粘合膜、层叠体及粘合膜的使用方法与流程

1.本发明涉及能够适用于例如光学膜等需要退火处理的树脂膜的输送、表面保护等的粘合膜等。


背景技术：

2.工业用薄膜用于显示器、电子、电池或能源、车载(汽车)等各领域中的物品，以赋予或发挥期望的功能。例如，在显示器领域使用的偏振膜、相位差膜等光学膜被用作搭载于智能手机、平板型计算机等电子终端的液晶显示器、有机el显示器等图像显示装置的构成部件。
3.在各个领域的物品的制造、加工、搬运、检查等各工序中，出于搬运组装在上述物品中的上述工业用膜的目的、保护表面免受损伤和污染的目的，在工业用膜的表面贴合粘合膜。上述粘合膜在不需要的阶段被剥离工业用膜而除去。例如，在专利文献1中，公开了一种在显示装置的制造过程中，用于进行光学膜的表面保护、输送的粘合膜。这种上述粘合膜，根据其使用方法，例如有时被称为保护膜、工序用膜等。现有技术文献专利文献
4.专利文献1：日本特开2013-216738号公报


技术实现要素：

发明要解决的课题
5.出于去除成形加工过程中产生的残余应力、消除形变的目的，工业用薄膜中使用的树脂膜通常实施退火处理。在消除残余应力、形变时，上述树脂膜伴有变形，但在上述树脂膜预先贴合有上述粘合膜的状态下进行退火处理的情况下，被上述粘合膜约束而抑制树脂膜的上述变形，即使进行退火处理，也无法充分消除残余应力、形变，导致在之后的加工工序中产生不良情况的问题。
6.另外，根据树脂膜的玻璃化转变温度设定退火处理中的加热温度、处理时间。要求贴合于上述树脂膜的粘合膜在树脂膜的退火处理环境下也不容易剥离，在退火处理后能够容易地从树脂膜剥离。
7.即，本发明要解决的课题在于提供一种粘合膜，在将树脂膜临时固定的状态下进行上述树脂膜的退火处理时，不妨碍上述树脂膜的残余应力、形变的消除，另外，不容易从上述树脂膜剥离，此外在退火处理后能够容易地剥离且不留残胶。用于解决课题的技术方案
8.本发明包含以下的方式。[1]一种粘合膜，其特征在于，上述粘合膜具有基材和设置于上述基材的至少一个面的粘合剂层，上述粘合剂层在70℃～100℃的范围内具有在频率1hz下的损耗角正切tanδ为0.8
以上的温度区域，上述粘合膜能够通过活性能量射线的照射而剥离。
[0009]
[2]一种粘合膜，其特征在于，上述粘合膜具有基材和设置于上述基材的至少一个面的粘合剂层，上述粘合剂层由包含丙烯酸系共聚物和活性能量射线固化性化合物的粘合剂组合物形成，在70℃～100℃的范围内具有在频率1hz下的损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域。
[0010]
[3]根据上述[1]或上述[2]记载的粘合膜，其中，上述粘合剂层的凝胶分率为50质量％以下。
[0011]
[4]根据上述[1]～上述[3]中任一项记载的粘合膜，其中，上述基材的150℃下的100％伸长应力的值为5mpa～60mpa。
[0012]
[5]根据上述[1]～上述[4]中任一项记载的粘合膜，其中，将上述粘合膜贴合于树脂膜来使用。
[0013]
[6]如上述[1]～[5]中任一项记载的粘合膜，其中，上述粘合膜用于表面保护用途。
[0014]
[7]根据上述[1]～上述[6]中任一项记载的粘合膜，其中，上述粘合膜用于搬运工序用途。
[0015]
[8]一种层叠体，其特征在于，上述层叠体具有上述[1]～上述[7]中任一项记载的粘合膜，以及设置于上述粘合膜的上述粘合剂层上的树脂膜。
[0016]
[9]根据上述[8]记载的层叠体，其中，上述树脂膜为光学膜。
[0017]
[10]一种粘合膜的使用方法，其依次具有以下工序：将树脂膜贴合于上述[1]～上述[7]中任一项记载的粘合膜的上述粘合剂层而得到层叠体的工序；对上述层叠体的上述树脂膜进行退火处理的工序；以及对上述退火处理工序后的上述层叠体照射活性能量射线，将上述粘合膜剥离上述树脂膜的工序。
附图说明
[0018]
图1是表示本发明的粘合膜的示例的示意截面图。图2是表示本发明的层叠体的示例的示意截面图。图3是说明实施例和比较例中的卷曲试验方法的说明图。图4是说明实施例和比较例中的热成型试验方法的说明图。图5是说明实施例和比较例中的热成型试验方法的说明图。图6是说明实施例和比较例中的热成型试验方法的说明图。
具体实施方式
[0019]
在本发明中，“(甲基)丙烯酸”是指丙烯酸或甲基丙烯酸。另外，“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。另外，有时将损耗角正切tanδ简称为tanδ。
[0020]
1.粘合膜本发明的粘合膜的特征在于，具有基材和设置于上述基材的至少一个面的粘合剂层，上述粘合剂层在70℃～100℃的范围内具有损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域，上述粘合膜能够通过活性能量射线的照射而剥离。
[0021]
另外，换而言之，本发明的粘合膜具有基材和设置于上述基材的至少一个面的粘合剂层，上述粘合剂层由包含丙烯酸系共聚物和活性能量射线固化性化合物的粘合剂组合物形成，在70℃～100℃的范围内具有损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域。
[0022]
图1是表示本发明的粘合膜的示例的示意截面图，具有基材1和设置于基材1的一个面的粘合剂层2。上述粘合剂层2在70℃～100℃的范围内具有损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域。另外，上述粘合剂层2通过活性能量射线的照射能够剥离。换而言之，上述粘合剂层2是由包含丙烯酸系共聚物和活性能量射线固化性化合物的粘合剂组合物形成的层。
[0023]
就树脂膜而言，根据树脂的种类、物性(例如树脂的玻璃化转变温度等)选择在退火处理中设定的加热温度、加热时间。其中，用于光学膜等的树脂膜在100℃左右的温度下进行退火处理，从而抑制因退火处理的热量而损害树脂膜的功能。但是，如果在贴合有粘合膜的状态下进行退火处理，则树脂膜会受到粘合膜的约束，无法充分消除残余应力、形变，存在对退火处理后的树脂膜的加工性、光学特性造成影响的问题。
[0024]
与此相对，根据本发明的粘合膜，粘合剂层在70℃～100℃的范围内具有损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域，从而在树脂膜的退火处理时的温度环境下使得上述粘合剂层能够表现出柔软性和流动性，粘合剂层不妨碍退火处理中产生的树脂膜的变形，在贴合有粘合膜的状态下能够充分消除上述树脂膜的残余应力、形变。
[0025]
另外，本发明的粘合膜在活性能量射线照射前能够表现出优异的粘接力，因此即使通过退火处理受热也不容易从树脂膜剥离，在退火处理后从树脂膜剥离时，通过活性能量射线照射能够容易地剥离且不留有残胶。
[0026]
本发明的粘合膜的粘合剂层具备上述物性，从而在100℃左右，例如70℃以上且100℃以下的温度区域(有时设为低温度区域)进行树脂膜的退火处理的情况下，在超过100℃的温度区域(有时称为高温度区域)进行树脂膜的退火处理的情况下，上述粘合剂层能够表现出上述功能，因此不会妨碍与消除树脂膜的残余应力、形变相伴的变形，另外，在活性能量射线照射前，维持树脂膜与粘合膜的贴合状态，通过活性能量射线的照射能够发挥良好的剥离性。因此，例如，针对光学膜等功能性树脂膜，在贴合本发明的粘合膜的状态下在低温度区域进行退火处理，从而防止上述树脂膜的功能被损害，并且能够在贴合有粘合膜的状态下消除上述树脂膜的残余应力、形变，同时能够进行表面保护、搬运。
[0027]
在本发明中，只要没有特别说明，粘合剂层的tanδ是指在树脂膜的退火处理前和固化前(活性能量射线照射前)的粘合剂层的tanδ。另外，只要没有特别说明，tanδ以外的粘合剂层的物性同样是指在树脂膜的退火处理前和固化前(活性能量射线照射前)的粘合剂层的物性。
[0028]
[粘合剂层]本发明中的粘合剂层设置于上述基材的至少一个面。上述粘合剂层可以直接设置于基材的表面，也可以介由其他层而设置于基材的表面。
[0029]
另外，本发明中的粘合剂层是活性能量射线照射后的粘接力小于活性能量射线照
射前的粘接力的层。本发明中的粘合剂层具有以下特征：在照射活性能量射线之前显示优异的粘接力，另一方面，通过照射活性能量射线进行固化反应，粘接力降低。即，本发明中的粘合剂层由通过活性能量射线进行固化的粘合剂组合物(有时制成活性能量射线固化型粘合剂组合物)形成。
[0030]
活性能量射线只要能够使上述粘合剂层固化即可，能够使用远紫外线、紫外线、近紫外线、红外线等光线、x射线、γ射线等电磁波、电子射线、质子射线、中子射线等。其中，从固化速度快、照射作业、照射装置简便的观点出发，优选紫外线。
[0031]
本发明中的粘合剂层在70℃～100℃的范围内具有损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域。通过使上述粘合剂层在上述温度范围内具有显示特定的tanδ的温度区域，在与粘合膜贴合的状态下对树脂膜进行退火处理时，在退火处理环境中粘合剂层能够显示出高的柔软性和流动性。由此，粘合剂层不妨碍在退火处理过程中发生的树脂膜的变形，能够在贴合有粘合膜的状态下充分消除上述树脂膜的残余应力、形变。
[0032]
上述粘合剂层的tanδ为0.8以上的温度区域只要存在于70℃～100℃的范围内即可，其中，优选在80℃～100℃的范围内具有上述tanδ为0.8以上的温度区域，更优选在85℃～100℃的范围内具有上述tanδ为0.8以上的温度区域，进一步优选在90℃～100℃的范围内具有上述tanδ为0.8以上的温度区域。通过在上述的温度范围内具有上述tanδ为0.8以上的温度区域，能够防止与退火处理过程中产生的树脂膜的残余应力、形变的消除相伴的变形被粘合剂层妨碍，且能够确保粘合剂层的保形性。
[0033]
本发明中的粘合剂层通过在70℃～100℃的范围内具有tanδ为0.8以上的温度区域，在超过100℃的温度范围内tanδ也能够显示为0.8以上。因此，在树脂膜的退火处理在100℃以下的温度区域进行的情况下，在超过100℃的温度区域进行的情况下，粘合剂层也不会妨碍与树脂膜的残余应力、形变的消除相伴的变形，能够消除树脂膜的残余应力、形变。
