一种电解铜箔阴极辊抛光工艺的制作方法

1.本发明涉及电解铜箔生产制造技术领域，具体涉及一种电解铜箔阴极辊抛光工艺。


背景技术：

2.铜箔是pcb行业和新能源行业的主要原料之一，高性能的电解铜箔是一种缺陷少、表面峰值均匀的铜箔。阴极辊是电解铜箔生产的关键设备。
3.电解铜箔生产过程中，阴极辊表面的机械腐蚀和电化学腐蚀是伴随着生产开始而开始的，是与生产同步的。生产时间越长，腐蚀越严重，铜箔光面随着阴极辊表面的腐蚀而不断变化。因此阴极辊使用一殷时间以后就必须进行抛光，将阴极辊表面因腐蚀而生成的银灰色氧化膜去除，恢复阴极辊表面平整光滑的银白色纯钛氧化膜晶体。
4.因此，需要一套成熟稳定的抛光工艺对电解铜箔生产具有非常重要的意义。


技术实现要素：

5.本发明的目的在于，提供一种电解铜箔阴极辊抛光工艺。
6.为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：
7.一种电解铜箔阴极辊抛光工艺，包括以下步骤：
8.(1)冲洗处理：使用处理液将阴极辊表面的结晶残留物冲洗去除；
9.(2)研磨处理：阴极辊表面结晶残留物冲洗完成后，对阴极辊进行研磨；
10.(3)抛光处理：阴极辊研磨完成后，对阴极辊进行抛光。
11.本技术方案进一步的，使用处理液对阴极辊表面的结晶残留物冲洗，进液阀门压力为0.1-0.5mpa，阴极辊运行带速为3-15mm/min。处理液为5％的稀盐酸和0.5g/l的表面活性剂十二烷基磺酸钠混合制备而成，用去离子水配合调制成比例浓度。
12.本技术方案进一步的，对阴极辊研磨处理，采用颗粒度100-800目的砥石进行分步研磨；将待研磨的阴极辊放置在转动架子上，启动转动架，转速10-15r/min，依序采用颗粒100目-800目的砥石平行砂轮片对阴极辊进行研磨，平行砂轮片的转速为2000-3600r/min；开启水泵将水喷淋至砂轮片外表面，水流量为1.8-2.5m3/h；每次砂轮片进刀0.1mm，在研磨过程中，平行车床同时沿阴极辊轴向移动，从阴极辊一端移动至另一端，移动速度为4.2-5.5cm/min，当达到阴极辊另一端，复位回到研磨起点，此为一圈，每种砂轮研磨5-10圈，最终保证阴极辊面粗糙度ra≤0.3。
13.本技术方案进一步的，将阴极辊转动设置为单辊转，调节阴极辊转速为2.5-3.0m/min，抛光转速不大于300rpm，抛光摇摆不大于120rpm，抛光力度为20％-50％，抛光圈数为2-4圈。
14.本发明有益效果：通过本发明阴极阴极辊抛光工艺，使阴极辊在电镀过程中生产的电解铜箔具有缺陷少、细晶粒、低表面粗化度、高强度、高延展性、更加薄的、纯度更高、信号传递更快、更准的特点，更加适用于高精细电解铜箔的制造。
具体实施方式
15.下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
16.本实施例提供一种电解铜箔阴极辊抛光工艺，包括以下步骤：
17.(1)冲洗处理：使用处理液将阴极辊表面的结晶残留物冲洗去除；
18.(2)研磨处理：阴极辊表面结晶残留物冲洗完成后，对阴极辊进行研磨；
19.(3)抛光处理：阴极辊研磨完成后，对阴极辊进行抛光。
20.本技术方案进一步的，使用处理液对阴极辊表面的结晶残留物冲洗，进液阀门压力为0.1-0.5mpa，阴极辊运行带速为3-15mm/min。处理液为5％的稀盐酸和0.5g/l的表面活性剂十二烷基磺酸钠混合制备而成，用去离子水配合调制成比例浓度。
21.本技术方案进一步的，对阴极辊研磨处理，采用颗粒度100-800目的砥石进行分步研磨；将待研磨的阴极辊放置在转动架子上，启动转动架，转速10-15r/min，依序采用颗粒100目-800目的砥石平行砂轮片对阴极辊进行研磨，平行砂轮片的转速为2000-3600r/min；开启水泵将水喷淋至砂轮片外表面，水流量为1.8-2.5m3/h；每次砂轮片进刀0.1mm，在研磨过程中，平行车床同时沿阴极辊轴向移动，从阴极辊一端移动至另一端，移动速度为4.2-5.5cm/min，当达到阴极辊另一端，复位回到研磨起点，此为一圈，每种砂轮研磨5-10圈，最终保证阴极辊面粗糙度ra≤0.3。
22.本技术方案进一步的，将阴极辊转动设置为单辊转，调节阴极辊转速为2.5-3.0m/min，抛光转速不大于300rpm，抛光摇摆不大于120rpm，抛光力度为20％-50％，抛光圈数为2-4圈。
23.通过本阴极阴极辊抛光工艺，使阴极辊在电镀过程中生产的电解铜箔具有缺陷少、细晶粒、低表面粗化度、高强度、高延展性、更加薄的、纯度更高、信号传递更快、更准的特点，更加适用于高精细电解铜箔的制造。
24.以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。故凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明之形状、构造及原理所作的等效变化，均应涵盖于本发明的保护范围内。


