一种手持式激光打标机场镜保护装置的制作方法
未命名
08-06
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1.本实用新型是一种手持式激光打标机场镜保护装置,属于打标机技术领域。
背景技术:
2.激光打标机是激光应用的一种形式,市场上有多种激光打标机,有台式的也有便携手持式的。激光打标机中一个重要组件是激光打标头,图1是便携手持式激光打标头的一种,主要由打标头支架、定焦架、场镜组成,定焦架有各种形式,这只是其中的一种。定焦架固定在打标头支架的底部,场镜固定在打标头支架下方场镜孔内。
3.当用打标机对有些材料如塑料、橡胶等打标时,会出现大量的烟雾,烟雾很容易飘到场镜上,污染场镜,轻者会造成场镜的透光性变差,飘散在空中的烟雾颗粒会对激光造成散射,实际加到打标材料上的激光功率变弱,影响打标效果;重者会使场镜因为附着的尘埃吸收过多的激光能量发热,烧坏场镜。使用时,当出现烟雾时,使用者会不断用嘴吹,以减少烟雾对场镜的污染,严重影响使用者的健康和使用体验。
技术实现要素:
4.针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种手持式激光打标机场镜保护装置。
5.为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现,
6.一种手持式激光打标机场镜保护装置,包括打标头支架、定焦架、场镜和风扇,所述打标头支架的底部设有所述场镜,所述打标头支架的底部且位于所述场镜的外侧固定有所述定焦架,所述定焦架内部一侧设有所述风扇。
7.进一步地,所述打标头支架的底部中心处开设有场镜孔,所述场镜安装在所述场镜孔内。
8.本实用新型的有益效果:
9.当用本发明进行打标时,转动的风扇会把打标引起的位于场镜附近的烟雾吹走,避免烟雾污染场镜,同时减少烟雾对激光的散射作用,降低烟雾对激光能量的影响。
10.本发明也可用于台式打标机,只是台式打标机没有定焦架,风扇可以固定在其他地方,只要能够把打标引起的烟雾吹走就可以。
11.本申请可以减少烟雾对场镜的污染,保护场镜。
12.本申请可以减少烟雾对激光功率的影响,增加激光打标效果。
13.本申请可以减轻对使用者的要求和影响,使用体验更美好。
附图说明
14.通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显,
15.图1为现有技术中手持式激光打标机场镜保护装置的结构示意图;
16.图2为本实用新型一种手持式激光打标机场镜保护装置的结构示意图.
17.图中,1、打标头支架;2、定焦架;3、场镜;4、风扇。
具体实施方式
18.为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
19.请参阅图2,本实用新型提供一种手持式激光打标机场镜保护装置技术方案,一种手持式激光打标机场镜保护装置,包括打标头支架1、定焦架2、场镜3和风扇4,所述打标头支架1的底部设有所述场镜3,所述打标头支架1的底部且位于所述场镜3的外侧固定有所述定焦架2,所述定焦架2内部一侧设有所述风扇4;通过风扇4的设置,当用本发明进行打标时,转动的风扇4会把打标引起的位于场镜3附近的烟雾吹走,避免烟雾污染场镜3,同时减少烟雾对激光的散射作用,降低烟雾对激光能量的影响。
20.参阅图2,所述打标头支架1的底部中心处开设有场镜孔,所述场镜3安装在所述场镜孔内。
21.在使用时,当用本发明进行打标时,转动的风扇4会把打标引起的位于场镜3附近的烟雾吹走,避免烟雾污染场镜3,同时减少烟雾对激光的散射作用,降低烟雾对激光能量的影响。
22.本发明也可用于台式打标机,只是台式打标机没有定焦架2,风扇4可以固定在其他地方,只要能够把打标引起的烟雾吹走就可以。
23.虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
技术特征:
1.一种手持式激光打标机场镜保护装置,其特征在于,包括打标头支架(1)、定焦架(2)、场镜(3)和风扇(4),所述打标头支架(1)的底部设有所述场镜(3),所述打标头支架(1)的底部且位于所述场镜(3)的外侧固定有所述定焦架(2),所述定焦架(2)内部一侧设有所述风扇(4)。2.根据权利要求1所述的一种手持式激光打标机场镜保护装置,其特征在于,所述打标头支架(1)的底部中心处开设有场镜孔,所述场镜(3)安装在所述场镜孔内。
技术总结
本实用新型提供一种手持式激光打标机场镜保护装置,包括打标头支架、定焦架、场镜和风扇,所述打标头支架的底部设有所述场镜,所述打标头支架的底部且位于所述场镜的外侧固定有所述定焦架,所述定焦架内部一侧设有所述风扇。本实用新型具有如下的有益效果,当用本发明进行打标时,转动的风扇会把打标引起的位于场镜附近的烟雾吹走,避免烟雾污染场镜,同时减少烟雾对激光的散射作用,降低烟雾对激光能量的影响。量的影响。量的影响。
技术研发人员:王传祥 刘墨池
受保护的技术使用者:山东镭之源激光科技股份有限公司
技术研发日:2023.03.14
技术公布日:2023/8/5
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