[0034]
另外，上述粘合剂层只要在70℃～100℃的范围内具有tanδ为0.8以上的温度区域即可，优选具有tanδ为0.80以上的温度区域，其中，优选具有tanδ为0.87以上的温度区域，更优选具有tanδ为0.93以上的温度区域，具有tanδ为1.0以上的温度区域，在树脂膜的退火处理环境中，粘合剂层能够表现出更高的柔软性和流动性，粘合剂层不妨碍树脂膜的残余应力、形变的消除，能够消除树脂膜的残余应力、形变，因此进一步优选。如果上述粘合剂层在70℃～100℃的范围内的tanδ的上限，在树脂膜的退火处理环境中，如果能够兼顾粘合剂层的柔软性和流动性的显现以及作为粘合剂层的保形性，则没有特别限定，例如上述tanδ能够设为2.0以下，其中，从能够消除树脂膜的残余应力、形变的同时能够提高粘合膜的加工适应性、保形性的观点出发，优选为1.5以下，能够设为1.3以下。
[0035]
在贴合于本发明的粘合膜的树脂膜的退火处理环境中，从兼顾粘合剂层的柔软性和流动性的显现以及作为粘合剂层的保形性的观点出发，上述粘合剂层在75℃～100℃的温度区域中tanδ优选为0.80以上，其中，优选为0.87以上，更优选为0.93以上，进一步优选为1.0以上，另外，上述tanδ优选为2.0以下，更优选为1.5以下。
[0036]
作为另一优选方式，上述粘合剂层在80℃～100℃的温度区域中tanδ优选为0.80以上，其中，优选为0.87以上，更优选为0.93以上，进一步优选为1.0以上，另外，tanδ优选为2.0以下，更优选为1.5以下，进一步优选为1.3以下。
[0037]
作为另一优选方式，上述粘合剂层在85℃～100℃的温度区域中tanδ优选为0.80以上，其中，优选为0.87以上，更优选为0.93以上，进一步优选为1.0以上，另外，tanδ优选为2.0以下，更优选为1.5以下，进一步优选为1.3以下。
[0038]
作为另一优选方式，上述粘合剂层在90℃～100℃的温度区域中tanδ优选为0.80以上，其中，优选为0.87以上，更优选为0.93以上，进一步优选为1.0以上，另外，tanδ优选为2.0以下，更优选为1.5以下，进一步优选为1.3以下。
[0039]
作为上述粘合剂层的优选方式，更具体而言，90℃下的损耗角正切tanδ(90℃)优选为0.8以上，其中，优选为0.80以上，更优选为0.87以上，tanδ为0.93以上，则在树脂膜退火处理的环境温度下粘合剂层的保形性也优异，且在上述树脂膜退火处理的环境温度下粘合剂层能够显示高的柔软性和流动性，能够抑制粘合剂层阻碍树脂膜的残余应力、形变的消除。
[0040]
上述粘合剂层的在50℃以上且小于70℃的温度区域中的最大损耗角正切tanδ优选为1.5以下，更优选为1.3以下，进一步优选为1.0以下。这是因为，在贴合于粘合膜的树脂膜的退火处理的温度环境下，能够防止粘合剂层过度显现出流动性从而损害作为层的形状稳定性。
[0041]
上述粘合剂层的损耗角正切tanδ，例如，能够通过调整构成粘合剂层的粘合剂组合物的凝胶分率；调整交联剂量；减小粘合剂组合物中含有的丙烯酸系共聚物的重均分子量；增加粘合剂组合物中含有的活性能量射线聚合性化合物(也称为“活性能量射线固化性化合物”，例如氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯)的含量等方法进行调整。
[0042]
上述粘合剂层的损耗角正切tanδ是指：用于形成粘合剂层的粘合剂组合物的损耗模量g”相对于储能模量g’的比，即，tanδ＝g”/g’。粘合剂层的损耗角正切tanδ通过以下测定：将用于形成粘合剂层的上述粘合剂组合物涂布于脱模衬垫的表面，使用烘箱在85℃下加热5分钟，制作厚度50μm的粘合剂层a，将得到的粘合剂层a重叠，制作总厚度2mm的粘合剂层a后，将上述粘合剂层a裁切成直径8mm大小的圆状作为试验片，使用粘弹性试验机(rheometrics公司制造，商品名：ares2kstd)，在该试验机的测定部即平行圆盘之间夹入上述试验片，在剪切应力测定模式下，在升温速度2.0℃/分钟、温度-40℃～150℃的范围内，测定频率1hz下的储能模量(g’)、损耗模量(g”)，根据各温度下的上述g’、g”算出该温度下的损耗角正切tanδ。
[0043]
另外，上述粘合剂层的相对于甲苯的凝胶分率(活性能量射线照射前的凝胶分率)优选为50质量％以下，更优选为10质量％～40质量％的范围内，进一步优选为15质量％～35质量％的范围内。通过将粘合剂层的凝胶分率设为上述的范围内，在活性能量射线照射前，在常温和退火处理环境下对树脂膜的粘接性优异。另外，通过将粘合剂层的凝胶分率设为上述的范围内，粘合剂层不会妨碍在退火处理过程中产生的树脂膜的变形，能够在贴合有粘合膜的状态下充分消除树脂膜的残余应力、形变。
[0044]
粘合剂层和构成上述粘合剂层的粘合剂组合物的凝胶分率是指：通过以下所示的方法测定得到的值。(测定方法)在脱模衬垫的脱模处理面以干燥后的厚度成为10μm的方式涂布上述粘合剂组合物，在85℃的环境下干燥5分钟后，在40℃的环境下熟化2天，从而形成粘合剂层，将上述粘
合剂层裁切为纵向50mm和横向50mm的正方形作为试验片。测定上述试验片的质量(g1)后，在23℃的环境下使上述试验片在甲苯中浸渍24小时，上述浸渍后，使用300目金属网过滤上述试验片与甲苯的混合物，由此提取不溶于甲苯的成分，将上述不溶成分在110℃的环境下干燥1小时，测定质量(g2)。基于上述质量(g1)、质量(g2)和以下计算式，算出其凝胶分率。凝胶分率(质量％)＝(g2/g1)
×
100
[0045]
另外，上述粘合剂层的活性能量射线照射后的相对于甲苯的凝胶分率优选为80质量％以上的范围内，更优选为80质量％以上且98质量％以下，进一步优选为85质量％以上且98质量％以下。通过将粘合剂层的活性能量射线照射后的凝胶分率设为上述范围内，能够以轻的载荷容易地剥离。
[0046]
活性能量射线照射后的粘合剂层的凝胶分率，在上述凝胶分率的测定方法中，在形成粘合剂层后，在以下条件下对上述粘合剂层照射活性能量射线，将活性能量射线照射后的上述粘合剂层裁切成纵50mm和横50mm的正方形作为试验片使用，除此以外，与上述方法同样进行测定。(活性能量射线照射条件)光源：heraeus公司制造的无电极灯泡d灯泡照度：90mw/cm2光量：180mj/cm2照度
·
光量计：orc制作所公司制造的“orc uv-m10光量计”[0047]
本发明中的粘合剂层由含有用于构成其的各种成分的活性能量射线固化型粘合剂组合物形成。构成本发明中的粘合剂层的粘合剂组合物，只要是在活性能量射线照射前显示适度的粘接性，通过活性能量射线的照射固化而使粘接力降低
·
消失的组合物，就没有特别限定，优选以粘合树脂为主要成分的粘合剂组合物。应予说明，粘合剂组合物的主要成分是指：粘合剂组合物含有的各种成分中含有比例最高的成分。
[0048]
为了发挥通过活性能量射线的照射而使粘接力降低
·
消失的功能，上述粘合剂组合物可以是含有粘合树脂和活性能量射线固化性化合物的组成，也可以是粘合树脂自身具有活性能量射线固化性的组成。另外，即使在粘合树脂自身具有活性能量射线固化性的情况下，上述粘合剂组合物也可以是含有具有活性能量射线固化性的粘合树脂和除此以外的活性能量射线固化性化合物的组成。其中，上述粘合剂组合物为含有粘合树脂和活性能量射线固化性化合物的组成，在活性能量射线照射前，通过上述粘合树脂能够显示适当的粘接力，照射后，通过活性能量射线固化性化合物的固化，粘接力充分降低而能够剥离，容易兼顾照射前后要求的物性，因此优选。
[0049]
在粘合树脂自身具有活性能量射线固化性的情况下，在粘合树脂中导入活性能量射线聚合性基团。其中，上述活性能量射线聚合性基团优选导入粘合树脂的主链或侧链。应予说明，为了与不具有活性能量射线聚合性基团的粘合树脂区分开来，有时将粘合树脂中具有活性能量射线聚合性基团的粘合树脂称为活性能量射线固化性粘合树脂。
[0050]
＜粘合树脂＞上述粘合树脂是用于确保粘合剂层的粘合力等的成分。作为上述粘合树脂，没有特别限定，例如可举出丙烯酸系共聚物、聚氨酯、橡胶系聚合物、聚烯烃系聚合物、有机硅等共聚物(聚合物)。其中，优选丙烯酸系共聚物。即，上述粘合剂层优选由含有丙烯酸系共聚
物的活性能量射线固化型粘合剂组合物形成。
[0051]
丙烯酸系共聚物通过使含有(甲基)丙烯酸烷基酯作为主要单体的单体成分共聚而得到。作为(甲基)丙烯酸烷基酯，能够优选使用烷基的碳原子数为1～20的(甲基)丙烯酸酯，其中，烷基的碳原子数优选为1～12，更优选为1～9，进一步优选为4～9。如果烷基的碳原子数过大，则在活性能量射线照射后剥离粘合膜时，有时容易因残胶而污染被粘物。另外，烷基可以具有直链结构也可以具有支链结构。
[0052]
作为(甲基)丙烯酸烷基酯，具体而言，例如可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯等单体。它们可以单独使用，也可以并用2种以上。其中，从共聚性、粘合特性等观点出发，优选使用(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯。
[0053]
丙烯酸系共聚物中的(甲基)丙烯酸烷基酯的含量优选为构成丙烯酸系共聚物的单体成分中的10～99质量％，优选为30～99质量％，优选为50～99质量％，优选为80～98.5质量％，优选为90～98.5质量％。通过将(甲基)丙烯酸烷基酯的含量设为上述范围内，能够防止活性能量射线照射前的粘合力变得过低或变得过高，能够使与树脂膜的粘接性良好。
[0054]
另外，上述丙烯酸系共聚物可以是(甲基)丙烯酸烷基酯与高极性单体的共聚物。作为与(甲基)丙烯酸烷基酯共聚的高极性单体，可举出具有羟基的单体、具有羧基的单体、具有酰胺基的单体等，它们可以单独使用，也可以并用2种以上。
[0055]
