一种板式镀膜工艺腔室的制作方法

1.本实用新型属于光伏生产设备技术领域，具体涉及一种板式镀膜工艺腔室。


背景技术：

2.pecvd(plasmaenhancedchemicalvapordeposition，等离子体增强化学气相沉积法)是一种常见的太阳能电池生产方法，pecvd工艺的部分工艺流程在板式镀膜工艺腔室中进行，在板式镀膜工艺腔室中制备真空环境，在真空环境中通入微波，将硅烷和氨气加入到微波区域，使得硅烷和氨气两种气体在高温(＞350℃)低压(0.28
±
0.01mbar)下变成等离子体然后结合成氮化硅。此时，将硅片置于板式镀膜工艺腔室中的反应区域的下方，氮化硅则会沉积在硅片表面，完成镀膜。由于板式镀膜工艺腔室内部要保持真空环境，需要使用真空泵将反应剩余物和未反应气体抽走，一般情况下，板式镀膜工艺腔室的抽气孔设置在板式镀膜工艺腔室的两侧，板式镀膜工艺腔室内气体会通过两侧的抽气孔由真空管道流到真空泵中。但是，因为板式镀膜工艺腔室内部抽气孔设置在装置的侧壁，导致板式镀膜工艺腔室中的两侧与中间气体流量流速不一样；此外因为板式镀膜工艺腔室两侧的外部抽气管路连接同一个真空泵，导致板式镀膜工艺腔室两侧的外部抽气管路长度不一样，右侧与左侧比较，外部抽气管路多增加了直角弯，导致板式镀膜工艺腔室两侧的气体流量流速不一样，板式镀膜工艺腔室内部的压力不稳定，在压力的作用下，离子的运动受到压力差的影响，导致氮化硅膜的沉积速率就会有差别，最终导致硅片的颜色不同，产品合格率下降。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种板式镀膜工艺腔室，旨在解决板式镀膜工艺腔室内部的压力不稳定，导致硅片的颜色不同，产品合格率降低的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种板式镀膜工艺腔室，包括：
5.工作室，所述工作室内设置有工作腔；
6.左侧抽气管路，包括左侧主管路以及左侧支管路，所述左侧支管路一端设置在所述工作室的左侧壁，连通所述工作腔，所述左侧支管路的另一端连接所述左侧主管路；
7.右侧抽气管路，包括右侧主管路以及右侧支管路，所述右侧支管路一端设置在所述工作室的右侧壁，连通所述工作腔，所述右侧支管路的另一端连接所述右侧主管路；以及
8.抽真空组件，包括过滤桶以及真空泵，所述过滤桶垂直于所述工作室的轴线设置，所述真空泵连通所述过滤桶的内腔设置，且设置在所述过滤桶远离所述工作室的一侧，所述右侧主管路远离所述右侧支管路的一端连通所述过滤桶的内腔，所述左侧主管路远离所述左侧支管路的一端连通所述过滤桶的内腔；
9.所述左侧抽气管路与所述右侧抽气管路相对于所述工作室的轴线对称设置。
10.在一种可能的实现方式中，所述左侧支管路设置有多组，所述右侧支管路设置有多组。
11.在一种可能的实现方式中，所述左侧主管路与所述左侧支管路之间设置有左侧分管路，所述右侧主管路与所述右侧支管路之间设置有右侧分管路。
12.在一种可能的实现方式中，所述左侧分管路的两端为盲端，所述右侧分管路的两端为盲端。
13.在一种可能的实现方式中，所述左侧主管路设置在所述左侧分管路的左侧，所述左侧支管路垂直设置在所述左侧分管路的右侧，所述右侧主管路设置在所述右侧分管路的右侧，所述右侧支管路垂直设置在所述右侧分管路的左侧。
14.在一种可能的实现方式中，多组所述左侧支管路对称的设置在所述左侧分管路上，多组所述右侧支管路对称的设置在所述右侧分管路上。
15.在一种可能的实现方式中，所述左侧支管路的间距相等，所述右侧支管路的间距相等。
16.在一种可能的实现方式中，所述左侧主管路连接所述左侧分管路的端部设置在所述左侧分管路的轴线上，所述右侧主管路连接所述右侧分管路的端部设置在所述右侧分管路的轴线上。
17.在一种可能的实现方式中，所述左侧支管路设置有四组，所述右侧支管路设置有四组。
18.在一种可能的实现方式中，所述过滤桶的轴线与所述工作室的轴线重合。
19.本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的有益效果在于：
