一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统及装置的制作方法

1.本发明涉及前驱体制备技术领域，特别涉及一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统及装置。


背景技术：

2.三元材料前驱体制备过程中，在进行共沉淀反应时，需要在反应釜中对混合溶液与浆料进行搅拌，保证三元前驱体的均匀反应结晶，反应的质量好坏直接影响下一道工序，反应釜中的搅拌环节直接影响到浆料的质量。
3.目前在反应釜中常用的是机械搅拌方式，机械搅拌存在功耗较大、搅拌叶片受转动半径影响导致其生产量小、反应釜受热不均匀等缺点。并且搅拌器会存在磨损、锈蚀而产生磁性物质引入浆料的问题。
4.有鉴于此，本技术的发明人经过深入研究，得到一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统及装置。


技术实现要素：

5.本发明的目的是提供一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统及装置，其能够实现无磁性快速均匀搅拌。
6.本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
7.一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统，包括搅拌装置、底液泵送回路、提固装置、氮气循环系统和气液混合装置，所述搅拌装置包括反应釜和搅拌组件，所述搅拌组件设于所述反应釜中，所述搅拌组件包括固定底座和搅拌单元，所述搅拌单元包括两限位件、气液旋转组件、螺旋杆、安装板和两输送管道，所述安装板设于所述固定底座上，所述螺旋杆竖直设于所述安装板上，所述两限位件分别设于所述螺旋杆的上端和下端，所述气液旋转组件包括内芯、旋转体和多个喷嘴，所述内芯和所述旋转体设置为圆柱形，所述旋转体上表面的中心位置设有与所述螺旋杆相配合的双环形凹槽，所述双环形凹槽的底部设有由所述旋转体的下表面向上延伸的安置槽，所述安置槽的侧壁上设有气液孔道，所述气液孔道的外侧连接有圆形腔室，所述圆形腔室的外侧设有多个气液出口，所述多个气液出口一一对应连接所述多个喷嘴，所述内芯回转设置于所述安置槽中，被所述螺旋杆穿过，所述内芯中设有两气液入口，所述两气液入口的一端分别连接所述两输送管道，另一端连通所述气液孔道，所述底液泵送回路、所述提固装置和所述氮气循环系统连通所述反应釜。
8.在一个优选实施例中，所述的底液泵送回路包括多个阀门和磁力泵；所述的氮气循环系统包括氮气罐、氮气输送装置、风机、空气过滤器、冷干和加热器，所述氮气罐设置有止回阀、补气阀、排气阀和安全阀；所述的底液泵送回路与所述氮气循环系统合流处设置有气液混合装置。
9.一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，包括反应釜和搅拌组件，所述搅拌组件设于所述反应釜中，所述搅拌组件包括固定底座和搅拌单元，所述搅拌单元包括两限位件、气
液旋转组件、螺旋杆、安装板和两输送管道，所述安装板设于所述固定底座上，所述螺旋杆竖直设于所述安装板上，所述两限位件分别设于所述螺旋杆的上端和下端，所述气液旋转组件包括内芯、旋转体和多个喷嘴，所述内芯和所述旋转体设置为圆柱形，所述旋转体上表面的中心位置设有与所述螺旋杆相配合的双环形凹槽，所述双环形凹槽的底部设有由所述旋转体的下表面向上延伸的安置槽，所述安置槽的侧壁上设有气液孔道，所述气液孔道的外侧连接有圆形腔室，所述圆形腔室的外侧设有多个气液出口，所述多个气液出口一一对应连接所述多个喷嘴，所述内芯回转设置于所述安置槽中，被所述螺旋杆穿过，所述内芯中设有两气液入口，所述两气液入口的一端分别连接所述两输送管道，另一端连通所述气液孔道。
10.在一个优选实施例中，所述搅拌单元设有多个。