作为具有羟基的单体，例如，能够优选使用(甲基)丙烯酸-2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羟丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羟己酯等含羟基(甲基)丙烯酸酯。它们可以单独使用，也可以并用2种以上。其中，从与交联剂的反应性的观点出发，优选(甲基)丙烯酸-2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸-4-羟丁酯。
[0056]
丙烯酸系共聚物中的具有羟基的单体的含量优选为构成丙烯酸系共聚物的单体成分中的0.1～40质量％，优选为0.2～30质量％，优选为0.5～30质量％。通过将具有羟基的单体的含量设为上述范围内，在活性能量射线照射后剥离粘合膜时，能够防止残胶等引起的树脂膜的污染。
[0057]
作为具有羧基的单体，能够使用(甲基)丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸、(甲基)丙烯酸2聚体、巴豆酸、环氧乙烷改性琥珀酸丙烯酸酯等。它们可以单独使用，也可以并用2种以上。其中，从共聚性的观点出发，优选丙烯酸、甲基丙烯酸。
[0058]
丙烯酸系共聚物中的具有羧基的单体的含量，在构成丙烯酸系共聚物的单体成分中优选为10质量％以下，进一步优选为5质量％以下，更优选为1质量％以下，特别优选为0.3质量％以下。另外，具有羧基的单体的含量，在构成丙烯酸系共聚物的单体成分中优选为0.01质量％以上，进一步优选为0.03质量％以上，更优选为0.05质量％以上。通过将具有羧基的单体的含量设为上述范围内，能够防止树脂膜的变质，在活性能量射线照射后剥离粘合膜时残胶等引起的树脂膜的表面污染。
[0059]
另外，作为具有酰胺基的单体，可举出n-乙烯基吡咯烷酮、n-乙烯基己内酰胺、丙烯酰基吗啉、丙烯酰胺、n，n-二甲基丙烯酰胺等。
[0060]
作为其他高极性乙烯基单体，可举出乙酸乙烯酯、环氧乙烷改性琥珀酸丙烯酸酯、
2-丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸等含磺酸基单体、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯氧基乙酯等末端烷氧基改性(甲基)丙烯酸酯。
[0061]
丙烯酸系共聚物能够通过溶液聚合法、本体聚合法、悬浮聚合法、乳液聚合法等公知的聚合方法使单体共聚而得到。其中，从粘合剂组合物的耐水性的观点出发，优选溶液聚合法或本体聚合法。
[0062]
在利用上述溶液聚合法制备丙烯酸系共聚物的情况下，例如在有机溶剂中混合或滴加含有(甲基)丙烯酸烷基酯的单体成分和聚合引发剂，在回流状态或者通常在50～98℃下聚合0.1～20小时左右即可。
[0063]
作为上述聚合反应中使用的有机溶剂，例如，可举出甲苯、二甲苯等芳香族烃类、己烷等脂肪族烃类、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类、正丙醇、异丙醇等脂肪族醇类、丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类等。
[0064]
作为上述聚合引发剂，能够使用通常的自由基聚合引发剂，具体而言，可举出偶氮二异丁腈、偶氮双二甲基戊腈等偶氮系聚合引发剂、过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、二叔丁基过氧化物、枯烯过氧化氢等过氧化物系聚合引发剂等。
[0065]
上述丙烯酸系共聚物的重均分子量优选为10万以上且100万以下。如果丙烯酸系共聚物的重均分子量过小，则在活性能量射线照射后剥离粘合膜时容易产生残胶等导致的树脂膜的表面污染，如果过大，则有时涂布性会降低。
[0066]
在此，利用gpc法的分子量测定是使用东曹株式会社制造的gpc装置(hlc-8329gpc)测定的标准聚苯乙烯换算值，测定条件如以下所示。样品浓度：0.5质量％(thf溶液)样品注入量：100μl洗脱液：thf流速：1.0ml/分钟测定温度：40℃本柱：tskgel、gmhhr-h(20)2根保护柱：tskgel hxl-h检测器：差示折射计标准聚苯乙烯分子量：1万～2000万(东曹株式会社制造)
[0067]
在粘合树脂自身具有活性能量射线固化性的情况下，能够使用在粘合树脂中导入活性能量射线聚合性基团而得到的活性能量射线固化性粘合树脂。
[0068]
活性能量射线聚合性基团，例如，可举出含有活性能量射线聚合性的碳-碳双键的基团，具体而言，能够例示(甲基)丙烯酰基等。活性能量射线聚合性基团可以介由亚烷基、亚烷基氧基、聚亚烷基氧基而与粘合树脂结合。
[0069]
作为活性能量射线固化性粘合树脂，没有特别限定，可举出在上述粘合树脂中导入活性能量射线聚合性基团而得到的粘合树脂，其中，可优选举出导入活性能量射线聚合性基团而得到的丙烯酸系树脂。
[0070]
导入活性能量射线聚合性基团而得到的丙烯酸系树脂，例如，使含有羟基、羧基、氨基、取代氨基、环氧基等官能团的丙烯酸系共聚物、与具有与该官能团反应的取代基和活性能量射线聚合性碳-碳双键(每1分子具有1～5个)的含聚合性基团化合物反应而得到。作
为该含聚合性基团化合物，可举出(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、甲基异丙烯酯-α，α-二甲基苄基异氰酸酯、(甲基)丙烯酰基异氰酸酯、烯丙基异氰酸酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯；(甲基)丙烯酸等。
[0071]
＜活性能量射线聚合性化合物＞上述粘合剂组合物包含的活性能量射线聚合性化合物没有特别限定，只要是接受活性能量射线的照射而能够聚合的化合物即可，可举出具有活性能量射线聚合性基团的化合物(单官能或多官能的单体和低聚物)。作为这样的活性能量射线聚合性化合物，可举出含有2个以上烯键式不饱和基团的活性能量射线聚合性化合物(即乙烯不饱和化合物)。
[0072]
作为上述活性能量射线聚合性化合物，具体而言，可举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物、环氧(甲基)丙烯酸酯系化合物、聚酯(甲基)丙烯酸酯系化合物、聚醚(甲基)丙烯酸酯系化合物、除这些丙烯酸酯系化合物以外的在1个分子中具有2个以上烯键式不饱和基团的多官能烯键式不饱和单体等。它们可以单独使用，也可以并用2种以上。
[0073]
其中，从活性能量射线照射导致的反应性、照射后的剥离性优异的观点出发，上述活性能量射线聚合性化合物优选氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物、多官能烯键式不饱和单体。
[0074]
上述活性能量射线聚合性化合物的重均分子量也取决于活性能量射线聚合性化合物的种类，优选为10000以下，更优选为5000以下，进一步优选为1000以下。另外，上述活性能量射线聚合性化合物的重均分子量优选为100以上，更优选为300以上，进一步优选为500以上。
[0075]
上述活性能量射线聚合性化合物具有的烯键式不饱和基团的数量，只要每1个分子为2个以上即可，能够根据活性能量射线聚合性化合物的种类适当选择。其中，烯键式不饱和基团的数量优选为3个以上，更优选为3～60个，进一步优选为3～40个。如果烯键式不饱和基团的数量过少，则即使进行活性能量射线照射，粘合力也不容易降低，有时剥离性降低。
[0076]
上述粘合剂组合物中的活性能量射线聚合性化合物的含量只要是活性能量射线照射前的粘合剂层能够表现出优异的粘接力，能够通过活性能量射线照射使粘合剂层的粘接力充分降低或消失的量即可，没有特别限定，例如，相对于粘合树脂100重量份优选为5重量份以上，更优选为10重量份以上，进一步优选为20重量份以上。另外，相对于粘合树脂100重量份，活性能量射线聚合性化合物的含量优选为200重量份以下，更优选为100重量份以下，进一步优选为80重量份以下。通过将上述粘合剂组合物中的活性能量射线聚合性化合物的含量设为上述的范围内，能够通过活性能量射线的照射而在短时间内降低粘合力降低从而容易剥离粘合膜，另外，能够防止在剥离时残胶等导致的树脂膜的表面污染。
[0077]
(氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物)氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物为具有氨基甲酸酯键和末端具有(甲基)丙烯酰基的化合物。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物通过(甲基)丙烯酰基的作用而具有活性能量射线固化性。
[0078]
作为上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物，能够使用具有羟基的(甲基)丙烯酸酯与多元异氰酸酯化合物的反应产物。另外，作为上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物，也可以使用具有羟基的(甲基)丙烯酸酯、多元异氰酸酯化合物与多元醇化合物的反
应产物。其中，从活性能量射线照射后的剥离性变得良好的观点出发，优选使用含羟基(甲基)丙烯酸酯系化合物与多元异氰酸酯系化合物的反应产物即氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物。
[0079]
作为上述具有羟基的(甲基)丙烯酸酯，例如，可举出(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸-4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羟基己酯、邻苯二甲酸-2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-(甲基)丙烯酰氧基丙酯、己内酯改性(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
[0080]