技术特征：
1.一种电解铜箔阴极辊抛光工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)冲洗处理：使用处理液将阴极辊表面的结晶残留物冲洗去除；(2)研磨处理：阴极辊表面结晶残留物冲洗完成后，对阴极辊进行研磨；(3)抛光处理：阴极辊研磨完成后，对阴极辊进行抛光。2.根据权利要求1所述的电解铜箔阴极辊抛光工艺，其特征在于，所述步骤(1)中的处理液为5％的稀盐酸和0.5g/l的表面活性剂十二烷基磺酸钠混合制备而成。3.根据权利要求1或2所述的电解铜箔阴极辊抛光工艺，其特征在于，所述步骤(1)具体包括以下：使用处理液对阴极辊表面的结晶残留物冲洗，进液阀门压力为0.1-0.5mpa，阴极辊运行带速为3-15mm/min。4.根据权利要求1所述的电解铜箔阴极辊抛光工艺，其特征在于，所述步骤(2)具体包括以下：对阴极辊研磨处理，采用颗粒度100-800目的砥石进行分步研磨。5.根据权利要求4所述的电解铜箔阴极辊抛光工艺，其特征在于，所述分步研磨，具体包括以下：将待研磨的阴极辊放置在转动架子上，启动转动架，转速10-15r/min，依序采用颗粒100目-800目的砥石平行砂轮片对阴极辊进行研磨，平行砂轮片的转速为2000-3600r/min；开启水泵将水喷淋至砂轮片外表面，水流量为1.8-2.5m3/h；每次砂轮片进刀0.1mm，在研磨过程中，平行车床同时沿阴极辊轴向移动，从阴极辊一端移动至另一端，移动速度为4.2-5.5cm/min，当达到阴极辊另一端，复位回到研磨起点，此为一圈，每种砂轮研磨5-10圈，最终保证阴极辊面粗糙度ra≤0.3。6.根据权利要求1所述的电解铜箔阴极辊抛光工艺，其特征在于，所述步骤(3)具体包括以下：将阴极辊转动设置为单辊转，调节阴极辊转速为2.5-3.0m/min，抛光转速不大于300rpm，抛光摇摆不大于120rpm，抛光力度为20％-50％，抛光圈数为2-4圈。

技术总结
本发明公开了一种电解铜箔阴极辊抛光工艺，包括以下步骤：(1)冲洗处理：将阴极辊表面的结晶残留物冲洗去除；(2)研磨处理：阴极辊表面结晶残留物冲洗完成后，对阴极辊进行研磨；(3)抛光处理：阴极辊研磨完成后，对阴极辊进行抛光。通过本发明阴极阴极辊抛光工艺，使阴极辊在电镀过程中生产的电解铜箔具有缺陷少、细晶粒、低表面粗化度、高强度、高延展性、更加薄的、纯度更高、信号传递更快、更准的特点，更加适用于高精细电解铜箔的制造。适用于高精细电解铜箔的制造。


技术研发人员：陈韶明 施毓计
受保护的技术使用者：安徽华威铜箔科技有限公司
技术研发日：2023.07.17
技术公布日：2023/9/20