一种设计版图修改方法及系统与流程

一种设计版图修改方法及系统
【技术领域】
1.本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种设计版图修改方法及系统。


背景技术：

2.光刻工艺进程质量直接影响着芯片器件的实际成品率、可靠性、器件性能、以及使用寿命等参数指标。通常芯片制造厂商会提供一系列设计规则给芯片设计过程，要求芯片设计结果不违背这些设计规则。设计规则是简单的规则集合，芯片设计版图中会存在一些图形，对其进行掩模优化时，其显影获得的轮廓容易出现断开或连接的现象，无法获得理想的轮廓。因此将这种设计图形又称为存在违例图形。
3.在芯片设计中存在违例图形时，需对这部分图形进行修改，使得修改后的设计图形能通过掩模优化获取符合制造要求的结果。通常做法是工程师依赖经验对存在违例图形进行手动调整，再对其进行掩模优化并验证，该过程通常会反复好几轮迭代直至最后修改结果符合要求，繁复且非常依赖于人的经验。此外芯片设计具有多层连接关系，在对某层版图进行修改的同时，不应破坏其与其他版图层之间的连接关系，这无疑又增加了该工作的难度。另外当芯片设计中存在大量光刻违例图形时，对其分别进行手动修改是项非常耗时的工作。


技术实现要素：

4.为了解决现有技术中对存在违例图形进行修复时耗费大量时间的问题，本发明提供一种设计版图修改方法及系统。
5.本发明为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种设计版图修改方法，包括以下步骤：
6.获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓，判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；
7.若是，则获取违例的类型以及违例的位置；
8.基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量；
9.基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，若是，获得移动后的设计图形；
10.将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。
11.优选地，违例的类型包括断开违例和连接违例，判断显影轮廓是否存在违例具体包括：
12.获取所有显影轮廓的轮廓信息
13.若同一显影轮廓的轮廓上两点的距离小于预设断开距离则判定两点之间存在断开违例；
14.若其中一显影轮廓的轮廓上其中一点与其相邻显影轮廓的轮廓上其中一点的距
离小于预设连接距离则判定两点之间存在连接违例。
15.优选地，获取显影轮廓上存在断开违例的两个点的坐标，并分别将两个点的坐标作为违例位置；
16.或，获取存在连接违例的显影轮廓上一点的坐标与其相邻显影轮廓上一点坐标，并分别将两个点的坐标作为违例位置；
17.获取两个点对应的初始设计图形的两条边的位置，以将两条边作为违例所对应的初始设计图形的边。
18.优选地，所述预设算法为代价函数公式：
19.公式一：
[0020][0021]
公式二：
[0022][0023]
公式三：
[0024][0025]
其中，公式一中，costcv为代价函数，cv为移动量，pinch_correction(p)为第p个断开违例对应的代价项，bridge_correction(b)为第b个连接违例对应的代价项；
[0026]
公式二中，pinch_violation(p)为断开违例的长度与预设断开距离的偏差，p1和p2为断开违例的违例位置所对应的初始设计图形的边；
[0027]
公式三中，bridge_violation(p)为连接违例的长度与预设连接距离的偏差，b1和b2为连接违例的违例位置所对应的初始设计图形的边。
[0028]
优选地，基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：
[0029]
所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设限制距离；
[0030]
获取设计版图上辅助图形的轮廓信息；
[0031]
获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；
[0032]
基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后的预测位置信息；
[0033]
基于预测位置信息判断移动后的边和邻近辅助图形之间的距离是否不小于预设限制距离；
[0034]
若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。
[0035]
优选地，所述移动方向包括违例所对应的初始设计图形的边朝靠近辅助图形一侧的方向进行移动，或朝远离辅助图形一侧的方向进行移动。
[0036]
优选地，基于预设限制距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：
[0037]
所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设宽度距离；
[0038]
获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；
[0039]
基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后形成的预测设计图形的轮廓信息；
[0040]
判断预测设计图形内相距最近的两条边之间的距离是否不小于预设宽度距离；
[0041]
若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。
[0042]
优选地，基于预设限制距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：
[0043]
所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设空间距离；
[0044]
获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；
[0045]
基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后形成的预测设计图形的轮廓信息；
[0046]
判断相邻预测设计图形之间的距离是否不小于预设空间距离；
[0047]
若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。
[0048]
优选地，将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理具体包括：
[0049]
将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行预设次数的迭代处理；
[0050]
若迭代过程中的设计图形所对应的显影轮廓不存在违例，则直接输出最终设计图形；
[0051]
若于预设次数的迭代过程中的初始迭代设计图形所对应的显影轮廓仍存在违例，则迭代预设次数后输出最终设计图形，并将仍存在违例的设计图形进行删除或重新设计。
[0052]