其中，优选使用具有3个以上丙烯酰基的具有羟基的(甲基)丙烯酸酯，具体而言，可举出二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。另外，它们能够使用1种或组合使用2种以上。
[0081]
作为上述多元异氰酸酯化合物，例如，可举出甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、多苯基甲烷多异氰酸酯、改性二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、四甲基苯二亚甲基二异氰酸酯、苯二异氰酸酯、萘二异氰酸酯等芳香族系多元异氰酸酯；六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、赖氨酸二异氰酸酯、赖氨酸三异氰酸酯等脂肪族系多异氰酸酯；氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、降冰片烯二异氰酸酯等脂环式系多元异氰酸酯，这些多元异氰酸酯的异氰脲酸酯体或多聚体化合物、脲基甲酸酯型多异氰酸酯、缩二脲型多异氰酸酯、水分散型多异氰酸酯等。其中，从反应性的观点出发，优选六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、赖氨酸二异氰酸酯等脂肪族系二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯、氢化苯二亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、降冰片烯二异氰酸酯等脂环式系二异氰酸酯。
[0082]
作为上述多元醇化合物，例如，可举出乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚丙二醇、丁二醇、聚丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、环己烷二甲醇、氢化双酚a、聚己内酯、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、聚三羟甲基丙烷、季戊四醇、聚季戊四醇、山梨糖醇、甘露醇、甘油、聚甘油、聚四亚甲基二醇等多元醇；具有聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、环氧乙烷/环氧丙烷的嵌段或无规共聚中的至少1种结构的聚醚多元醇；该多元醇或聚醚多元醇与马来酸酐、马来酸、富马酸、衣康酸酐、衣康酸、己二酸、间苯二甲酸等多碱基酸的缩合物即聚酯多元醇；己内酯改性聚四亚甲基多元醇等己内酯改性多元醇；聚烯烃系多元醇；氢化聚丁二烯多元醇等聚丁二烯系多元醇；2,2-双(羟基甲基)丁酸、酒石酸、2,4-二羟基苯甲酸、3,5-二羟基苯甲酸、2,2-双(羟基甲基)丙酸、2,2-双(羟基乙基)丙酸、2,2-双(羟基丙基)丙酸、二羟基甲基乙酸、双(4-羟基苯基)乙酸、4,4-双(4-羟基苯基)戊酸、尿黑酸等含羧基多元醇；1,4-丁二醇磺酸钠等含磺酸基或含磺酸盐基多元醇等。
[0083]
氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯系化合物的制造方法没有特别限制，能够使用公知的方法。例如，能够在不活泼性气体气氛中混合具有羟基的(甲基)丙烯酸酯和多元异氰酸酯化合物，以及根据需要使用的上述多元醇化合物，通过公知的反应方法进行氨基甲酸酯化
(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸单酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸单酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸单酯等2-(甲基)丙烯酰氧基乙基二羧酸单酯；等。
[0089]
上述烯键式不饱和化合物可以单独使用，也可以并用2种以上。
[0090]
上述粘合剂组合物中的上述烯键式不饱和化合物的含量相对于粘合树脂100重量份优选为5重量份以上且100重量份以下，其中更优选为10重量份以上且80重量份以下，进一步优选为20重量份以上且60重量份以下。通过将上述粘合剂组合物中的上述烯键式不饱和化合物的含量设为上述范围内，能够制成活性能量射线照射后的剥离性和耐污染性优异的粘合剂层。
[0091]
＜交联剂＞从将特定的温度范围内的粘合剂层的损耗角正切调节到特定范围，形成具有优异凝聚力的粘合剂层的方面考虑，上述粘合剂组合物优选含有交联剂。作为上述交联剂，例如，可举出异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、金属螯合物系交联剂、氮丙啶系交联剂、噁唑啉系交联剂、三聚氰胺系交联剂、醛系交联剂、胺系交联剂等。这些交联剂可以单独使用，也可以并用2种以上。其中，从与粘合树脂和活性能量射线聚合性化合物的反应性、与基材的密合性的观点考虑，更优选使用异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂。
[0092]
作为上述异氰酸酯系交联剂，能够使用公知的材料，例如，可举出2,4-甲苯二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、氢化甲苯二异氰酸酯、氢化二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷-4,4-二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1,3-双(异氰酸根合甲基)环己烷、四甲基苯二亚甲基二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、三苯基甲烷三异氰酸酯、及这些多异氰酸酯化合物与三羟甲基丙烷等多元醇化合物的加成物、这些多异氰酸酯化合物的缩二脲体、异氰脲酸酯体等。
[0093]
作为上述环氧系交联剂，能够使用公知的材料，例如，可举出双酚a
·
表氯醇型环氧树脂、乙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、山梨糖醇聚缩水甘油醚、聚甘油聚缩水甘油醚、季戊四醇缩水甘油醚、二甘油聚缩水甘油醚、1,3'-双(n,n-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、n,n,n',n'-四缩水甘油基-间二甲苯二胺等。
[0094]
就上述粘合剂组合物中的上述交联剂的量而言，能够适当选择上述粘合剂层和上述粘合剂组合物为上述tanδ的范围内的量。
[0095]
＜其它成分＞上述粘合剂组合物，除上述成分以外，还可以含有光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，只要是通过活性能量射线的照射而产生自由基的化合物即可，能够使用苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、噻吨酮类、酰基膦氧化物类等公知的光聚合引发剂。它们可以单独使用，也可以并用2种以上。上述粘合剂组合物中的光聚合引发剂的含量没有特别限定，能够适当设定通过活性能量射线的照射使粘合剂组合物的固化充分进行的量，例如，相对于粘合树脂和活性能量射线聚合性化合物的合计100重量份能够设定为0.1重量份以上且20重量份以下。
[0096]
另外，上述粘合剂组合物，除上述成分以外，在得到具有更优异的剥离粘接力的粘合剂层方面，还可以含有增粘树脂。作为上述增粘树脂，例如能够使用松香系增粘树脂、聚合松香系增粘树脂、聚合松香酯系增粘树脂、松香酚醛系增粘树脂、稳定化松香酯系增粘树
脂、歧化松香酯系增粘树脂、氢化松香酯系增粘树脂、萜烯系增粘树脂、萜烯酚醛系增粘树脂、石油树脂系增粘树脂、(甲基)丙烯酸酯树脂系增粘树脂。它们可以单独使用，也可以并用2种以上。
[0097]
此外，上述粘合剂组合物，除上述成分以外，还可以含有颜料、染料等着色剂、劣化防止剂、抗静电剂、阻燃剂、有机硅化合物、链转移剂、增塑剂、软化剂、玻璃或塑料制纤维
·
微球、珠、金属、金属氧化物、金属氮化物等填充剂、流平剂、增稠剂、防水剂、消泡剂等添加剂。
[0098]
＜粘合剂层＞本发明中的粘合剂层的厚度优选为200μm以下，更优选为1μm以上且150μm以下，进一步优选为5μm以上且100μm以下。这是因为，通过使粘合剂层的厚度在上述的范围内，活性能量射线照射前对树脂膜能够显示良好的粘接性，另外，能够使活性能量射线充分透过而进行固化反应。
[0099]
[基材]本发明中的基材是支承粘合剂层的部件。上述基材优选具有能够搬运或保护树脂膜的强度，具有能够承受树脂膜的退火处理环境温度的耐热性。另外，上述基材进一步优选具有适合于根据树脂膜的用途的加工的物性，例如，进一步优选在成形加工中使树脂膜的形状变化时的成形稳定性优异的基材。
[0100]
上述基材可以是透射活性能量射线的基材，也可以是不透射活性能量射线的基材，从能够介由基材对粘合剂层照射活性能量射线而将粘合膜剥离的观点出发，优选为透射活性能量射线的基材。上述基材的总光线透过率只要能够使活性能量射线充分透射则没有特别限定，优选为80％以上，更优选为85％以上，进一步优选为90％以上，特别优选为95％以上。
[0101]
作为上述基材，可举出树脂膜、金属箔、纸、织物、无纺布。其中，从操作性和活性能量射线透射性的观点出发，优选树脂膜。作为上述树脂膜，例如，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜等聚酯系树脂膜；聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烃系树脂膜；环烯烃聚合物、具有降冰片烯结构的聚合物等环状烯烃系树脂膜；聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚氟乙烯等氟树脂膜；尼龙6、尼龙66等聚酰胺系树脂膜；聚醚酰亚胺等聚酰亚胺系树脂膜；聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯醇、维尼纶等乙烯基聚合物树脂膜；二乙酰纤维素、三乙酰纤维素、乙酰纤维素丁酸酯、赛璐玢等纤维素系树脂膜；聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯等丙烯酸系树脂膜；聚砜膜、聚醚砜膜等砜系树脂膜；聚苯乙烯系树脂膜；聚碳酸酯系树脂膜；聚甲基戊烯膜、聚醚醚酮薄膜等。其中，从兼具伴随热的成形加工的加工适应性和加工后不断裂而能够剥离的适当的拉伸强度的观点出发，优选聚酯系树脂膜、丙烯酸系树脂膜、聚碳酸酯系树脂膜，更优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
