄的是标准楔形荧光染色薄膜，厚度根据s16中公式计算得到；
[0031]
步骤s19：求解步骤s18构建的标定系数线性方程组，得到拟合项系数表；
[0032]
步骤s20：使用同一光学测量系统，拍摄待测薄膜的荧光照片；
[0033]
步骤s21:使用步骤s19计算得到的拟合项系数，根据薄膜厚度与荧光强度值之间的关系式，计算每一像素(i,j)对应的薄膜厚度：
[0034][0035]
其中，h
i,j
为待测薄膜在像素(i,j)的厚度，g
i,j
为待测薄膜荧光图像像素(i,j)所对应的灰度值。
[0036]
较佳的，λ1＝490nm；λ2＝500nm；λ3＝625nm；λ4＝600nm；λ5＝630nm；λf＝470nm；λr＝655nm；λe＝515nm。
[0037]
较佳的，所述第一相机(14)和第二相机(16)之间通过同步信号线(23)相互连接，实现同步触发。
[0038]
较佳的，所述荧光模块还包括第一镜架(6)；所述二相色长通滤光片(17)和第一长通滤光片(18)安装在第一镜架(6)上。
[0039]
较佳的，所述光干涉模块还包括第二镜架(9)；所述全波长半反半透滤光片(19)安装在第二镜架(9)之上。
[0040]
较佳的，所述分光模块还包括第三镜架(12)；所述二相色短通滤光片(20)、短通滤光片(21)和第二长通滤光片(22)安装在第三镜(12)之上。
[0041]
本发明具有如下有益效果：
[0042]
本发明提供了一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，针对干涉条纹法不适用于微米尺度以上的膜厚测量、荧光法微米尺度以下膜厚测量灵敏度欠佳的问题，本发明考虑到两种方法各自的优势，基于同一光路使用两种方法实现对同一位置的薄膜厚度测量，将荧光法与光干涉法在原位实现相互耦合，即可通过光干涉法计算得到的薄膜厚度对荧光法的标定关系式进行修正，从而可以提升荧光法在微米以下尺度的薄膜厚度测量灵敏度，扩大荧光法的有效量程。
附图说明
[0043]
图1为本发明测量方法的硬件系统组成、成像原理与实际使用方式示意图；
[0044]
图2为本发明测量方法得到的干涉图像的强度曲线、干涉图以及标准楔形荧光染色薄膜对应关系图。
[0045]
其中，1-反射镜，2-待测荧光染色薄膜，3-黄金镀膜，4-玻璃片，5-物镜，6-第一镜架(荧光模块)，7-第一激光源(波长为λfnm，用于干涉成像)，8-第一光纤，9-第二镜架(干涉模块)，10-第二激光源(波长为λrnm，用于荧光成像)，11-第二光纤，12-第三镜架(分光模块)，13-第一成像透镜(干涉)，14-第一相机(干涉)，15-第二成像透镜(荧光)，16-第二相机(荧光)，17-二相色长通滤光片(阈值为λ1nm)，18-第一长通滤光片(阈值为λ2nm)，19-全波长半反半透滤光片，20-二相色短通滤光片(阈值为λ3nm)，21-短通滤光片(阈值为λ4nm)，22-第二长通滤光片(阈值为λ5nm)，23-相机同步信号线，箭头虚线代表光线及其传播方向。
具体实施方式
[0046]
下面结合附图并举实施例，对本发明进行详细描述。
[0047]
本发明提供了一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，基于图1所示的测量系统，包括：干涉-荧光原位耦合主光路和待测薄膜组合模块；
[0048]
待测薄膜组合模块包括黄金镀膜3、玻璃片4、微沟槽器件1、荧光染色介质2；所述玻璃片4材料为石英玻璃，下表面镀有黄金镀膜3，其材料为高纯度黄金，以二氧化硅作为保护层，表面平整；
[0049]
所述微沟槽器件1为单晶硅或金属材质，上表面抛光并刻蚀有矩形的微沟槽，槽底表面具有较高的反光率；微沟槽内为荧光染色介质2。
[0050]
所述荧光染色介质2为透明度较高、荧光染色均匀的液体或软物质，其荧光发射峰波长为λe＝515nm；
[0051]
玻璃片4放置在微沟槽器件1上表面上，黄金镀膜3朝下。
[0052]
所述干涉-荧光原位耦合主光路包括：物镜5、第一成像透镜13、第二成像透镜15、荧光模块、光干涉模块、分光模块、第一相机14、第二相机16、第一激光源7、第二激光源10、第一光纤8、第二光纤11、相机同步信号线23；
