一种高分辨率掩膜条、掩膜板及掩膜条的制作方法与流程

1.本发明涉及高精细掩膜板技术领域，特别涉及一种高分辨率掩膜条、掩膜板及掩膜条的制作方法。


背景技术：

2.amoled显示面板是下一代的新型显示技术，一般采用蒸镀工艺，如图1所示，各功能层材料通过蒸发源300加热汽化后透过金属掩膜板100沉积在tft基板200形成电路实现发光，特别是发光层材料需要用到高精细掩膜板(fmm)，以保证材料精准蒸镀到基板上的特定区域。
3.fmm主要由掩膜条10焊接于掩膜框上制作而成，掩膜条10目前采用双面湿式蚀刻工艺通过光罩400制作出像素开孔，如图2所示。而随着对oled显示分辨率的要求越来越高，精细金属掩膜板100厚度需要变薄，但目前超薄的铟瓦材较难取得，所以这也是目前oled屏幕分辨率难以提高的原因之一。


技术实现要素：

4.本发明要解决的技术问题，在于提供一种高分辨率掩膜条、掩膜板及掩膜条的制作方法，通过在掩膜条两面分别蚀刻形成蚀刻减薄区和补偿蚀刻区，并在蚀刻减薄区内形成蒸镀子像素开孔区，从而减小像素开孔间隙以提高分辨率。
5.第一方面，本发明实施例提供了一种高分辨率掩膜条，包括：
6.蒸镀子像素开孔区，对应于显示面板区域设置；
7.蚀刻减薄区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第二蚀刻面，且面积大于所述蒸镀子像素开孔区；
8.补偿蚀刻区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第一蚀刻面，且位于两蒸镀子像素开孔区之间，用于补偿所述蚀刻减薄区。
9.进一步地，所述第二蚀刻面为蒸镀材料堆积面，所述第一蚀刻面为掩膜条与tft基板接触面。
10.进一步地，所述补偿蚀刻区与所述蚀刻减薄区在投影方向上不重叠。
11.进一步地，所述蚀刻减薄区为矩形；所述补偿蚀刻区为矩形。
12.进一步地，所述蚀刻减薄区的蚀刻深度大于等于2um。
13.进一步地，所述掩膜条的厚度范围为30-100um。
14.进一步地，所述掩膜条为invar36材质的掩膜条。
15.第二方面，本发明实施例提供一种高分辨率掩膜板，由至少一个第一方面所述的高分辨率掩膜条张紧焊接在掩膜框上形成。
16.第三方面，本发明实施例提供一种高分辨率掩膜条的制作方法，用于制作如第一方面所述的高分辨率掩膜条，包括如下步骤：
17.步骤10、采用第一光罩显影，在掩膜条第二蚀刻面第一次蚀刻出蚀刻减薄区，所述
蚀刻减薄区的面积大于蒸镀子像素开孔区；
18.步骤20、采用第二光罩显影，在掩膜条第一蚀刻面第一次蚀刻出蒸镀子像素开孔区及补偿蚀刻区，所述补偿蚀刻区位于两蒸镀子像素开孔区之间，用于补偿所述蚀刻减薄区；
19.步骤30、采用第三光罩显影，在掩膜条第二蚀刻面的蚀刻减薄区内第二次蚀刻出子像素开孔，至与第一蚀刻面像素孔贯穿且达到子像素开孔设计大小d，形成蒸镀子像素开孔区；
20.步骤40、清洗掩膜条，完成制作。
21.进一步地，所述第二蚀刻面为蒸镀材料堆积面，所述第一蚀刻面为掩膜条与tft基板接触面。
22.本发明通过在掩膜条两面分别蚀刻形成蚀刻减薄区和补偿蚀刻区，并在蚀刻减薄区内形成蒸镀子像素开孔区，使得像素开孔区域减薄，可缩小开孔间距，从而提高分辨率；通过补偿蚀刻区补偿所述蚀刻减薄区，避免张网时沿掩膜条截面的应力不均问题；还可以一定程度地减少掩膜条下垂量，从而改善掩膜条与玻璃基板贴合情况，改善镀膜阴影效应提高产品良率。
附图说明
23.下面参照附图结合实施例对本发明作进一步的说明。
24.图1为现有技术中蒸镀工艺示意图；
25.图2为现有技术中掩膜条湿式蚀刻制作流程示意图；
26.图3为本技术实施例掩膜条第一蚀刻面的平面结构示意图；
27.图4为本技术实施例掩膜条第二蚀刻面的平面结构示意图；
28.图5为本技术实施例掩膜条第一蚀刻面第一次蚀刻的平面结构示意图；