[0102]
上述基材可以是仅由1层构成的单层结构，也可以具有层叠2个以上的层而成的层叠结构。在上述基材由2层以上的层层叠而成的情况下，各层可以相同也可以不同。
[0103]
出于提高与粘合剂层的密合性的目的，上述基材可以在表面具有易粘接层，也可以实施表面处理。作为表面处理，例如，可举出基于喷砂法、溶剂处理法等的表面凹凸化处
理、电晕放电处理、铬酸处理、火焰处理、热风处理、臭氧处理、紫外线照射处理等氧化处理等。
[0104]
在对树脂膜进行赋形、弯曲、三维成型等伴随热的成形加工的情况下，在将本发明的粘合膜贴合于树脂膜的状态下，将树脂膜与粘合膜一体成形加工，由此能够保护成形加工时的树脂膜的表面。
[0105]
上述基材的150℃下的100％伸长时应力没有特别限定，能够根据粘合膜要求的物性适当设定，从粘合膜的成形加工性的观点出发，优选150℃下的100％伸长时应力为5mpa以上且60mpa以下，其中，优选为10mpa以上且50mpa以下，更优选为15mpa以上且45mpa以下，进一步优选为15mpa以上且40mpa以下。如果为上述范围，则在与粘合膜贴合的状态下对树脂膜进行热成形加工时，上述粘合膜容易追随加工形状，能够防止产生褶皱等加工不良，成形稳定性优异。
[0106]
上述基材的150℃下的断裂伸长率没有特别限定，能够根据粘合膜要求的物性而适当设定，从粘合膜的成形加工性的观点出发，优选150℃下的断裂伸长率为500％以下，更优选为100％以上且400％以下，进一步优选为120％以上且300％以下，特别优选为120％以上且250％以下。在贴合于粘合膜的状态下对树脂膜进行热成形加工时，粘合膜容易追随树脂膜的加工形状，另外，能够防止施加热而导致的基材的变形、断裂。
[0107]
基材的150℃下的100％伸长时应力和150℃下的断裂伸长率能够分别通过以下方法进行测定。首先，将基材切成长度150mm
×
宽度10mm的矩形作为样品，使用拉伸试验机(株式会社a&d制造的tensilon rtg-1310)，将初始拉伸卡盘间距设为50mm，将拉伸速度设为200mm/分钟，进行上述样品的拉伸试验。测定将上述样品安装于预先设定为150℃的恒温层中，在预热90秒后进行拉伸试验。读取上述样品伸长100％时(卡盘间距为100mm时)施加于上述样品的载荷，将除以试验前的样品的截面积(基材厚度
×
10mm)得到的值作为100％伸长时应力。另外，通过上述测定将样品断裂时的伸长率作为断裂伸长率。各进行5次测定，利用其平均值进行评价。
[0108]
上述基材的150℃下的热收缩率优选为25％以下，更优选为15％以下，进一步优选为5％以下。通过将上述基材的热收缩率设为上述范围内，在贴合上述粘合膜的状态下对树脂膜进行退火处理时，基材不易因退火处理环境的温度而收缩，能够防止在活性能量射线照射前粘合膜从树脂膜剥离。另外，能够防止因基材的热收缩而阻碍树脂膜的残余应力的除去、形变的消除。
[0109]
上述基材在150℃下的热收缩率如以下所示进行测定。首先，在切成外形120mm
×
120mm的正方形的基材的长度方向和宽度方向，附加用于测量标线间距离(l0和t0)的标记，测定标线间距离。接着，将上述基材在150℃下静置30分钟，在23℃、50％rh下再次测定长度方向和宽度方向的标线间距离(l和t)，通过以下计算式算出热收缩率。长度方向的热收缩率＝[(l
0-l)/l0]
×
100(单位：％)宽度方向的热收缩率＝[(t
0-t)/t0]
×
100(单位：％)(l0和t0：试验前的标线间距离(mm)l和t：加热后的标线间距离(mm))
[0110]
上述基材的厚度没有特别限定，优选为12μm以上且250μm以下，更优选为25μm以上且100μm以下，进一步优选为38μm以上且75μm以下。通过将基材的厚度设为上述范围，能够
使被粘物的退火处理等高温环境下的耐剥离性、追随性、活性能量射线照射后的剥离性良好。
[0111]
[脱模衬垫]本发明的粘合膜也可以在粘合剂层的与基材相反侧的面上具有脱模衬垫。作为上述脱模衬垫，没有特别限定。可举出对聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酯膜等树脂膜、纸、无纺布、布、发泡片、金属箔以及它们层压体等基材的至少一面，实施用于提高剥离粘合剂的剥离性的硅酮系处理、长链烷基系处理、氟系处理等剥离处理而得到的脱模衬垫。
[0112]
[粘合膜]本发明的粘合膜只要在基材的至少一面具有粘合剂层即可，可以为在基材的单面具有粘合剂层的单面粘合膜，也可以为在基材的两面具有粘合剂层的双面粘合膜。其中，从作为工序用膜、保护膜发挥功能的观点出发，优选为在基材的单面具有粘合剂层的单面粘合膜。在本发明的粘合膜为双面粘合膜的情况下，只要在基材的至少一面具有显示特定的tanδ的粘合剂层即可，也可以在上述基材的两面具有显示特定的tanδ的粘合剂层。
[0113]
本发明的粘合膜的厚度没有特别限定，优选为基于在退火处理工序、热成形加工工序中发挥稳定的加工性的观点的适当的厚度。具体而言，本发明的粘合膜的总厚度优选为200μm以下，进一步优选为175μm以下。另外，本发明的粘合膜的总厚度的下限没有特别限制，优选为40μm以上，更优选为50μm以上。应予说明，粘合膜的总厚度不包括上述脱模衬垫的厚度。
[0114]
本发明的粘合膜以及构成该粘合膜的粘合剂层和基材的各层，为了能够充分透射活性能量射线，优选具有透明性，在与上述粘合膜贴合的树脂膜具有透明性，且能够从上述树脂膜侧对上述粘合膜照射活性能量射线的情况下，上述粘合膜的基材可以具有透明性也可以不具有透明性。
[0115]
[粘合膜的制造方法]本发明的粘合膜，例如，能够通过在基材的至少一个面使用涂布器、辊涂机、凹版涂布机、反向涂布机、喷涂机、气刀涂布机、模涂机等涂布用于形成粘合剂层的粘合剂组合物并进行干燥来制造。
[0116]
另外，本发明的粘合膜能够通过以下转印法来制造：在上述脱模衬垫的表面使用刮刀涂布机、辊涂机、模涂机等涂布粘合剂组合物，通过干燥形成粘合剂层，接着，将粘合剂层贴合于基材的至少一个面。
[0117]
涂布上述粘合剂组合物时，为了得到良好的涂布操作性等，使上述粘合剂组合物溶解或分散于有机溶剂从而调整粘度。作为上述溶剂，例如能够使用甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮、甲基乙基酮、己烷等。另外，在制成水系粘合剂的情况下，能够使用水或以水为主体的水性溶剂。
[0118]
上述粘合剂层优选将粘合剂组合物的涂膜在50℃～140℃下干燥30秒～10分钟而形成。另外，从干燥后促进固化反应的观点出发，可以将上述粘合剂的涂膜干燥后，在30℃～50℃的范围进一步进行熟化。
[0119]
[用途]本发明的粘合膜能够优选用作用于临时固定并搬运树脂膜的工序用膜，用于保护
树脂膜的表面的表面保护膜。树脂膜通常需要退火处理，但对于不需要退火处理的树脂膜，也能够使用本发明的粘合膜作为搬运、表面保护用途。
[0120]
构成上述树脂膜的树脂没有特别限定，能够根据上述树脂膜的用途、功能适当选择，例如，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂、聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)、聚1-丁烯,聚-4-甲基戊烯、乙烯-丙烯共聚物之类的聚烯烃系树脂、丙烯酸系树脂、聚碳酸酯、聚酰胺系、聚酰亚胺、三乙酰纤维素(tac)、环烯烃聚合物等树脂。在上述层叠体中，上述树脂膜优选为退火处理前的树脂膜，但也可以为退火处理后的树脂膜。
[0121]
上述树脂膜的玻璃化转变温度只要是能够在后述的温度范围内进行退火处理的温度就没有特别限定，能够根据树脂的种类适当设定。另外，上述树脂膜的其他物性也没有特别限定，能够根据树脂的种类适当设定。
[0122]
作为上述树脂膜，例如，可举出用于显示器部件、电子部件、车载部件等用途的工业用膜。其中，上述树脂膜优选为光学膜，因为能够通过贴合的粘合膜进行表面保护、输送，并通过退火处理实现光学膜要求的高尺寸精度、光学性能。作为光学膜，例如，可举出偏振膜、相位差膜、防反射膜、防眩(antiglare)膜、紫外线吸收膜、红外线吸收膜、光学补偿膜、亮度提高膜、扩散板、棱镜片等。
[0123]
应予说明，本发明的粘合膜如上述所示能够适合用作贴合于树脂膜的工序用膜、表面保护膜，但并不限定于此，也能够用作除树脂膜以外的部件的工序用膜、表面保护膜。
[0124]
[粘合膜的使用方法]作为本发明的粘合膜的使用方法，例如，可举出依次具有以下工序的粘合膜的使用方法：将树脂膜贴合于本发明的粘合膜的粘合剂层而得到层叠体的工序，对上述层叠体的上述树脂膜进行退火处理的工序，以及对上述退火处理工序后的上述层叠体照射活性能量射线而从上述树脂膜剥离上述粘合膜的工序。
[0125]
在上述层叠体中，优选将上述树脂膜直接贴合于上述粘合剂层。
[0126]
上述树脂膜的退火处理环境能够根据树脂膜的种类、材质适当设定，能够设为70℃以上，其中，优选为70℃以上且350℃以下的温度，更优选为70℃以上且150℃以下的温度，进一步优选为70℃以上且100℃以下的温度。另外，退火处理时间只要能够消除树脂膜的形变就没有特别限定，能够设为5分钟以上且1小时以下，其中优选为10分钟以上且40分钟以下。
[0127]
在对粘合膜的粘合剂层贴合有树脂膜的层叠体照射活性能量射线时，可以从上述层叠体的树脂膜侧的面照射，也可以从与树脂膜相反侧的面照射。
[0128]