[0053]
待测薄膜组合模块、物镜5、荧光模块、干涉模块、分光模块在主光路中从下到上依次布置。
[0054]
所述荧光模块包括：阈值为λ1＝490nm的二相色长通滤光片17、阈值为λ2＝500nm的第一长通滤光片18、第一镜架6；二相色长通滤光片17和第一长通滤光片18安装在第一镜架6之上；二相色长通滤光片17与主光路光轴呈45度角，第一长通滤光片18垂直主光路光轴放
置。
[0055]
所述光干涉模块包括：全波长半反半透滤光片19、第二镜架9，全波长半反半透滤光片19；全波长半反半透滤光片19安装在第二镜架9之上，使其与主光路光轴呈45度角。
[0056]
所述分光模块包括：阈值为λ3＝625nm的二相色短通滤光片20、阈值为λ4＝600nm的短通滤光片21、阈值为λ5＝630nm的第二长通滤光片22、第三镜架12，二相色短通滤光片20、短通滤光片21和第二长通滤光片22安装在第三镜架12之上；二相色短通滤光片20与主光路光轴呈45度角；短通滤光片21垂直主光路光轴，第二长通滤光片22平行主光路光轴。
[0057]
所述第一镜架6、第二镜架9和第三镜架12均可平行移动，可将荧光模块、光干涉模块、分光模块分别移入、移出主光路，根据需要构成不同的工作模式。
[0058]
所述第一相机14、第二相机16为两台帧频、分辨率相同的相机，可使用同步信号线23相互连接，实现同步触发。
[0059]
所述第一相机14与第一成像透镜13放置于第二长通滤光片22的反射光路中，用于干涉成像。
[0060]
所述第二相机16与第二成像透镜15放置于全波长半反半透滤光片19的反射光路中，用于荧光成像。
[0061]
所述第一激光源7的工作波长为λf＝470nm，用于荧光成像，其产生的激光经二相色长通滤光片17反射进入主光路；第二激光源10的工作波长为λr＝655nm，用于干涉成像，经全波长半反半透滤光片19反射进入主光路。
[0062]
激光源与各滤光片满足如下波长关系式：
[0063]
λf《λ1《λ2《λe《530nm《λ4《λ3《λ5《λr。
[0064]
所述测量方法，需得到标准厚度荧光染色薄膜的原位荧光图像和干涉条纹图像若干，具体步骤如下：
[0065]
步骤s11：准备数量为kc个、沟槽深度不同的微沟槽器件1，使用荧光染色介质2填满微沟槽器件1，将玻璃片镀膜3表面与槽顶表面紧密贴合，构成标准固定厚度荧光染色薄膜；其中，kc取值大于2，数量越多越好。
[0066]
步骤s12：开启第二激光源10与第二相机16，对标准固定厚度荧光染色薄膜进行对焦与拍摄，得到kc张荧光图像；
[0067]
步骤s13：准备数量为kw个、沟槽深度不同的微沟槽器件1，将玻璃片镀膜3表面任一边缘与槽底表面接触，使用荧光染色介质填满玻璃片与标准微沟槽之间形成的两个楔形间隙，构成标准楔形荧光染色薄膜；kc和kw取值大于2，数量越多越好。
[0068]
步骤s14：开启第一激光源7、第二激光源10、第一相机14以及第二相机16，对标准楔形荧光染色薄膜进行对焦，调整标准楔形荧光染色薄膜方位，使干涉条纹尽量与像素的列方向平行，且像素列坐标j随劈尖的上行而增加，拍摄荧光图像与干涉条纹图像；
[0069]
步骤s15：对所有标准楔形荧光染色薄膜重复步骤s14，得到kw张原位的荧光图像与干涉条纹图像；
[0070]
步骤s16：对于第k张干涉条纹图像的任一像素(i,j)，使用光干涉法计算薄膜厚度如下：
[0071][0072]
其中，为微沟槽在(i,jc)处的深度；为微沟槽边缘处灰度值；为微沟槽边缘处极值点数；rf为荧光染色介质(2)的折射率；jc为微沟槽器件(1)的标准楔形荧光染色薄膜厚度最大位置的像素列坐标，p
i,j(k)
为第i行像素中，像素(i,j)与像素(i,jc)之间的灰度极值点个数；其中，p
i,jc(k)
表示沟槽边缘处极值点数，为0，g
i,j(k)
为像素(i,j)的灰度值，g
i,j(k)max
为第i行像素中，距离像素(i,j)最近的灰度极大值，g
i,j(k)min
为第i行像素中，距离像素(i,j)最近的灰度极小值；
[0073]