20.与现有技术相比，设置有工作室、左侧抽气管路、右侧抽气管路及抽真空组件，工作室内设置有工作腔，硅片置于工作腔内进行反应，左侧抽气管路与右侧抽气管路对称的设置在工作室的左右两侧，左侧抽气管路设置在工作室的左侧，包括左侧主管路以及左侧支管路，左侧支管路一端连通工作室，另一端连通左侧主管路，右侧抽气管路设置在工作室的右侧，包括右侧主管路以及右侧支管路，右侧支管路一端连通工作室，另一端连通右侧主管路，抽真空组件包括过滤桶以及真空泵，过滤桶设置在工作室的前侧，过滤桶垂直于所述工作室的轴线设置，真空泵连通过滤桶设置，工作腔内的气体经过左/右侧支管路、左/右侧主管路、过滤桶以及真空泵排出，左侧抽气管路与右侧抽气管路对称设置，减小了工作腔左侧、右侧之间的气流差异，平衡同一时间下工作腔内各个位置的气压，提高镀膜均匀性以及产品合格率。
附图说明
21.为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
22.图1为本实用新型实施例提供的工艺腔室的结构示意图。
23.图中：1、工作室；2、工作腔；3、左侧支管路；4、左侧分管路；5、左侧横管；6、左侧竖管；7、右侧支管路；8、右侧分管路；9、右侧横管；10、右侧竖管；11、过滤桶；12、真空泵。
具体实施方式
24.为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
25.请参照图1，现对本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式进行说明，包括工作室1、左侧抽气管路、右侧抽气管路及抽真空组件，工作室1内设置有工作腔2；左侧抽气管路包括左侧主管路以及左侧支管路3，左侧支管路3一端设置在工作室1的左侧壁，连通工作腔2，左侧支管路3的另一端连接左侧主管路；右侧抽气管路包括右侧主管路以及右侧支管路7，右侧支管路7一端设置在工作室1的右侧壁，连通工作腔2，右侧支管路7的另一端连接右侧主管路；抽真空组件包括过滤桶11以及真空泵12，过滤桶11垂直于工作室1的轴线设置，真空泵12连通过滤桶11的内腔设置，且设置在过滤桶11远离工作室1的一侧，右侧主管路远离右侧支管路7的一端连通过滤桶11的内腔，左侧主管路远离左侧支管路3的一端连通过滤桶11的内腔；左侧抽气管路与右侧抽气管路相对于工作室1的轴线对称设置。
26.本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室，与现有技术相比，设置有工作室1、左侧抽气管路、右侧抽气管路及抽真空组件，工作室1内设置有工作腔2，硅片置于工作腔2内进行反应，左侧抽气管路与右侧抽气管路对称的设置在工作室1的左右两侧，左侧抽气管路设置在工作室1的左侧，包括左侧主管路以及左侧支管路3，左侧支管路3一端连通工作室1，另一端连通左侧主管路，右侧抽气管路设置在工作室1的右侧，包括右侧主管路以及右侧支管路7，右侧支管路7一端连通工作室1，另一端连通右侧主管路，抽真空组件包括过滤桶11以及真空泵12，过滤桶11设置在工作室1的前侧，过滤桶11垂直于工作室1的轴线设置，真空泵12连通过滤桶11设置，工作腔2内的气体经过左/右侧支管路7、左/右侧主管路、过滤桶11以及真空泵12排出，左侧抽气管路与右侧抽气管路对称设置，减小了工作腔2左侧、右侧之间的气流差异，平衡同一时间下工作腔2内各个位置的气压，提高镀膜均匀性以及产品合格率。
27.具体的，请参照图1，包括工作室1、左侧抽气管路、右侧抽气管路及抽真空组件，工作室1内设置有用于放置硅片的工作腔2，工作室1的左侧设置有左侧抽气管路，工作室1的右侧设置有右侧抽气管路，左侧抽气管路与右侧抽气管路相对于工作室1的轴线对称设置，抽真空组件包括过滤桶11以及真空泵12，过滤桶11在其长度方向上垂直于工作室1的轴线设置，过滤桶11设置在工作室1的前侧，真空泵12设置在过滤桶11远离工作室1的一侧，左侧抽气管路包括左侧主管路以及左侧支管路3，左侧支管路3垂直于工作室1的左侧壁设置，左侧主管路包括相连的左侧横管5以及左侧竖管6，左侧横管5设置在左侧支管路3远离工作室1的一端，左侧竖管6垂直设置在左侧横管5的另一端，左侧竖管6远离左侧横管5的一端垂直设置在过滤桶11的侧壁，右侧抽气管路包括右侧主管路以及右侧支管路7，右侧支管路7垂直于工作室1的右侧壁设置，右侧主管路包括相连的右侧横管9以及右侧竖管10，右侧横管9设置在右侧支管路7远离工作室1的一端，右侧竖管10垂直设置在右侧横管9的另一端，右侧竖管10远离右侧横管9的一端垂直设置在过滤桶11的侧壁，减小了工作腔2左侧、右侧之间的气流差异，平衡同一时间下工作腔2内各个位置的气压，提高镀膜均匀性以及产品合格率。