11.在一个优选实施例中，所述气液旋转组件还包括轴承、挡板和螺钉，所述内芯的周壁上设有环绕其自身的环形凸台，所述挡板利用所述螺钉安装于所述旋转体的下表面，所述挡板抵住所述轴承的外环，所述轴承的内环通过所述环形凸台进行支撑。
12.在一个优选实施例中，所述气液出口与所述喷嘴通过螺纹连接。
13.在一个优选实施例中，所述喷嘴内部设置中空孔道，所述中空孔道的出口偏心设置。
14.在一个优选实施例中，所述喷嘴上设有倾斜设置的喷嘴限位杆，所述限位件上设置有用于拨动所述喷嘴限位杆的限位件限位杆，所述限位件限位件与所述喷嘴限位杆一一对应设置。
15.在一个优选实施例中，所述内芯的外周设有连通所述气液孔道和所述气液入口的环形凹槽，所述环形凹槽的上方和下方设有密封圈。
16.在一个优选实施例中，所述喷嘴的数量设置为六个。
17.与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：
18.1.整个搅拌系统搅拌均匀性好，耗时短，无磁性污染，可实现连续作业，功耗低，极大的提高了生产效率。
19.2.在工作的过程中，通过氮气循环系统和气液搅拌装置实现全方位快速均匀搅拌，使三元前驱体固体颗粒在液相中均匀悬浮，釜内的溶液浆料具有较大的循环流量和流动速度。
20.3.装置功耗低，结构件的运动仅依靠气液推动，实现反应釜内全方位搅拌。
21.4.本装置中与液流接触的部分全部采用非金属塑料材质和陶瓷材质，无磁性物质污染。通过氮气循环与加热强化了反应釜内的传热，保证反应釜内各处温度的均一性。可通过调节气液输送的速度提高反应釜搅拌处理效率。
附图说明
22.图1是本发明涉及一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统工艺图。
23.图2是本发明涉及一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置的搅拌组件的结构示意图。
24.图3是本发明涉及一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置的搅拌单元的结构示意图。
25.图4是本发明涉及一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置的搅拌单元的局部剖视图。
26.图5是本发明涉及一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置的喷头的立体结构即纵截面结构示意图。
27.图6是本发明涉及一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置的限位件的结构示意图。
28.图中
29.1、底液泵送回路；2、搅拌组件；3、反应釜；4、提固装置；5、氮气循环系统；6、气液混合装置；7、搅拌单元；8、固定底座；9、限位件；10、气液旋转组件；11、螺旋杆；12、输送管道；13、内芯；14、螺钉；15、圆形挡板；16、轴承；17、喷嘴；18、旋转体；19、密封圈；20、气液入口；21、环形凸台；22、环形凹槽；23、气液出口；24、气液孔道；25、圆形腔室；26、喷嘴限位杆；27、限位件限位杆；28、安装板；29、中空孔道。
具体实施方式
30.以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
31.本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。
32.实施例一：