步骤s17：对kw张干涉条纹图像重复s16，得到所有干涉条纹图像对应的薄膜厚度；
[0074]
步骤s18：对k＝kc+kw张荧光图像，构建标定系数线性方程组：
[0075][0076]
其中，a
i,j(n)
为像素(i,j)对应的第n阶拟合项系数，n为拟合公式总阶数，h
i,j(k)
为第k张图像中像素(i,j)对应的薄膜厚度，其中，k＝kc+kw张荧光图像中，前kc张拍摄的是标准固定厚度荧光染色薄膜，厚度为已知，后kw张拍摄的是标准楔形荧光染色薄膜，厚度根据s16中公式计算得到；
[0077]
步骤s19：求解步骤s18构建的标定系数线性方程组，得到拟合项系数表；
[0078]
步骤s20：使用同一光学测量系统，拍摄待测薄膜的荧光照片；
[0079]
步骤s21:使用步骤s19计算得到的拟合项系数，根据薄膜厚度与荧光强度值之间的关系式，计算每一像素(i,j)对应的薄膜厚度：
[0080][0081]
其中，h
i,j
为待测薄膜在像素(i,j)的厚度，g
i,j
为待测薄膜荧光图像像素(i,j)所对应的灰度值。
[0082]
综上所述，以上仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

技术特征：
1.一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，其特征在于，采用的测量系统包括干涉-荧光原位耦合主光路和待测薄膜组合模块；所述待测薄膜组合模块包括黄金镀膜(3)、玻璃片(4)、微沟槽器件(1)以及荧光染色介质(2)；所述玻璃片(4)下表面镀有黄金镀膜(3)；所述微沟槽器件(1)上表面抛光并刻蚀有矩形的微沟槽，槽底表面作为反射面；微沟槽内为荧光染色介质(2)；所述荧光染色介质(2)的荧光发射峰波长为λ
e
；所述干涉-荧光原位耦合主光路包括物镜(5)、第一成像透镜(13)、第二成像透镜(15)、荧光模块、光干涉模块、分光模块、第一相机(14)、第二相机(16)、第一激光源(7)、第二激光源(10)；所述待测薄膜组合模块、物镜(5)、荧光模块、干涉模块、分光模块在主光路中顺次布置；所述荧光模块包括阈值为λ1的二相色长通滤光片(17)、阈值为λ2的第一长通滤光片(18)；二相色长通滤光片(17)与主光路光轴呈45度角，第一长通滤光片(18)垂直主光路光轴放置；所述光干涉模块包括全波长半反半透滤光片(19)；所述全波长半反半透滤光片(19)滤光片与主光路光轴呈45度角；所述分光模块包括阈值为λ3的二相色短通滤光片(20)、阈值为λ4的短通滤光片(21)、阈值为λ5的第二长通滤光片(22)；二相色短通滤光片(20)与主光路光轴呈45度角；短通滤光片(21)垂直主光路光轴，第二长通滤光片(22)平行主光路光轴；所述荧光模块、光干涉模块、分光模块均可分别移入、移出主光路；所述第一相机(14)与第一成像透镜(13)放置于第二长通滤光片(22)的反射光路中，用于干涉成像；所述第二相机(16)与第二成像透镜(15)放置于全波长半反半透滤光片(19)的反射光路中，用于荧光成像；所述第一激光源(7)的工作波长为λ
f
，其产生的激光经二相色长通滤光片(17)反射进入主光路；第二激光源(10)的工作波长为λ
r
，经全波长半反半透滤光片(19)反射进入主光路；波长关系满足下式：λ
f
<λ1<λ2<λ
e
<530nm<λ4<λ3<λ5<λ
r
；所述测量方法包括：步骤s11：准备数量为k
c
个、沟槽深度不同的微沟槽器件(1)，使用荧光染色介质(2)填满微沟槽，将玻璃片(4)的黄金镀膜(3)表面与槽顶表面贴合，构成标准固定厚度荧光染色薄膜；步骤s12：开启第二激光源(10)与第二相机(16)，对标准固定厚度荧光染色薄膜进行对焦与拍摄，得到k
c
张荧光图像；步骤s13：准备数量为k
w
个、微沟槽深度不同的微沟槽器件(1)，将玻璃片(4)表面的黄金镀膜(3)表面任一边缘与槽底表面接触，使用荧光染色介质(2)填满玻璃片(4)与微沟槽之间形成的楔形间隙，构成标准楔形荧光染色薄膜；步骤s14：开启第一激光源(7)、第二激光源(10)、第一相机(14)以及第二相机(16)，对标准楔形荧光染色薄膜进行对焦，拍摄荧光图像与干涉条纹图像；
