一种晶圆保护胶涂覆机构及晶圆加工装置的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆加工技术领域，具体而言，涉及一种晶圆保护胶涂覆机构及晶圆加工装置。


背景技术：

2.光刻是半导体工艺中的重要制程，通过涂胶，曝光，显影等步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去，在晶圆表面留下带有微图形结构的薄膜。
3.现有的涂胶通常采用旋转式的涂胶机，晶圆在涂胶桶内旋转，涂胶喷嘴向晶圆的表面涂布保护胶，通过离心力使保护胶均匀地涂满晶圆的表面。在晶圆旋转的过程中，保护胶会飞溅至涂胶桶内壁，长期使用后残胶需人员定期清理，耗费人力且会增加涂胶制程所需的时间，降低了晶圆加工的效率。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种晶圆保护胶涂覆机构及晶圆加工装置，其涂胶桶内壁能够实现自清洁，节省人力，提高晶圆加工的效率。
5.本实用新型的实施例是这样实现的：
6.本实用新型实施例提供一种晶圆保护胶涂覆机构，包括涂胶桶、设置在涂胶桶内的转盘、喷胶嘴和喷淋管，转盘用于固定晶圆，喷胶嘴用于向晶圆涂布保护胶，喷淋管环绕涂胶桶的内壁设置，喷淋管上设有多个喷淋口，喷淋口用于向涂胶桶的内壁喷射清洗液。
7.可选地，喷淋管位于转盘的上方。
8.可选地，还包括盖板，涂胶桶的顶部设有开口，盖板滑动设置在涂胶桶上，用以将开口封闭。
9.可选地，还包括摆臂和摆动驱动组件，摆臂在摆动驱动组件的驱动下在涂胶桶内往复摆动，喷胶嘴位于摆臂上，摆臂能够摆动至转盘的上方。
10.可选地，摆臂上还设有喷水头，喷水头用于清洗涂胶后的晶圆。
11.可选地，摆臂上还设有二流体喷嘴，二流体喷嘴用于清洗切割后的晶圆。
12.可选地，涂胶桶内设有水槽，摆臂能够运动至水槽处，以将喷胶嘴浸入水槽。
13.可选地，还包括与涂胶桶内连通的抽尘组件，抽尘组件用于抽吸涂胶桶内的水雾。
14.可选地，抽尘组件包括抽尘管和与抽尘管的一端连通的抽尘泵，涂胶桶上设有抽尘口，抽尘管的另一端与抽尘口连通，抽尘泵的转速可调节。
15.本实用新型实施例还提供一种晶圆加工装置，包括如上任意一项的晶圆保护胶涂覆机构。
16.本实用新型实施例的有益效果包括：
17.本实用新型实施例提供的晶圆保护胶涂覆机构，包括涂胶桶、设置在涂胶桶内的转盘、喷胶嘴和喷淋管，转盘用于固定晶圆，喷胶嘴用于向晶圆涂布保护胶，喷淋管环绕涂胶桶的内壁设置，喷淋管上设有多个喷淋口，喷淋口用于向涂胶桶的内壁喷射清洗液。上述
晶圆保护胶涂覆机构，通过在涂胶桶内设置喷淋管，使涂胶桶具备自清洁功能，可以定期自动清理残留在内壁上的保护胶，无需拆除涂胶桶进行人工清理，节省人力、时间，提高了晶圆加工的效率。
附图说明
18.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
19.图1为本实用新型实施例提供的晶圆保护胶涂覆机构的结构示意图；
20.图2为本实用新型实施例提供的晶圆保护胶涂覆机构中转盘的结构示意图；
21.图3为本实用新型实施例提供的晶圆保护胶涂覆机构中摆臂和摆动驱动组件的结构示意图。
22.图标：100-晶圆保护胶涂覆机构；110-涂胶桶；120-转盘；130-喷淋管；141-盖板；142-气动导轨；143-气动滑块；150-摆臂；151-喷胶嘴；152-喷水头；153-二流体喷嘴；160-摆动驱动组件；161-电机；162-转轴；170-水槽；180-抽尘组件；190-旋转电机。
具体实施方式
23.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
24.因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
25.应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
26.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
27.此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
28.在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，
或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
29.请结合参照图1和图2，本技术实施例提供一种晶圆保护胶涂覆机构100，包括涂胶桶110、设置在涂胶桶110内的转盘120、喷胶嘴151和喷淋管130，转盘120用于固定晶圆，喷胶嘴151用于向晶圆涂布保护胶，喷淋管130环绕涂胶桶110的内壁设置，喷淋管130上设有多个喷淋口，喷淋口用于向涂胶桶110的内壁喷射清洗液。