33.一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统，包括搅拌装置、底液泵送回路、提固装置、氮气循环系统和气液混合装置，所述搅拌装置包括反应釜和搅拌组件，所述搅拌组件设于所述反应釜中，所述搅拌组件包括固定底座和搅拌单元，所述搅拌单元包括两限位件、气液旋转组件、螺旋杆、安装板和两输送管道，所述安装板设于所述固定底座上，所述螺旋杆竖直设于所述安装板上，所述两限位件分别设于所述螺旋杆的上端和下端，所述气液旋转组件包括内芯、旋转体和多个喷嘴，所述内芯和所述旋转体设置为圆柱形，所述旋转体上表面的中心位置设有与所述螺旋杆相配合的双环形凹槽，所述双环形凹槽的底部设有由所述旋转体的下表面向上延伸的安置槽，所述安置槽的侧壁上设有气液孔道，所述气液孔道的外侧连接有圆形腔室，所述圆形腔室的外侧设有多个气液出口，所述多个气液出口一一对应连接所述多个喷嘴，所述内芯回转设置于所述安置槽中，被所述螺旋杆穿过，所述内芯中设有两气液入口，所述两气液入口的一端分别连接所述两输送管道，另一端连通所述气液孔道，所述底液泵送回路、所述提固装置和所述氮气循环系统连通所述反应釜。
34.所述的底液泵送回路包括相应阀门和磁力泵。
35.所述的反应釜中设有温度监测仪和ph监测仪，对反应釜内的温度和ph进行监测，调节ph值促进共沉淀反应，通过氮气循环系统的加热器调节其温度，实现反应釜内部均匀受热。
36.所述的提固装置具体为浓密机，实现反应釜中的浆料提固。
37.所述的氮气循环系统包括氮气罐、氮气输送装置、风机、空气过滤器、冷干和加热器，用于高压氮气的输送，氮气循环系统可实现氮气循环利用，将反应釜顶部排出的氮气通过冷干机与空气过滤器后，回送到氮气罐，进行下一次的循环利用，氮气罐设置止回阀、补气阀、排气阀和安全阀，实现对氮气的安全监测与循环利用。此外，氮气循环系统设有加热
器，将氮气进行加热后通过气液搅拌装置在整个反应釜全方位排出，实现反应釜内温度均匀控制。
38.所述的底液泵送回路将反应釜中的底液抽吸上来与高压氮气一同送入气液搅拌装置进行气液搅拌，实现反应釜的循环均化控制。
39.所述的底液泵送回路与所述氮气循环系统合流处设置有气液混合装置，具体的为文丘里射流器，气相作为主流、底液作为次流，将其在射流器中进行混合，再将气液混合物送入气液搅拌装置。
40.与现有技术相比，本实施例具有如下有益效果：
41.1.整个搅拌系统搅拌均匀性好，耗时短，无磁性污染，可实现连续作业，功耗低，极大的提高了生产效率。
42.2.在工作的过程中，通过氮气循环系统和气液搅拌装置实现全方位快速均匀搅拌，使三元前驱体固体颗粒在液相中均匀悬浮，釜内的溶液浆料具有较大的循环流量和流动速度。
43.3.装置功耗低，结构件的运动仅依靠气液推动，实现反应釜内全方位搅拌。
44.4.本装置中与液流接触的部分全部采用非金属塑料材质和陶瓷材质，无磁性物质污染。通过氮气循环与加热强化了反应釜内的传热，保证反应釜内各处温度的均一性。可通过调节气液输送的速度提高反应釜搅拌处理效率。
45.实施例二：
46.一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，包括反应釜和搅拌组件，所述搅拌组件设于所述反应釜中，所述搅拌组件包括固定底座和搅拌单元，所述搅拌单元包括两限位件、气液旋转组件、螺旋杆、安装板和两输送管道，所述安装板设于所述固定底座上，所述螺旋杆竖直设于所述安装板上，所述两限位件分别设于所述螺旋杆的上端和下端，所述气液旋转组件包括内芯、旋转体和多个喷嘴，所述内芯和所述旋转体设置为圆柱形，所述旋转体上表面的中心位置设有与所述螺旋杆相配合的双环形凹槽，所述双环形凹槽的底部设有由所述旋转体的下表面向上延伸的安置槽，所述安置槽的侧壁上设有气液孔道，所述气液孔道的外侧连接有圆形腔室，所述圆形腔室的外侧设有多个气液出口，所述多个气液出口一一对应连接所述多个喷嘴，所述内芯回转设置于所述安置槽中，被所述螺旋杆穿过，所述内芯中设有两气液入口，所述两气液入口的一端分别连接所述两输送管道，另一端连通所述气液孔道。
47.所述搅拌装置高度占反应釜高度的四分之一，
48.为了实现充分搅拌，所述搅拌单元设有多个，在本实施例中具体设置为六个。