28.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，左侧支管路3设置有多组，右侧支管路7设置有多组。
29.具体的，请参照图1，设置有多组左侧支管路3以及多组右侧支管路7，多组左侧支管路3与多组右侧支管路7相对称设置在工作室1的左右侧壁，有利于均衡工作室1内的气压。
30.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，左侧主管路与左侧支管路3之间设置有左侧分管路4，右侧主管路与右侧支管路7之间设置有右侧分管路8。
31.具体的，请参照图1，左侧分管路4设置在左侧横管5与左侧支管路3之间，连通多组左侧支管路3与左侧横管5，右侧分管路8设置在右侧横管9与右侧支管路7之间，连通多组右侧支管路7与右侧横管9，左侧分管路4与右侧分管路8相对于工作室1的轴线对称设置，左侧分管路4与右侧分管路8有利于进行气体的排出。
32.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，左侧分管路4的两端为盲端，右侧分管路8的两端为盲端。
33.具体的，请参照图1，左侧分管路4与右侧分管路8的两端均为盲端，避免左侧分管路4与右侧分管路8内气体外泄。
34.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，左侧主管路设置在左侧分管路4的左侧，左侧支管路3垂直设置在左侧分管路4的右侧，右侧主管路设置在右侧分管路8的右侧，右侧支管路7垂直设置在右侧分管路8的左侧。
35.具体的，请参照图1，左侧主管路、左侧支管路3、左侧分管路4、右侧主管路、右侧支管路7、右侧分管路8设置在同一水平面，平衡同一时间下工作腔2内各个位置的气压，提高镀膜均匀性以及产品合格率。
36.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，多组左侧支管路3对称的设置在左侧分管路4上，多组右侧支管路7对称的设置在右侧分管路8上。
37.具体的，请参照图1，多组左侧支管路3相对于左侧分管路4的轴线对称设置，多组右侧支管路7相对于右侧分管路8的轴线对称设置，平衡同一时间下工作腔2内各个位置的气压，提高镀膜均匀性以及产品合格率。
38.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，左侧支管路3的间距相等，右侧支管路7的间距相等。
39.具体的，请参照图1，各左侧支管路3的间距、各右侧支管路7的间距均相等，平衡同一时间下工作腔2内各个位置的气压，提高镀膜均匀性以及产品合格率。
40.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，左侧主管路连接左侧分管路4的端部设置在左侧分管路4的轴线上，右侧主管路连接右侧分管路8的端部设置在右侧分管路8的轴线上。
41.具体的，请参照图1，左侧横管5设置在左侧分管路4的轴线上，右侧横管9设置在左侧分管路4的轴线上，平衡同一时间下工作腔2内各个位置的气压，提高镀膜均匀性以及产品合格率。
42.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，
左侧支管路3设置有四组，右侧支管路7设置有四组。
43.具体的，请参照图1，设置有四组左侧支管路3、四组右侧支管路7，有利于平衡同一时间下工作腔2内各个位置的气压。
44.作为本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室的一种具体实施方式，请参照图1，过滤桶11的轴线与工作室1的轴线重合。
45.具体的，请参照图1，过滤桶11垂直于其长度方向的轴线与工作室1的轴线向重合设置，有利于均衡对左侧主管路与右侧主管路的吸力。