30.该晶圆保护胶涂覆机构100包括涂胶桶110，以及位于涂胶桶110内部的转盘120、喷胶嘴151和喷淋管130。晶圆固定在转盘120上，随转盘120共同旋转。示例地，转盘120在旋转电机190的驱动下转动，转盘120上设有吸附孔，吸附孔下方连接真空组件，真空组件通过抽真空在吸附孔处形成负压，将晶圆吸附。晶圆的环周端面可以设置钢环，以便于晶圆的固定和转移。转盘120的材料可以为陶瓷，陶瓷的吸水率低，强度高，化学性质稳定，能够很好的固定晶圆，且在晶圆涂胶和清洗过程中不会受到保护胶和清洗液的腐蚀。
31.喷胶嘴151在工作时位于转盘120的上方，将保护胶均匀涂覆在晶圆表面。晶圆在旋转过程中，保护胶受惯性作用自动在晶圆表面铺开，同时，部分保护胶会飞溅至涂胶桶110的内壁。为了清除涂胶桶110内壁的残胶，涂胶桶110内还设置了喷淋管130，喷淋管130环绕涂胶桶110的内壁设置，优选的，喷淋管130环绕涂胶桶110的2/3圈以上，以提高清洗效果。喷淋管130上设有多个喷淋口，多个喷淋口沿喷淋管130的长度方向间隔分布，优选为等间隔分布。喷淋口的喷淋方向朝向涂胶桶110内壁设置，喷淋管130内的清洗液由喷淋口喷射至涂胶桶110内壁，使涂胶桶110上的保护胶被稀释后随清洗液流走。优选的，喷淋口喷出的清洗液具有一定的压力，以对涂胶桶110内壁的保护胶形成冲击，更有利于去除残胶。清洗液可以为水，也可以为其他可以溶解保护胶的液体。
32.上述晶圆保护胶涂覆机构100，通过在涂胶桶110内设置喷淋管130，使涂胶桶110具备自清洁功能，可以定期自动清理残留在内壁上的保护胶，无需拆除涂胶桶110进行人工清理，节省人力、时间，提高了晶圆加工的效率。
33.可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，喷淋管130位于转盘120的上方，喷淋管130内的清洗液喷射至涂胶桶110内的较高位置处，而后受重力作用带动保护胶沿桶壁向下流动，以使清洗液尽可能多的覆盖涂胶桶110的内壁，提高清洗效果。
34.可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，喷淋管130上的喷淋口角度可调节，以使清洗液能够定向喷射至涂胶桶110内的不同位置处，以提高清洗效率和清洗效果。
35.可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，还包括盖板141，涂胶桶110的顶部设有开口，盖板141滑动设置在涂胶桶110上，用以将开口封闭，使涂胶桶110内形成密闭的空间，防止保护胶或清洗液飞溅至涂胶桶110外。
36.示例地，涂胶桶110的侧面设有气动导轨142和与导轨配合的气动滑块143，盖板141与气动滑块143固定连接，气动滑块143在气压的驱动下沿气动导轨142往复滑动，带动盖板141将涂胶桶110的开口封闭或打开。
37.请结合参照图3，可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，还包括摆臂150和摆动驱动组件160，摆臂150在摆动驱动组件160的驱动下在涂胶桶110内往复摆动，喷
胶嘴151位于摆臂150上，摆臂150能够摆动至转盘120的上方。
38.摆臂150的摆动平面平行于转盘120的表面且位于转盘120的上方，喷胶嘴151设置在摆臂150朝向转盘120的一侧，喷胶嘴151的喷射方向向下，摆臂150在摆动驱动组件160的作用下在摆动平面内往复摆动。涂胶时，摆臂150带动喷胶嘴151运动至转盘120的上方，喷胶嘴151即可向转盘120上的晶圆涂布保护胶；涂胶结束后，摆臂150带动喷胶嘴151运动至转盘120的侧上方，以方便对晶圆进行下一步操作。
39.示例地，摆动驱动组件160与摆臂150呈l型分布，摆动驱动组件160包括电机161和转轴162，转轴162的一端与电机161的输出轴固定连接，跟随输出轴一同旋转，转轴162的另一端与摆臂150固定连接，通过旋转驱动摆臂150摆动。
40.可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，摆臂150上还设有喷水头152，喷水头152用于清洗涂胶后的晶圆。
41.喷水头152位于摆臂150朝向转盘120的一侧，与喷胶嘴151间隔设置。喷水头152的喷水方向向下，摆臂150带动喷水头152运动至转盘120上方后，喷水头152朝向晶圆喷水，以清洗晶圆上残留的保护胶。
42.可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，摆臂150上还设有二流体喷嘴153，二流体喷嘴153用于清洗切割后的晶圆。
43.晶圆完成涂胶和清洗工步后，需转移至切割装置内进行切割，切割完成后再将晶圆放回至涂胶桶110内利用二流体喷嘴153再次进行清洗。二流体喷嘴153位于摆臂150朝向转盘120的一侧，与喷胶嘴151和喷水头152分别间隔设置。二流体喷嘴153的喷射方向向下，摆臂150带动二流体喷嘴153运动至转盘120上方后，二流体喷嘴153朝向晶圆喷射雾化液料，将切割后的晶圆表面的胶、残渣冲洗干净。
44.二流体喷嘴153是气流式雾器的一种，包括液体管路和气体管路，液体管路与气体管路在二流体喷嘴153的出口端汇合，由于气体喷出的气流速度很高，但液体流出的速度不大，因此在两流体之间存在着很大的相对速度，从而产生相当大的摩擦力，将料液雾化，雾化后的液料则从二流体喷嘴153的出口端喷出。