29.图6为本技术实施例掩膜条第一蚀刻面第一次蚀刻的剖面结构示意图；
30.图7为本技术实施例掩膜条像素蚀刻开孔示意图；
31.图8为本技术实施例的高分辨率掩膜条蚀刻制作流程示意图。
具体实施方式
32.本技术实施例通过提供一种高分辨率掩膜条、掩膜板及掩膜条的制作方法，在掩膜条两面分别蚀刻形成蚀刻减薄区和补偿蚀刻区，并在蚀刻减薄区内形成蒸镀子像素开孔区，从而减小像素开孔间隙以提高分辨率。
33.本技术实施例首先提供了一种高分辨率掩膜条10，如图3至图7所示，包括：
34.蒸镀子像素开孔区1，对应于显示面板区域设置；
35.蚀刻减薄区2，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条10的第二蚀刻面12，且面积大于所述蒸镀子像素开孔区；
36.补偿蚀刻区3，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条10的第一蚀刻面11，且位于两蒸镀子像素开孔区1之间，用于补偿所述蚀刻减薄区2。
37.由于蒸镀子像素开孔区1形成于蚀刻减薄区2内，从而可以实现减小像素开孔间隙以提高分辨率。补偿蚀刻区3可以避免张网时沿掩膜条截面的应力不均问题；还可以一定程
度地减少掩膜条下垂量，从而改善掩膜条与玻璃基板贴合情况，改善镀膜阴影效应提高产品良率。
38.在一较佳实施例中，所述第二蚀刻面12为蒸镀材料堆积面，所述第一蚀刻面11为掩膜条与tft基板接触面，第一蚀刻面11和第二蚀刻面12通过涂布光阻并通过光罩400显影后进行蚀刻。
39.在一较佳实施例中，所述补偿蚀刻区3与所述蚀刻减薄区2在投影方向上不重叠。
40.在一较佳实施例中，所述蚀刻减薄区2为矩形；所述补偿蚀刻区3为矩形。
41.在一较佳实施例中，所述蚀刻减薄区2的蚀刻深度大于等于2um。
42.在一较佳实施例中，所述掩膜条10的厚度范围为30-100um。
43.在一较佳实施例中，所述掩膜条10为invar36材质的掩膜条。
44.本技术实施例还提供了一种高分辨率掩膜板100，由至少一个上述的高分辨率掩膜条10张紧焊接在掩膜框上形成。
45.本技术实施例还提供了一种高分辨率掩膜条的制作方法，用于制作上述的高分辨率掩膜条10，如图8所示，包括如下步骤：
46.步骤10、采用第一光罩401显影，在掩膜条10第二蚀刻面12第一次蚀刻出蚀刻减薄区2，所述蚀刻减薄区2的面积大于蒸镀子像素开孔区1，如图5和图6所示；
47.步骤20、采用第二光罩402显影，在掩膜条10第一蚀刻面11第一次蚀刻出蒸镀子像素开孔区1及补偿蚀刻区3，所述补偿蚀刻区3位于两蒸镀子像素开孔区1之间，用于补偿所述蚀刻减薄区2；
48.步骤30、采用第三光罩403显影，在掩膜条10第二蚀刻面12的蚀刻减薄区2内第二次蚀刻出子像素开孔，至与第一蚀刻面11像素孔贯穿且达到子像素开孔设计大小d，形成蒸镀子像素开孔区1，如图7所示；
49.步骤40、清洗掩膜条10，完成制作，如图3和图4所示。
50.在一较佳实施例中，所述第二蚀刻面12为蒸镀材料堆积面，所述第一蚀刻面11为掩膜条10与tft基板接触面。
51.本发明通过在掩膜条两面分别蚀刻形成蚀刻减薄区和补偿蚀刻区，并在蚀刻减薄区内形成蒸镀子像素开孔区，使得像素开孔区域减薄，可缩小开孔间距，从而提高分辨率；通过补偿蚀刻区补偿所述蚀刻减薄区，避免张网时沿掩膜条截面的应力不均问题；还可以一定程度地减少掩膜条下垂量，从而改善掩膜条与玻璃基板贴合情况，改善镀膜阴影效应提高产品良率。
52.虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是熟悉本技术领域的技术人员应当理解，我们所描述的具体的实施例只是说明性的，而不是用于对本发明的范围的限定，熟悉本领域的技术人员在依照本发明的精神所作的等效的修饰以及变化，都应当涵盖在本发明的权利要求所保护的范围内。