另外，作为活性能量射线照射时的照射条件，能够根据粘合剂层的组成等适当设定，例如优选照度为50mw/cm2以上且2000mw/cm2以下，光量为50mj/cm2以上且3000mj/cm2以下。作为光源，能够根据活性能量射线的种类适当选择。
[0129]
2.层叠体本发明的层叠体具有上述“1.粘合膜”一栏中说明的粘合膜，以及设置于上述粘合膜的上述粘合剂层上的树脂膜。
[0130]
图2是表示本发明的层叠体的示例的示意截面图，在粘合膜10的粘合剂层2上设置有树脂膜11。在上述层叠体中树脂膜与上述粘合膜的上述粘合剂层直接接触(贴合于粘合剂层)而设置。
[0131]
本发明的层叠体的与树脂膜贴合的粘合膜具有在70℃～100℃的范围内具有损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域的粘合剂层，能够通过活性能量射线的照射而剥离。因此，上述层叠体能够在原样的状态下进行树脂膜的退火处理，并且能够进行树脂膜的表面保护、搬运。
[0132]
关于本发明的层叠体中的粘合膜的详细情况，与上述“1.粘合膜[用途]”一栏中说明的详细内容相同，因此在此省略说明。另外，作为本发明的层叠体中的树脂膜，能够使用上述“1.粘合膜”一栏中说明的树脂膜，其中，要求高的尺寸精度，因此上述树脂膜优选为光学膜。
[0133]
3.光学膜的制造方法本发明的光学膜的制造方法依次具有以下工序：在基材的一个面上具有粘合剂层的粘合膜的上述粘合剂层上具有光学膜而得到层叠体的工序；对上述层叠体的上述光学膜进行退火处理的工序；以及对上述退火处理工序后的上述层叠体照射活性能量射线而将上述光学膜剥离上述粘合膜的工序，上述粘合剂层在70℃～100℃的范围内具有损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域。
[0134]
上述光学薄膜的制造方法中的上述粘合膜能够使用上述“1.粘合膜”一栏中说明的粘合膜。关于上述光学膜的制造方法中的上述光学膜和粘合膜的详细内容、退火处理环境的条件、对粘合膜活性能量射线照射时的照射面和照射条件，能够与上述“1.粘合膜”的一栏中说明的内容相同。
[0135]
本发明不局限于上述实施方式。上述实施方式是例示，具有与本发明记载的技术思想实质相同的结构，发挥同样的作用效果的技术方案，无论哪种结构都包含在本公开的技术范围内。[实施例]
[0136]
以下，通过实施例和比较例对本发明进行更具体的说明。应予说明，实施例和比较例中使用的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的长度方向和宽度方向的热收缩率按照上述“1.粘合膜”一栏中记载的方法，在150℃下进行测量。100％伸长时应力和断裂伸长率按照上述“1.粘合膜”一栏中记载的方法在150℃下进行测量。
[0137]
[制备例1]在具备搅拌器、回流冷却器、氮气导入管、温度计的反应容器中投入乙酸乙酯100重量份、甲苯10重量份、偶氮二异丁腈(aibn)0.03重量份，一边搅拌一边升温至95℃并使其回流。预先混合丙烯酸正丁酯100重量份、甲基丙烯酸甲酯38重量份、甲基丙烯酸3.8重量份，耗时2小时滴加该混合单体的全部。滴加结束1小时后，投入偶氮二异丁腈(aibn)0.03重量份和甲苯4重量份，使其反应2小时，利用200目金属网过滤，由此得到重均分子量38万的丙烯酸系共聚物(a-1)溶液(不挥发成分50质量％)。
[0138]
[制备例2]在具备搅拌器、回流冷却器、氮气导入管、温度计的反应容器中投入乙酸乙酯146重量份、甲苯15重量份、偶氮二异丁腈(aibn)0.04重量份，一边搅拌一边升温至95℃使其回流。预先混合丙烯酸甲酯100重量份、丙烯酸-2-乙基己酯61重量份，耗时2小时滴加该混合单体的全部。滴加结束1小时后，投入偶氮二异丁腈(aibn)0.04重量份和甲苯6重量份，使其反应2小时，利用200目金属网过滤，由此得到重均分子量25万的丙烯酸系共聚物(a-2)溶液
(不挥发成分50质量％)。
[0139]
[比较制备例1]在具备搅拌器、回流冷却器、氮气导入管、温度计的反应容器中投入乙酸乙酯146重量份、甲苯15重量份、偶氮二异丁腈(aibn)0.04重量份，一边搅拌一边升温至95℃使其回流。预先混合丙烯酸甲酯100重量份、丙烯酸-2-乙基己酯61重量份，耗时2小时滴加该混合单体的全部。滴加结束1小时后，投入偶氮二异丁腈(aibn)0.04重量份和甲苯6重量份，使其反应2小时，利用200目金属网过滤，由此得到重均分子量25万的丙烯酸系共聚物(b-1)溶液(不挥发成分50质量％)。
[0140]
[比较制备例2]在具备搅拌器、回流冷却器、氮气导入管、温度计的反应容器中投入乙酸乙酯138重量份、甲苯14重量份、偶氮二异丁腈(aibn)0.04重量份，一边搅拌一边升温至95℃使其回流。预先混合丙烯酸正丁酯100重量份、丙烯酸甲酯52重量份，用2小时将该混合单体全部滴加。滴加结束的1小时后，投入偶氮二异丁腈(aibn)0.04重量份和甲苯6重量份，使其反应2小时，用200目金属网过滤，由此得到重均分子量15万的丙烯酸系共聚物(b-2)溶液(不挥发成分50质量％)。
[0141]
[比较制备例3]向具备搅拌器、回流冷却器、氮气导入管、温度计的反应容器中投入丙烯酸-2-乙基己酯82重量份、丙烯酸甲酯14重量份、丙烯酸-2-羟基乙酯4重量份和乙酸乙酯200重量份，在72℃下搅拌4小时后，在75℃下搅拌5小时。接着，在上述混合物中添加预先溶解于乙酸乙酯的偶氮二异丁腈(aibn)溶液2重量份(固体成分0.1质量％)，在72℃下搅拌4小时后，在75℃下搅拌5小时。然后，在上述混合物中添加乙酸乙酯并混合均匀，利用200目金属网过滤，由此得到重均分子量88万的丙烯酸系共聚物(b-3)溶液(不挥发成分34质量％)。
[0142]
[活性能量射线聚合性化合物(c)的合成]在具备搅拌器、回流冷却器、氮气导入管、温度计的反应容器中投入异佛尔酮二异氰酸酯7.1重量份、二季戊四醇五丙烯酸酯与二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(羟值48mgkoh/g)100重量份、作为阻聚剂的2,6-二叔丁基甲酚0.06重量份、作为反应催化剂的二月桂酸二丁基锡0.02重量份，使其在60℃下反应，直至残留的异氰酸酯基变为0.3％以下的时刻结束反应，得到作为活性能量射线聚合性化合物的烯键式不饱和化合物(氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯)。得到的烯键式不饱和化合物的不饱和基团数为每1个分子10个。
[0143]
[实施例1]将上述丙烯酸系共聚物(a-1)溶液100重量份、活性能量射线聚合性化合物(c)50重量份、作为光聚合引发剂(d)的1-羟基环己基苯基甲酮(omurad184：igm resins b.v.公司制造)1重量份、作为交联剂(e)的凝胶分率为25质量％的甲苯二异氰酸酯与三羟甲基丙烷的加成物(dic株式会社制造“burnockd-40”，以下简记为“d-40”)放入带有搅拌器的遮光容器中，搅拌混合2小时使其溶解，得到粘合剂组合物(p-1)。
[0144]
在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为50μm的方式涂布上述得到的粘合剂组合物(p-1)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度50μm的粘合剂层。
[0145]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩
率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为20mpa，长度方向断裂伸长率为235％)的单面，贴附上述厚度50μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0146]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度125μm的粘合膜(t-1)。
[0147]
[实施例2]在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为25μm的方式涂布上述得到的粘合剂组合物(p-1)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度25μm的粘合剂层。
[0148]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为20mpa，长度方向断裂伸长率为235％)的单面，贴附上述厚度25μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0149]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度100μm的粘合膜(t-2)。
[0150]
[实施例3]将实施例1的丙烯酸系共聚物(a-1)溶液变更为上述丙烯酸系共聚物(a-2)溶液，以凝胶分率成为15质量％的方式配合交联剂(e)，除此以外，与实施例1同样进行，得到粘合剂组合物(p-2)。
[0151]
在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为50μm的方式涂布上述得到的粘合剂组合物(p-2)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度50μm的粘合剂层。
[0152]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为20mpa，长度方向断裂伸长率为235％)的单面，贴附上述厚度50μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0153]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度125μm的粘合膜(t-3)。