49.进一步，所述气液旋转组件还包括轴承、挡板和螺钉，所述内芯的周壁上设有环绕其自身的环形凸台，所述挡板利用所述螺钉安装于所述旋转体的下表面，所述挡板抵住所述轴承的外环，所述轴承的内环通过所述环形凸台进行支撑，从而实现内芯和旋转体的回转连接。
50.进一步，所述气液出口与所述喷嘴通过螺纹连接。
51.进一步，为了实现喷嘴的转动设置，所述喷嘴内部设置中空孔道，所述中空孔道的出口偏心设置。
52.为了实现喷嘴喷射方向的倾转调节，所述喷嘴上设有倾斜设置的喷嘴限位杆，所
述限位件上设置有用于拨动所述喷嘴限位杆的限位件限位杆，所述限位件限位件与所述喷嘴限位杆一一对应设置，当喷嘴限位杆接触限位件限位杆时，由于限位件限位杆的作用，使得喷嘴限位杆发生转动，从而使得喷嘴发生转动，切换喷嘴的喷射方向。
53.进一步，所述内芯的外周设有连通所述气液孔道和所述气液入口的环形凹槽，所述环形凹槽的上方和下方设有密封圈。
54.具体的，所述喷嘴的数量设置为六个。
55.本装置中所有部件与液体接触部分均使用塑料件与陶瓷件，无磁性污染。整个装置实现气液搅拌，使得反应釜内的的盐、碱、氨水溶液快速分散，并使溶液浆料具有较大的循环流量和流动速度，让三元前驱体固体颗粒在液相中均匀悬浮。此外氮气循环系统的加热器使得反应釜的强化传热，保证反应釜内各处温度的均一性。
56.为了更清楚对本实施例一和实施例二进行的结构及工作原理进行说明，下面结合附图进行进一步的阐述：
57.如图1至图5所示，一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统，包括底液泵送回路1、搅拌装置、提固装置4、氮气循环系统5和气液混合装置6，搅拌装置包括搅拌组件2和反应釜3。
58.所述搅拌组件2包括搅拌单元7和固定底座8；所述搅拌单元7包括限位件9、气液旋转组件10和螺旋杆11；所述气液旋转组件10包括输送管道12、内芯13、螺钉14、圆形挡板15、轴承16、喷嘴17、旋转体18、密封圈19、气液入口20、环形凸台21、环形凹槽22、气液出口23、气液孔道24、圆形腔室25和喷嘴限位杆26。
59.搅拌组件2的固定底座8安装在反应釜3底部中央，搅拌单元7均布在固定底座8的四周和中央，通过螺栓连接，搅拌单元7可根据情况设置一个或者多个。
60.所述的螺旋杆11顶部和底部有圆头，圆头上布置有螺纹，螺旋杆11底部为安装板28。
61.所述的两个限位件9通过螺纹安装在螺旋杆11的顶部和底部对称布置，限位件9圆周布置有六个限位件限位杆27。气液旋转组件10布置在螺旋杆11上，螺旋杆11的最底端有安装板28用于与固定底座8连接。
62.所述的内芯13为圆柱体，中间空心，底部圆孔凸起为气液入口20，气液入口20末端通孔与环形凹槽22相连。
63.所述的旋转体18圆心处为双环形凹槽，用于与螺旋杆11限位移动，实现旋转体18随着螺旋杆11的上下旋转移动，旋转体18的内圆周侧对称设置两个圆形的气液孔道24，气液孔道24末端与圆形腔室25相连，圆形腔室25的外侧圆周均布六个气液出口23。
64.所述的喷嘴17为圆柱凸台形，首端设有一个喷嘴限位杆26，内部为中空孔道29，所述中空孔道29出口偏心设置，通过旋转喷嘴实现出口方向调节。
65.如图4所示，内芯13、旋转体18和喷嘴17构成气液旋转组件10，内芯13与旋转体18的内部凹槽进行回转连接，内芯13的环形凹槽22处使用密封圈19进行密封，圆形挡板15通过螺钉14与旋转体18紧固连接，圆形挡板15的内圈抵住轴承16外环，轴承16内环通过内芯13的边缘环形凸台21进行支撑，从而实现内芯13与旋转体18的回转连接。六个喷嘴17分别与旋转体18的六个气液出口23通过螺纹连接。
66.所述的输送管道12为软管，其上端与气液旋转组件10相连，下端与氮气循环系统5和底液泵送回路1的合流管路相连，软管下端通过下方限位件9的圆孔，实现输送管道12的
上下移动而不移位。
67.其工作过程如下：
68.如图1所示，氮气循环系统5将高压氮气进行加热与底液泵送回路1输送的底液合流共同送入搅拌组件2。