步骤s15：对所有标准楔形荧光染色薄膜重复执行步骤s14，得到k
w
张的荧光图像与干涉条纹图像；步骤s16：使用光干涉法计算第k张干涉条纹图像的任一像素(i,j)的薄膜厚度步骤s16：使用光干涉法计算第k张干涉条纹图像的任一像素(i,j)的薄膜厚度其中，为微沟槽在(i,jc)处的深度；为微沟槽边缘处灰度值；为微沟槽边缘处极值点数；r
f
为荧光染色介质(2)的折射率；jc为微沟槽器件(1)的标准楔形荧光染色薄膜厚度最大位置的像素列坐标，p
i,j(k)
为第i行像素中，像素(i,j)与像素(i,jc)之间的灰度极值点个数；其中，p
i,jc(k)
表示沟槽边缘处极值点数，为0，g
i,j(k)
为像素(i,j)的灰度值，g
i,j(k)max
为第i行像素中，距离像素(i,j)最近的灰度极大值，g
i,j(k)min
为第i行像素中，距离像素(i,j)最近的灰度极小值；步骤s17：对k
w
张干涉条纹图像重复执行s16，得到所有干涉条纹图像对应的薄膜厚度；步骤s18：对k＝k
c
+k
w
张荧光图像，构建标定系数线性方程组：其中，a
i,j(n)
为像素(i,j)对应的第n阶拟合项系数，n为拟合公式总阶数，h
i,j(k)
为第k张图像中像素(i,j)对应的薄膜厚度，其中，k＝k
c
+k
w
张荧光图像中，前k
c
张拍摄的是标准固定厚度荧光染色薄膜，厚度为已知，后k
w
张拍摄的是标准楔形荧光染色薄膜，厚度根据s16中公式计算得到；步骤s19：求解步骤s18构建的标定系数线性方程组，得到拟合项系数表；步骤s20：使用同一光学测量系统，拍摄待测薄膜的荧光照片；步骤s21:使用步骤s19计算得到的拟合项系数，根据薄膜厚度与荧光强度值之间的关系式，计算每一像素(i,j)对应的薄膜厚度：其中，h
i,j
为待测薄膜在像素(i,j)的厚度，g
i,j
为待测薄膜荧光图像像素(i,j)所对应的灰度值。2.如权利要求1所述的一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，其特征
在于，λ1＝490nm；λ2＝500nm；λ3＝625nm；λ4＝600nm；λ5＝630nm；λ
f
＝470nm；λ
r
＝655nm；λ
e
＝515nm。3.如权利要求1所述的一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，其特征在于，所述第一相机(14)和第二相机(16)之间通过同步信号线(23)相互连接，实现同步触发。4.如权利要求1所述的一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，其特征在于，所述荧光模块还包括第一镜架(6)；所述二相色长通滤光片(17)和第一长通滤光片(18)安装在第一镜架(6)上。5.如权利要求1所述的一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，其特征在于，所述光干涉模块还包括第二镜架(9)；所述全波长半反半透滤光片(19)安装在第二镜架(9)之上。6.如权利要求1所述的一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，其特征在于，所述分光模块还包括第三镜架(12)；所述二相色短通滤光片(20)、短通滤光片(21)和第二长通滤光片(22)安装在第三镜(12)之上。

技术总结
本发明提供了一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，针对干涉条纹法不适用于微米尺度以上的膜厚测量、荧光法微米尺度以下膜厚测量灵敏度欠佳的问题，本发明考虑到两种方法各自的优势，基于同一光路使用两种方法实现对同一位置的薄膜厚度测量，将荧光法与光干涉法在原位实现相互耦合，即可通过光干涉法计算得到的薄膜厚度对荧光法的标定关系式进行修正，从而可以提升荧光法在微米以下尺度的薄膜厚度测量灵敏度，扩大荧光法的有效量程。程。程。


技术研发人员：王文中 陈虹百 梁鹤
受保护的技术使用者：北京理工大学
技术研发日：2023.05.04
技术公布日：2023/7/20