[0154]
[实施例4]在实施例1的丙烯酸系共聚物(a-1)溶液中，以凝胶分率成为35质量％的方式配合交联剂(e)，除此以外，与实施例1同样进行，得到粘合剂组合物(p-3)。
[0155]
在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为50μm的方式涂布上述得到的粘合剂组合物(p-3)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度50μm的粘合剂层。
[0156]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为20mpa，长度方向断裂伸长率为235％)的单面，贴附上述厚度50μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0157]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度125μm的粘合膜(t-4)。
[0158]
[实施例5]在实施例1的丙烯酸系共聚物(a-1)溶液中，以凝胶分率成为40质量％的方式配合交联剂(e)，除此以外，与实施例1同样进行，得到粘合剂组合物(p-4)。
[0159]
在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度为50μm的方式涂布上述得到的粘合剂组合物(p-4)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度50μm的粘合剂层。
[0160]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为20mpa，长度方向断裂伸长率为235％)的单面，贴附上述厚度50μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0161]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度125μm的粘合膜(t-5)。
[0162]
[实施例6]在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为50μm的方式涂布粘合剂组合物(p-1)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度50μm的粘合剂层。
[0163]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为37mpa，长度方向断裂伸长率为231％)的单面，贴附上述厚度50μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0164]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度125μm的粘合膜(t-6)。
[0165]
[实施例7]在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为50μm的方式涂布粘合剂组合物(p-1)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度50μm的粘合剂层。
[0166]
接着，在23℃的环境下，在厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为0.4％，宽度方向热收缩率为0.0％，长度方向100％伸长时应力为70mpa，长度方向断裂伸长率为266％)的单面，贴附上述厚度50μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0167]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度100μm的粘合膜(t-7)。
[0168]
[比较例1]将实施例1的丙烯酸系共聚物(a-1)溶液变更为上述丙烯酸系共聚物(b-1)溶液，以凝胶分率成为30质量％的方式配合交联剂(e)，除此以外，与实施例1同样进行，得到粘合剂组合物(q-1)。
[0169]
在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为50μm的方式涂布上述得到的粘合剂组合物(q-1)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度50μm的粘合剂层。
[0170]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为20mpa，长度方向断裂伸长率为235％)的单面，贴附上述厚度50μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0171]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度125μm的粘合膜(u-1)。
[0172]
[比较例2]
将实施例1的丙烯酸系共聚物(a-1)溶液变更为上述丙烯酸系共聚物(b-2)溶液，以凝胶分率成为50质量％的方式配合交联剂(e)，除此以外，与实施例1同样进行，得到粘合剂组合物(q-2)。
[0173]
在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度为50μm的方式涂布上述得到的粘合剂组合物(q-2)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度50μm的粘合剂层。
[0174]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为20mpa，长度方向断裂伸长率为235％)的单面，贴附上述厚度50μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0175]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度125μm的粘合膜(u-2)。
[0176]
[比较例3]在上述丙烯酸系共聚物(b-3)溶液中，以凝胶分率成为80质量％的方式配合d-40，得到粘合剂组合物(q-3)。应予说明，粘合剂组合物(q-3)为不含有活性能量射线固化性化合物的组成，活性能量射线的照射前后的粘接力和剥离性相同。
[0177]
在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为5μm的方式涂布上述得到的粘合剂组合物(q-3)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度5μm的粘合剂层。
[0178]
接着，在23℃的环境下，在厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为1.5％，宽度方向热收缩率为0.9％，长度方向100％伸长时应力为20mpa，长度方向断裂伸长率为235％)的单面，贴附上述厚度5μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0179]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度55μm的粘合膜(u-3)。
[0180]
[比较例4]在脱模衬垫(单面侧进行剥离处理得到的厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)的剥离处理面，以干燥后的粘合剂层的厚度成为5μm的方式涂布粘合剂组合物(q-3)，在85℃下干燥5分钟，由此制作厚度5μm的粘合剂层。
[0181]
接着，在23℃的环境下，在厚度50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(长度方向热收缩率为0.4％，宽度方向热收缩率为0.0％，长度方向100％伸长时应力为37mpa，长度方向断裂伸长率为266％)的单面，贴附上述厚度5μm的粘合剂层，从上述脱模衬垫的上表面利用线压5kg/cm的辊进行层压。
[0182]
然后，在40℃的环境下熟化48小时，由此得到厚度55μm的粘合膜(u-4)。
[0183]
＜评价＞对于实施例和比较例中得到的粘合膜进行以下评价。将各评价的结果示于表1～3。应予说明，用于以下评价中的180
°
剥离粘接力和卷曲试验的光学膜(树脂膜)为光学用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东丽公司制造，制品名“lumirror100u46”，玻璃化转变温度为120℃，厚度为100μm)。在热成形试验中使用的光学膜(树脂膜)为光学用丙烯酸树脂膜(三菱化学公司制造，制品名“acryplenhba7007p”，玻璃化转变温度为92℃，厚度为75μm)。
[0184]
[粘合剂层的损耗角正切(tanδ)的测定法]将上述得到的各粘合剂组合物涂布于脱模衬垫的表面，使用烘箱在85℃下加热5分钟，制作厚度50μm的粘合剂层，将得到的粘合剂层重叠，制作厚度2mm的粘合剂层。接着，将上述粘合剂层裁切成直径8mm大小的圆状作为试验片。接着，使用粘弹性试验机(rheometrics公司制造，商品名：ares2kstd)，在该试验机测定部即平行圆盘间夹入上述试验片，在剪切应力测定模式下，在升温速度为2.0℃/分钟，频率为1hz的条件下，在温度-40℃～150℃的范围，测定储能模量(g’)、损耗模量(g”)，并根据上述g’、g”计算损耗角正切(tanδ)。将结果示于后述的表中。
[0185]
[粘合膜的180
°
剥离粘接力]通过以下方法，测定实施例和比较例的粘合膜的180
°
剥离粘接力。将结果示于表2～3。(1)将粘合膜在23℃、50％rh下利用2kg辊往复一次加压贴附于光学膜。(2)在23℃、50％rh下，静置1小时后，在23℃、50％rh下以拉伸速度300mm/分钟在180度方向将粘合膜从上述光学膜剥离，测量此时的强度(单位：n/25mm)。