69.具体的，如图4所示，气液混合物通过输送管道12进入内芯13的气液入口20，由气液入口20通入环形凹槽22，随后通过旋转体18的气液孔道24通入圆形腔室25，最后由气液出口23通入喷嘴17喷入反应釜3。
70.具体的，气液旋转组件10初始设置在螺旋杆11底部，喷嘴17初始位置为顺时针环形喷出。
71.具体的，喷嘴17喷出气液，反作用力使得旋转体18开始旋转，内芯13的环形凸台21与轴承16内环相抵，同时输送管道12与内芯13的气液入口20具有一定作用力，实现旋转体18旋转，而内芯13固定不动，避免输送管道12发生缠绕打结。
72.具体的，旋转体18旋转的同时，受螺旋杆11限位作用向上顺时针螺旋上升，圆形挡板15通过抵住轴承16进而支撑起内芯的环形凸台21，进而将内芯13和输送管道12一起抬升，此时环形凹槽20仍持续供送气液，旋转体18旋转的同时，气液混合物从环形凹槽20送入旋转体18内圆周侧两个气液孔道24，保证内芯13不随旋转体18旋转的同时，气液混合物能够持续输送。
73.具体的，当气液旋转组件10旋转上升至螺旋杆11顶部时，喷嘴限位杆26和限位件限位杆27旋转碰撞将整个喷嘴17旋转180度，实现喷嘴17反向喷射，从而导致气液旋转组件10反向逆时针旋转，进而通过反作用力与螺旋杆11的限位实现旋转下降，下降至底部又通过底部限位件限位杆27调节反向，如此往复，实现对反应釜3全方位气液搅拌。
74.在上述过程中，反应釜3的温度监测和ph监测对反应釜内温度和ph值进行实时监测，通过氨水控制其ph值，通过调节氮气循环系统5加热器，对氮气加热通入搅拌组件2实现反应釜3内温度均匀控制。
75.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
或“包含
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的要素。此外，在本文中，“大于”、“小于”、“超过”等理解为不包括本数；“以上”、“以下”、“以内”等理解为包括本数。
76.上述对实施例的描述是为便于本技术领域的普通技术人员理解和使用本发明，熟悉本领域技术的人员显然可以容易地对实施例做出各种修改，并把在此说明的一般原理应用到其他实施例中而不必经过创造性的劳动。因此，本发明不限于上述实施例，本领域技术人员根据本发明的揭示，不脱离本发明范畴所做出的改进和修改都应该在本发明的保护范围之内。

技术特征：
1.一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统，其特征在于，包括搅拌装置、底液泵送回路、提固装置、氮气循环系统和气液混合装置，所述搅拌装置包括反应釜和搅拌组件，所述搅拌组件设于所述反应釜中，所述搅拌组件包括固定底座和搅拌单元，所述搅拌单元包括两限位件、气液旋转组件、螺旋杆、安装板和两输送管道，所述安装板设于所述固定底座上，所述螺旋杆竖直设于所述安装板上，所述两限位件分别设于所述螺旋杆的上端和下端，所述气液旋转组件包括内芯、旋转体和多个喷嘴，所述内芯和所述旋转体设置为圆柱形，所述旋转体上表面的中心位置设有与所述螺旋杆相配合的双环形凹槽，所述双环形凹槽的底部设有由所述旋转体的下表面向上延伸的安置槽，所述安置槽的侧壁上设有气液孔道，所述气液孔道的外侧连接有圆形腔室，所述圆形腔室的外侧设有多个气液出口，所述多个气液出口一一对应连接所述多个喷嘴，所述内芯回转设置于所述安置槽中，被所述螺旋杆穿过，所述内芯中设有两气液入口，所述两气液入口的一端分别连接所述两输送管道，另一端连通所述气液孔道，所述底液泵送回路、所述提固装置和所述氮气循环系统连通所述反应釜。2.根据权利要求1所述一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统，其特征在于，所述的底液泵送回路包括多个阀门和磁力泵；所述的氮气循环系统包括氮气罐、氮气输送装置、风机、空气过滤器、冷干和加热器，所述氮气罐设置有止回阀、补气阀、排气阀和安全阀；所述的底液泵送回路与所述氮气循环系统合流处设置有气液混合装置。