46.以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：
1.一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，包括：工作室，所述工作室内设置有工作腔；左侧抽气管路，包括左侧主管路以及左侧支管路，所述左侧支管路一端设置在所述工作室的左侧壁，连通所述工作腔，所述左侧支管路的另一端连接所述左侧主管路；右侧抽气管路，包括右侧主管路以及右侧支管路，所述右侧支管路一端设置在所述工作室的右侧壁，连通所述工作腔，所述右侧支管路的另一端连接所述右侧主管路；以及抽真空组件，包括过滤桶以及真空泵，所述过滤桶垂直于所述工作室的轴线设置，所述真空泵连通所述过滤桶的内腔设置，且设置在所述过滤桶远离所述工作室的一侧，所述右侧主管路远离所述右侧支管路的一端连通所述过滤桶的内腔，所述左侧主管路远离所述左侧支管路的一端连通所述过滤桶的内腔；所述左侧抽气管路与所述右侧抽气管路相对于所述工作室的轴线对称设置。2.如权利要求1所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，所述左侧支管路设置有多组，所述右侧支管路设置有多组。3.如权利要求2所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，所述左侧主管路与所述左侧支管路之间设置有左侧分管路，所述右侧主管路与所述右侧支管路之间设置有右侧分管路。4.如权利要求3所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，所述左侧分管路的两端为盲端，所述右侧分管路的两端为盲端。5.如权利要求4所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，所述左侧主管路设置在所述左侧分管路的左侧，所述左侧支管路垂直设置在所述左侧分管路的右侧，所述右侧主管路设置在所述右侧分管路的右侧，所述右侧支管路垂直设置在所述右侧分管路的左侧。6.如权利要求5所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，多组所述左侧支管路对称的设置在所述左侧分管路上，多组所述右侧支管路对称的设置在所述右侧分管路上。7.如权利要求6所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，所述左侧支管路的间距相等，所述右侧支管路的间距相等。8.如权利要求7所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，所述左侧主管路连接所述左侧分管路的端部设置在所述左侧分管路的轴线上，所述右侧主管路连接所述右侧分管路的端部设置在所述右侧分管路的轴线上。9.如权利要求8所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，所述左侧支管路设置有四组，所述右侧支管路设置有四组。10.如权利要求1所述的一种板式镀膜工艺腔室，其特征在于，所述过滤桶的轴线与所述工作室的轴线重合。

技术总结
本实用新型提供了一种板式镀膜工艺腔室，属于光伏生产设备技术领域。本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室，包括工作室、左侧抽气管路、右侧抽气管路及抽真空组件，工作室内设置有工作腔；左侧抽气管路包括左侧主管路及左侧支管路，左侧支管路一端连通工作腔，另一端连接左侧主管路；右侧抽气管路包括右侧主管路及右侧支管路，右侧支管路一端连通工作腔，另一端连接右侧主管路；抽真空组件包括过滤桶及真空泵，真空泵连通过滤桶的内腔设置，右侧主管路连通过滤桶的内腔，左侧主管路连通过滤桶的内腔；左侧抽气管路与右侧抽气管路相对于工作室的轴线对称设置。本实用新型提供的一种板式镀膜工艺腔室，提高气流分布的均匀性，提升产品合格率。产品合格率。产品合格率。


技术研发人员：魏双双 王通 焦子宁
受保护的技术使用者：英利能源发展（保定）有限公司
技术研发日：2023.01.31
技术公布日：2023/9/1