[0186]
[易剥离性：活性能量射线照射后的粘合膜的180
°
剥离粘接力]通过以下方法，测定实施例和比较例的粘合膜的活性能量射线照射后的180
°
剥离粘接力。将结果示于表2～3。(1)将粘合膜在23℃、50％rh下利用2kg辊往复一次加压贴附于光学膜。(2)在23℃、50％rh下静置1小时后，在90℃下加热20分钟进行退火处理。使用90mw的heraeus公司的无电极灯，从8cm的高度以6.5m/分钟的输送速度进行紫外线照射(累积照射量180mj/cm2)。(3)在23℃、50％rh下以拉伸速度300mm/分钟在180度方向从上述光学膜剥离上述粘合膜，测定此时的强度(单位：n/25mm)。(4)目测评价易剥离性。评价基准如以下所示。(基准)
◎
：能够光学膜不变形
·
不破坏地剥离粘合剂膜。
○
：具有剥离的抵抗，但能够光学膜不变形
·
不破坏地剥离粘合剂膜。
×
：无法剥离，光学膜破坏。-：不含有活性能量射线固化性化合物，因此未确认到活性能量射线照射引起的物性变化。(5)目测评价残胶。评价基准如以下所示。(基准)〇：没有粘合剂的残渣。
×
：粘合剂的残渣残留在光学薄膜上。-：不含有活性能量射线固化性化合物，因此未确认到活性能量射线照射引起的物性变化。
[0187]
[不妨碍退火处理时树脂膜的残余应力、形变的消除的性能：卷曲试验]为了评价不妨碍退火处理时树脂膜的残余应力、形变的消除的性能，通过以下方法实施贴合有实施例和比较例的粘合膜的光学膜的卷曲试验。图3是说明卷曲试验方法的
说明图。将结果示于表2～3。(1)在23℃、50％rh下将粘合膜的粘合剂层侧的面贴附于光学膜的单面，切割为150mm见方而制成样品20(层叠体20)。(2)以光学膜侧的表面20a朝下的方式，将上述样品20放置在水平面30上，在23℃、50％rh下，分别测量上述样品20的四角相对于水平面30的浮起距离(l1)(参照图3(a))。(3)接着，将上述样品20在90℃气氛下在烘箱中加热20分钟，对光学膜进行退火处理，然后放置于常温以使退火处理后的样品20’恢复至室温。(4)以光学膜侧的表面20’a朝下的方式，将退火处理后的样品20’放置在水平面30上，在23℃、50％rh下，分别测定上述样品20’的四角相对于水平面30的浮起距离(l2)(参照图3(b))。应予说明，如图3(c)所示，在退火处理后的样品20’以光学膜侧的表面20’a为内表面弯曲的情况下，将上述样品20’的粘合膜侧的表面20’b以与水平面30相接的方式配置，将从水平面30至样品20’的四角的长度作为浮起距离(l2)，利用负值表述。(5)通过以下计算式算出各角各自的浮起距离δ(l)。浮起距离δ(l)＝加热后浮起距离(l2)-加热前浮起距离(l1)应予说明，(6)由四角的各δ(l)算出平均值，作为被粘物的浮起距离aveδ(l)。根据被粘物的浮起距离aveδ(l)来判断变形适应性。变形适应性通过以下基准进行判断。根据后述的理由，浮起距离aveδ(l)的绝对值越小，表示树脂膜的残余应力、形变越被消除。(基准)
◎
：-5mm＜浮起距离aveδ(l)＜5mm〇：-9mm＜浮起距离aveδ(l)≤-5mm，5mm≤浮起距离aveδ(l)＜9mm
×
：浮起距离aveδ(l)≤-9mm，9mm≤浮起距离aveδ(l)
[0188]
[成形稳定性：热成型试验]为了评价将光学膜热成形为弯曲状时的对加工形状的追随容易度，通过以下方法，实施贴合有实施例和比较例的粘合膜的光学膜的热成形试验。图4是说明热成形试验方法的说明图。将结果示于表2～3。(1)在厚度8mm、50
×
130mm的长方形的金属板41的中心设置弹簧42，在弹簧42上固定直径20mm的铁球43。进而，在金属板41的中心，以弹簧42位于内部的方式设置金属的筒44。将在中心部开设有直径25mm的孔、厚度4mm、50
×
130mm的长方形的金属板45设置在筒44上，使弹簧42和铁球43从金属板45的孔伸出(参照图4)。(2)将粘合膜的粘合剂层侧的面贴附于光学膜的单面，切割为50mm
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60mm而制成样品46(层叠体46)。在中心部开设有直径25mm的孔、厚度25mm、50
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100mm的长方形的金属板47上，以覆盖中心部的孔的方式固定样品46。此时，以样品46的光学膜表面46a与金属板47相接的方式进行固定。(参照图5)。(3)将固定有样品46的金属板47在金属板45上重叠。此时，以在金属板45的中心部开设的孔与在金属板47的中心部开设的孔重叠的方式设置。此外，将2kg的重物48设置在金属板47上，固定金属板47(参见图6)。由此，铁球43从样品46的基材表面46b推入样品46，从而将样品46拉伸成弯曲状。此时，通过铁球43以对样品46施加12n的力的方式调整弹簧42。将在上述工序中制作的试验夹具整体作为试验夹具40。
(4)将试验夹具40在90℃气氛下的烘箱中加热20分钟，进行热成型试验。(5)将热成型试验后的试验夹具40从烘箱中取出并放置于室温，使样品46恢复至室温。目视观察样品46的外观，按照以下基准评价成形稳定性。通过热成形拉伸的样品46的褶皱越少，表示成形稳定性越优异。(基准)〇：试验后的样品没有褶皱，或者拉伸而在弯曲的部分的周边部有褶皱，但拉伸弯曲的部分没有褶皱。
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：拉伸弯曲的部分有褶皱。
[0189]
【表1】
[0190]
【表2】
[0191]
【表3】
[0192]
根据上述结果可知：实施例1～7的粘合膜在卷曲试验中抑制光学膜的卷曲的发生，另一方面，比较例1～4的粘合膜在卷曲试验中光学膜大多发生卷曲。这些结果表明，本发明的粘合膜不容易妨碍100℃左右的温度下的退火处理引起的树脂膜的残余应力、形变的消除。
[0193]
卷曲试验的结果与退火处理时不妨碍树脂膜的残余应力、形变的消除的性能的关系如以下所示。即，如果在粘合膜贴合于树脂膜的状态下进行上述树脂膜的退火处理，则在保持贴合状态的状态下树脂膜(光学膜)发生热收缩。此时，贴合于上述树脂膜的粘合膜的粘合剂层发生形变，可推测出实施例1～7的粘合膜通过使粘合剂层满足特定的物性(tanδ)，在退火处理环境中表现出柔软性和流动性，能够使层内部产生的形变散失。其结果，不容易在收缩方向产生卷曲，因此能够推测出于在卷曲试验中aveδ(l)的绝对值变小。可以说，能够散失在层内部产生的形变的粘合剂层，不妨碍在退火处理时与树脂膜的残余应力、形变的消除相伴的变形，因此即使在粘合膜与树脂膜的贴合状态下，也能够充分消除树脂膜的残余应力、形变。另一方面，比较例1～4的粘合膜的粘合剂层不满足特定的物性，因此将上述粘合剂层产生的形变保持在内部，在收缩方向产生卷曲，因此可推测出在卷曲试验中aveδ(l)的绝对值变大。保持在层内部产生的变形的粘合剂层，限制与退火处理时产生的树脂膜的残余应力、形变的消除相伴的变形。因此，可以说树脂膜内部的残余应力、形变未被充分消除。
[0194]
另外，实施例1～7的粘合膜在活性能量射线照射前的显示高粘接力，在树脂膜(光学膜)的退火处理后，通过照射活性能量射线，粘接力大幅降低，无残胶且显示易剥离性。
[0195]
另外，在实施例1～7中，实施例1～6的粘合膜在热成型试验中充分追随弯曲状的
加工形状，抑制了褶皱的产生，因此显示成形稳定性。符号说明
[0196]1…
基材、2
…
粘合剂层、10
…
粘合膜、11
…
树脂膜、20
…
层叠体(样品)。

技术特征：
1.一种粘合膜，其特征在于，所述粘合膜具有基材和设置于所述基材的至少一个面的粘合剂层，所述粘合剂层在70℃～100℃的范围内具有在频率1hz下的损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域，所述粘合膜能够通过活性能量射线的照射而剥离。2.一种粘合膜，其特征在于，所述粘合膜具有基材和设置于所述基材的至少一个面的粘合剂层，所述粘合剂层由包含丙烯酸系共聚物和活性能量射线固化性化合物的粘合剂组合物形成，在70℃～100℃的范围内具有在频率1hz下的损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域。3.根据权利要求1或2所述的粘合膜，其中，所述粘合剂层的凝胶分率为50质量％以下。4.根据权利要求1或2所述的粘合膜，其中，所述基材的150℃下的100％伸长应力的值为5mpa～60mpa。5.根据权利要求1或2所述的粘合膜，其中，将所述粘合膜贴合于树脂膜来使用。6.根据权利要求1或2所述的粘合膜，其中，所述粘合膜用于表面保护用途。7.根据权利要求1或2所述的粘合膜，其中，所述粘合膜用于搬运工序用途。8.一种层叠体，其特征在于，所述层叠体具有权利要求1～7中任一项所述的粘合膜，以及设置于所述粘合膜的所述粘合剂层上的树脂膜。9.根据权利要求8所述的层叠体，其中，所述树脂膜为光学膜。10.一种粘合膜的使用方法，其特征在于，所述使用方法依次具有以下工序：将树脂膜贴合于权利要求1～7中任一项所述的粘合膜的所述粘合剂层而得到层叠体的工序；对所述层叠体的所述树脂膜进行退火处理的工序；以及对所述退火处理工序后的所述层叠体照射活性能量射线，将所述粘合膜剥离所述树脂膜的工序。

技术总结
本发明提供一种粘合膜，在将树脂膜临时固定的状态下进行上述树脂膜的退火处理时，不妨碍上述树脂膜的残余应力、形变的消除，另外，不容易从上述树脂膜剥离，此外在退火处理后能够容易剥离且不留残胶。一种粘合膜，其特征在于，具有基材和设置于上述基材的至少一个面的粘合剂层，上述粘合剂层在70℃～100℃的范围内具有损耗角正切tanδ为0.8以上的温度区域，能够通过活性能量射线的照射而剥离。够通过活性能量射线的照射而剥离。够通过活性能量射线的照射而剥离。


技术研发人员：长谷部真生 片野大地 武井秀晃 江头达也 高桥佑辅
受保护的技术使用者：DIC株式会社
技术研发日：2023.01.20
技术公布日：2023/7/31