一种晶圆级镜头涂黑方法与流程

1.本发明属于纳米压印晶圆级镜头模组领域，具体涉及一种晶圆级镜头涂黑方法。


背景技术：

2.现有晶圆级镜头组成材质都为晶圆级光学玻璃和高透过率胶水形成，晶圆级镜头从整片晶圆切割成单颗镜头后，四周都为透明色。与芯片组装后需要在镜头四周进行涂黑遮光处理。现有涂黑工艺为使用低粘度(50mpa.s)黑色油墨采用喷涂方式在镜头四周进行遮光处理。由于采用的是喷涂工艺，对环境污染比较大，气味严重，胶水浪费严重，且四角漏光概率比较大，因喷涂后胶水在固化前会存在一些流动，所以镜头四周涂黑厚度不均匀。


技术实现要素：

3.本发明提出一种晶圆级镜头涂黑方法，以解决现有喷涂工艺对环境污染比较大，气味严重，胶水浪费严重，且四角漏光概率比较大，镜头四周涂黑厚度不均匀的问题。
4.为达上述目的，本发明提出技术方案如下：
5.一种晶圆级镜头涂黑方法，包括：
6.步骤1，晶圆级镜头通过预留部分彼此连接组成晶圆级镜头组，对预留部分进行预切割，在晶圆级镜头间留下切割道；
7.步骤2，使用画胶机将黑胶填充在切割道内部；
8.步骤3，对黑胶进行固化；
9.步骤4，对晶圆级镜头组进行再切割，得到涂黑后的晶圆级镜头。
10.优选的，步骤2中，黑色胶水不能溢流到透镜表面。
11.优选的，步骤2中，黑胶均匀填充透镜侧壁。
12.优选的，步骤2中，黑胶的全光线透过率＜1％。
13.优选的，步骤3中，固化方式为紫外固化。
14.优选的，步骤3中，固化方式为热固化，热固化的固化条件温度＜100℃。
15.优选的，步骤4，涂黑后的晶圆级镜头上的黑胶均匀分布。
16.优选的，所有涂黑后的晶圆级镜头上的黑胶厚度相等。
17.优选的，还包括步骤5，转移涂黑后的晶圆级镜头进行模组组装。本发明的有益之处在于：
18.本发明对晶圆级镜头组进行预切割，之后使用画胶机将黑胶均匀填充在切割道内部，在进行固化之后，再次切割，得到四周和四角黑胶涂覆均匀的单颗透镜，避免了镜头四周涂黑不均匀的问题，同时解决喷涂导致的胶水浪费，环境污染等方面的问题。
19.同时严控胶水的位置，避免了胶水的浪费；同时选择固化手段，避免胶水流动造成的涂黑不均匀。
附图说明
20.构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
21.图1为一种晶圆级镜头涂黑方法示意图；
22.图2为待切割的晶圆级镜头示意图；
23.图3为进行画黑胶作业示意图；
24.图4为再次切割示意图。
25.图中，1为晶圆级镜头组，11为晶圆级镜头，12为预留部分，2为切割刀，3为画胶机，4为黑胶。
具体实施方式
26.下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
27.以下详细说明均是示例性的说明，旨在对本发明提供进一步的详细说明。除非另有指明，本发明所采用的所有技术术语与本发明所属领域的一般技术人员的通常理解的含义相同。本发明所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而并非意图限制根据本发明的示例性实施方式。
28.实施例1：
29.请参阅图1所示，本发明提供一种晶圆级镜头涂黑方法，具体包括如下步骤：
30.步骤1，晶圆级镜头组1上的多个晶圆级镜头11通过预留部分12进行连接，使用切割刀2对晶圆级镜头组1进行预切割，在预留部分上留下切割道；
31.步骤2，调试画胶机3，使用画胶机3将黑胶4均匀填充在切割道内部，黑胶4不能溢流道透镜表面，且均匀填充透镜侧壁；黑胶4的透过率＜1％(全波段光线)；
32.步骤3，对黑胶4进行固化；固化方式包括紫外固化、热固化(固化条件温度＜100℃)；
33.步骤4：对固化后的晶圆级镜头11进行再切割，再切割过程中，注意保证再切割后的晶圆级镜头1上覆盖有厚度均匀的黑胶层。
34.实施例2：
35.如图2所示的待切割的晶圆级镜头，切割要求如下：
36.透镜高度为h1,切割道宽度为250μm，切割刀选型为厚度为250μm的刀；切割刀选型厚度等于切割道宽度。
37.切割深度为h1-100μm，预留100μm的做透镜之间的连接，同步防止点胶后胶水溢胶到透镜的与切割膜接触面。
38.如图3所示，对切割后的晶圆级透镜11在画胶机3上进行画黑胶作业。
39.如图4所示，为完成切割道画黑胶固化的晶圆级透镜11进行再次切割，切割要求如下，切割道选用150μm厚度，切割深度为h1(透镜的整体厚度)；切割刀厚度＝切割道-2*透镜单侧壁黑胶厚度。
40.经上述工艺过程，可以得到四周和四角黑胶4涂覆均匀的单颗透镜，可以转移到模组段进行模组组装。
41.本发明提出一种晶圆级镜头涂黑方法，相较于原本的胶水喷涂方法，本发明使用画胶机3将黑色的胶水均匀填充在切割道内部，严控胶水的位置，避免了胶水的浪费；同时选择固化手段，避免胶水流动造成的涂黑不均匀。
42.由技术常识可知，本发明可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此，上述公开的实施方案，就各方面而言，都只是举例说明，并不是仅有的。所有在本发明范围内或在等同于本发明的范围内的改变均被本发明包含。
43.最后应当说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其限制，尽管参照上述实施例对本发明进行了详细的说明，所属领域的普通技术人员应当理解：依然可以对本发明的具体实施方式进行修改或者等同替换，而未脱离本发明精神和范围的任何修改或者等同替换，其均应涵盖在本发明的权利要求保护范围之内。