技术特征：
1.一种高分辨率掩膜条，其特征在于，包括：蒸镀子像素开孔区，对应于显示面板区域设置；蚀刻减薄区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第二蚀刻面，且面积大于所述蒸镀子像素开孔区；补偿蚀刻区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第一蚀刻面，且位于两蒸镀子像素开孔区之间，用于补偿所述蚀刻减薄区。2.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于：所述第二蚀刻面为蒸镀材料堆积面，所述第一蚀刻面为掩膜条与tft基板接触面。3.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于：所述补偿蚀刻区与所述蚀刻减薄区在投影方向上不重叠。4.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于：所述蚀刻减薄区为矩形；所述补偿蚀刻区为矩形。5.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于：所述蚀刻减薄区的蚀刻深度大于等于2um。6.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于：所述掩膜条的厚度范围为30-100um。7.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于：所述掩膜条为invar36材质的掩膜条。8.一种高分辨率掩膜板，其特征在于，由至少一个如权利要求1-7任一项所述的高分辨率掩膜条张紧焊接在掩膜框上形成。9.一种高分辨率掩膜条的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1至7任一项所述的高分辨率掩膜条，包括如下步骤：步骤10、采用第一光罩显影，在掩膜条第二蚀刻面第一次蚀刻出蚀刻减薄区，所述蚀刻减薄区的面积大于蒸镀子像素开孔区；步骤20、采用第二光罩显影，在掩膜条第一蚀刻面第一次蚀刻出蒸镀子像素开孔区及补偿蚀刻区，所述补偿蚀刻区位于两蒸镀子像素开孔区之间，用于补偿所述蚀刻减薄区；步骤30、采用第三光罩显影，在掩膜条第二蚀刻面的蚀刻减薄区内第二次蚀刻出子像素开孔，至与第一蚀刻面像素孔贯穿且达到子像素开孔设计大小d，形成蒸镀子像素开孔区；步骤40、清洗掩膜条，完成制作。10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：所述第二蚀刻面为蒸镀材料堆积面，所述第一蚀刻面为掩膜条与tft基板接触面。

技术总结
本发明公开了一种高分辨率掩膜条、掩膜板及掩膜条的制作方法，涉及高精细掩膜板技术领域。所述高分辨率掩膜条包括：蒸镀子像素开孔区，对应于显示面板区域设置；蚀刻减薄区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第二蚀刻面，且面积大于所述蒸镀子像素开孔区；补偿蚀刻区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第一蚀刻面，且位于两蒸镀子像素开孔区之间，用于补偿所述蚀刻减薄区。本发明提供的一种高分辨率掩膜条、掩膜板及掩膜条的制作方法，通过在掩膜条两面分别蚀刻形成蚀刻减薄区和补偿蚀刻区，并在蚀刻减薄区内形成蒸镀子像素开孔区，从而减小像素开孔间隙以提高分辨率。素开孔间隙以提高分辨率。素开孔间隙以提高分辨率。


技术研发人员：张麒麟 林泽
受保护的技术使用者：福建华佳彩有限公司
技术研发日：2023.04.23
技术公布日：2023/8/5