45.可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，涂胶桶110内设有水槽170，摆臂150能够运动至水槽170处，以将喷胶嘴151浸入水槽170，防止喷胶嘴151堵塞。
46.示例地，晶圆保护胶涂覆机构100还包括升降驱动组件，升降驱动组件用于驱动摆臂150沿竖直方向往复运动。喷胶嘴151一段时间不用后，升降驱动组件和摆动驱动组件160配合，即可调整喷胶嘴151的位置，使其浸入水槽170内。升降驱动组件的结构为现有技术，本实施例在此不作赘述。
47.可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，还包括与涂胶桶110内连通的抽尘组件180，抽尘组件180用于抽吸涂胶桶110内的水雾，以使涂胶桶110内保持干燥。
48.可选的，本实用新型实施例的一种可实现的方式中，抽尘组件180包括抽尘管和与抽尘管的一端连通的抽尘泵，涂胶桶110上设有抽尘口，抽尘管的另一端与抽尘口连通，抽尘泵的转速可调节，以根据涂胶桶110内水雾的含量调整抽吸力度。
49.综上所述，上述晶圆保护胶涂覆机构100，通过设置喷胶嘴151、喷淋管130和抽尘组件180，实现了自动涂胶，自动清洗、自动甩干功能。另外，还设置了水槽170，一段时间不用后摆臂150自动移动至浸润水槽170内，防止喷胶嘴151堵塞。
50.本实施例还提供一种晶圆加工装置，包括如上任意一项的晶圆保护胶涂覆机构100。
51.该晶圆加工装置包含与前述实施例中的晶圆保护胶涂覆机构100相同的结构和有益效果。晶圆保护胶涂覆机构100的结构和有益效果已经在前述实施例中进行了详细描述，在此不再赘述。
52.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：
1.一种晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，包括涂胶桶、设置在所述涂胶桶内的转盘、喷胶嘴和喷淋管，所述转盘用于固定晶圆，所述喷胶嘴用于向所述晶圆涂布保护胶，所述喷淋管环绕所述涂胶桶的内壁设置，所述喷淋管上设有多个喷淋口，所述喷淋口用于向所述涂胶桶的内壁喷射清洗液。2.根据权利要求1所述的晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，所述喷淋管位于所述转盘的上方。3.根据权利要求1所述的晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，还包括盖板，所述涂胶桶的顶部设有开口，所述盖板滑动设置在所述涂胶桶上，用以将所述开口封闭。4.根据权利要求1所述的晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，还包括摆臂和摆动驱动组件，所述摆臂在所述摆动驱动组件的驱动下在所述涂胶桶内往复摆动，所述喷胶嘴位于所述摆臂上，所述摆臂能够摆动至所述转盘的上方。5.根据权利要求4所述的晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，所述摆臂上还设有喷水头，所述喷水头用于清洗涂胶后的所述晶圆。6.根据权利要求4所述的晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，所述摆臂上还设有二流体喷嘴，所述二流体喷嘴用于清洗切割后的所述晶圆。7.根据权利要求4所述的晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，所述涂胶桶内设有水槽，所述摆臂能够运动至所述水槽处，以将所述喷胶嘴浸入所述水槽。8.根据权利要求1所述的晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，还包括与所述涂胶桶内连通的抽尘组件，所述抽尘组件用于抽吸所述涂胶桶内的水雾。9.根据权利要求8所述的晶圆保护胶涂覆机构，其特征在于，所述抽尘组件包括抽尘管和与所述抽尘管的一端连通的抽尘泵，所述涂胶桶上设有抽尘口，所述抽尘管的另一端与所述抽尘口连通，所述抽尘泵的转速可调节。10.一种晶圆加工装置，其特征在于，包括如权利要求1至9中任意一项所述的晶圆保护胶涂覆机构。

技术总结
一种晶圆保护胶涂覆机构及晶圆加工装置，涉及晶圆加工技术领域。该晶圆保护胶涂覆机构包括涂胶桶、设置在涂胶桶内的转盘、喷胶嘴和喷淋管，转盘用于固定晶圆，喷胶嘴用于向晶圆涂布保护胶，喷淋管环绕涂胶桶的内壁设置，喷淋管上设有多个喷淋口，喷淋口用于向涂胶桶的内壁喷射清洗液。该晶圆保护胶涂覆机构，通过在涂胶桶内设置喷淋管，使涂胶桶具备自清洁功能，可以定期自动清理残留在内壁上的保护胶，无需拆除涂胶桶进行人工清理，节省人力、时间，提高了晶圆加工的效率。提高了晶圆加工的效率。提高了晶圆加工的效率。


技术研发人员：请求不公布姓名
受保护的技术使用者：苏州海杰兴科技股份有限公司
技术研发日：2023.02.01
技术公布日：2023/8/8