技术特征：
1.一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，包括：步骤1，晶圆级镜头(11)通过预留部分(12)彼此连接组成晶圆级镜头组(1)，对预留部分(12)进行预切割，在晶圆级镜头(1)间留下切割道；步骤2，使用画胶机(3)将黑胶(4)填充在切割道内部；步骤3，对黑胶(4)进行固化；步骤4，对晶圆级镜头组(1)进行再切割，得到涂黑后的晶圆级镜头(11)。2.如权利要求1所述的一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，步骤2中，黑色胶水不能溢流到透镜表面。3.如权利要求1所述的一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，步骤2中，黑胶(4)均匀填充透镜侧壁。4.如权利要求3所述的一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，步骤2中，黑胶(4)的全光线透过率＜1％。5.如权利要求1所述的一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，步骤3中，固化方式为紫外固化。6.如权利要求1所述的一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，步骤3中，固化方式为热固化，热固化的固化条件温度＜100℃。7.如权利要求1所述的一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，步骤4，涂黑后的晶圆级镜头(11)上的黑胶(4)均匀分布。8.如权利要求1所述的一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，所有涂黑后的晶圆级镜头上的黑胶(4)厚度相等。9.如权利要求1所述的一种晶圆级镜头涂黑方法，其特征在于，还包括步骤5，转移涂黑后的晶圆级镜头(11)进行模组组装。

技术总结
本发明属于纳米压印晶圆级镜头模组领域，具体涉及一种晶圆级镜头涂黑方法，具体的，包括对待切割的晶圆级镜头进行预切割；调试画胶机，使用画胶机将黑色的胶水均匀填充在切割道内部，黑色胶水不能溢流道透镜表面，且均匀填充透镜侧壁；对黑色胶水进行固化；对固化后的晶圆级镜头进行切割。相较于原本的胶水喷涂方法，本发明使用画胶机将黑色的胶水均匀填充在切割道内部，严控胶水的位置，避免了胶水的浪费；同时选择固化手段，避免胶水流动造成的涂黑不均匀。黑不均匀。黑不均匀。


技术研发人员：刘守航 侯洋昆 周建锋
受保护的技术使用者：华天慧创科技(西安)有限公司
技术研发日：2023.05.24
技术公布日：2023/8/21