3.一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，其特征在于，包括反应釜和搅拌组件，所述搅拌组件设于所述反应釜中，所述搅拌组件包括固定底座和搅拌单元，所述搅拌单元包括两限位件、气液旋转组件、螺旋杆、安装板和两输送管道，所述安装板设于所述固定底座上，所述螺旋杆竖直设于所述安装板上，所述两限位件分别设于所述螺旋杆的上端和下端，所述气液旋转组件包括内芯、旋转体和多个喷嘴，所述内芯和所述旋转体设置为圆柱形，所述旋转体上表面的中心位置设有与所述螺旋杆相配合的双环形凹槽，所述双环形凹槽的底部设有由所述旋转体的下表面向上延伸的安置槽，所述安置槽的侧壁上设有气液孔道，所述气液孔道的外侧连接有圆形腔室，所述圆形腔室的外侧设有多个气液出口，所述多个气液出口一一对应连接所述多个喷嘴，所述内芯回转设置于所述安置槽中，被所述螺旋杆穿过，所述内芯中设有两气液入口，所述两气液入口的一端分别连接所述两输送管道，另一端连通所述气液孔道。4.根据权利要求3所述一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，其特征在于，所述搅拌单元设有多个。5.根据权利要求3所述一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，其特征在于，所述气液旋转组件还包括轴承、挡板和螺钉，所述内芯的周壁上设有环绕其自身的环形凸台，所述挡板利用所述螺钉安装于所述旋转体的下表面，所述挡板抵住所述轴承的外环，所述轴承的内环通过所述环形凸台进行支撑。6.根据权利要求3所述一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，其特征在于，所述气液出口与所述喷嘴通过螺纹连接。7.根据权利要求3所述一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，其特征在于，所述喷嘴内部设置中空孔道，所述中空孔道的出口偏心设置。8.根据权利要求7所述一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，其特征在于，所述喷嘴上设有倾斜设置的喷嘴限位杆，所述限位件上设置有用于拨动所述喷嘴限位杆的限位件限位
杆，所述限位件限位件与所述喷嘴限位杆一一对应设置。9.根据权利要求3所述一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，其特征在于，所述内芯的外周设有连通所述气液孔道和所述气液入口的环形凹槽，所述环形凹槽的上方和下方设有密封圈。10.根据权利要求3所述一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置，其特征在于，所述喷嘴的数量设置为六个。

技术总结
本发明公开了一种前驱体制备反应釜气液搅拌系统，包括搅拌装置、底液泵送回路、提固装置、氮气循环系统和气液混合装置，搅拌装置包括反应釜和搅拌组件，搅拌组件设于反应釜中，搅拌组件包括固定底座和搅拌单元，搅拌单元包括两限位件、气液旋转组件、螺旋杆、安装板和两输送管道，气液旋转组件包括内芯、旋转体和多个喷嘴，旋转体上设有双环形凹槽，双环形凹槽的底部设有安置槽，安置槽的侧壁上设有气液孔道，气液孔道的外侧连接有圆形腔室，内芯回转设置于安置槽中，内芯中设有两气液入口，底液泵送回路、提固装置和氮气循环系统连通反应釜。本发明还公开了一种前驱体制备反应釜气液搅拌装置。与现有技术相比，本发明能够实现无磁性快速均匀搅拌。磁性快速均匀搅拌。磁性快速均匀搅拌。


技术研发人员：范永超 柳波 李沅録 刘均益
受保护的技术使用者：湖南经源科技有限公司
技术研发日：2023.04.21
技术公布日：2023/7/12