本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种设计版图修改系统，应用于上述的设计版图修改方法，所述系统包括：
[0053]
识别模块：用于识别设计版图中的初始设计图形；
[0054]
分析模块：用于判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；
[0055]
处理模块：用于判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动；
[0056]
循环模块：用于将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形。
[0057]
与现有技术相比，本发明所提供的一种设计版图修改方法及系统，具有如下的有益效果：
[0058]
本发明实施例提供的一种设计版图修改方法，包括以下步骤：获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓，判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；若是，则获取违例的类型以及违例的位置；基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量；基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，若是，获得移动后的设计图形；将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。本实施例中的无需依靠人工经验进行反复手动修改，通过全自动即可完成对设计版图的修改。解决了现有技术中对存在违例图形进行修复时耗费大量时间的问题。
【附图说明】
[0059]
图1是设计图形所形成的显影轮廓出现违例示意图。
[0060]
图2是本发明第一实施例提供的一种设计版图修改方法流程示意图。
[0061]
图3a是本发明第一实施例提供的一种设计版图中初始设计图形所形成的显影轮廓中存在断开违例的示意图。
[0062]
图3b是本发明第一实施例提供的一种设计版图中初始设计图形与其相邻设计图形所形成的显影轮廓中存在连接违例的示意图。
[0063]
图4是本发明第一实施例提供的判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动一种实施方式的流程示意图。
[0064]
图5a是包围图形对移动量的影响示意图。
[0065]
图5b是本发明中补偿图形对移动量的限制影响示意图。
[0066]
图6是本发明第一实施例提供的判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动另一种实施方式的流程示意图。
[0067]
图7a是本发明中设计图形自身尺寸对移动量的限制影响示意图。
[0068]
图7b是本发明中相邻设计图形之间的尺寸对移动量的限制影响示意图。
[0069]
图8是本发明第一实施例提供的判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动又一种实施方式的流程示意图。
[0070]
图9是本发明第二实施例提供的一种设计版图修改系统结构示意图。
[0071]
附图标识说明：
[0072]
1、设计版图修改系统；
[0073]
11、识别模块；12、分析模块；13、处理模块；14、循环模块。
【具体实施方式】
[0074]
为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0075]
在本发明所提供的实施例中，应理解，“与a对应的b”表示b与a相关联，根据a可以确定b。但还应理解，根据a确定b并不意味着仅仅根据a确定b，还可以根据a和/或其他信息确定b。
[0076]
应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于可选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必需的。
[0077]
在本发明的各种实施例中，应理解，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的必然先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本发明实施例的实施过程构成任何限定。
[0078]
在本发明的附图中的流程图和框图，图示了按照本技术各种实施例的系统、方法
和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，该模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现方案中，方框中所标注的功能也可以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行的执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，在此基于涉及的功能而确定。需要特别注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
[0079]
集成电路制造是将芯片设计版图转移到硅片中的一系列复杂过程，其中最为关键的一步是光刻，即利用光刻机对掩模板曝光成像在光刻胶中形成与芯片设计一致的图形。随着集成电路制造工艺节点的降低，电路尺寸远小于曝光波长，光的衍射效应不可忽略。直接使用芯片设计版图进行曝光，所得到的图形会与设计版图存在较大的偏差。需要对设计版图进行光学临近效应修正(也即通常所称的掩模优化)，再利用修正后的掩模结果制造掩模板并用于光刻曝光成像。
[0080]
掩模优化一方面通过对掩模的修正补偿了光学衍射效应引起的成像偏差，同时还提升了制造工艺窗口，也即在足够大的工艺条件偏移下使成像结果与设计版图保持一致。然而掩模优化本质上是在有限的解空间里寻找局部最优解的过程，而该解空间根本上是由芯片设计结果所决定的。因此，芯片制造厂商会提供一系列设计规则给芯片设计过程，要求芯片设计结果不违背这些设计规则。然而随着芯片集成度的不断提高，满足所有设计规则非常困难，芯片设计结果中通常会存在对设计规则违背的图形。此外，设计规则是简单的规则集合，芯片设计版图中会存在一些设计图形，当其进行光刻掩模优化时，其成像后所形成的显影轮廓会出现自身断开的问题，或与其相邻设计图形所成的显影轮廓相连结的问题。这类问题统称为违例，而将这类无法获取符合制造要求掩模优化结果的设计图形出现违例的现象称为违例现象，将这类设计图形称为光刻违例图形。
[0081]
示例性地，请参阅图1，图1展示了设计图形所形成的显影轮廓出现违例示意图。其中，由于设计图形1p1和设计图形1p2过近，从而出现设计图形1p1所形成的显影轮廓1i1和设计图形1p2所形成的显影轮廓1i2出现连结(请参阅虚线框图部分)，产生违例。
[0082]
在芯片设计中存在光刻违例图形时，需对这部分图形进行修改，使得修改后的设计版图能通过掩模优化获取符合制造要求的结果。通常做法是工程师依赖经验对光刻违例图形进行手动调整，再对其进行掩模优化并验证，该过程通常会反复好几轮迭代直至最后修改结果符合要求，繁复且非常依赖于人的经验。此外芯片设计具有多层连接关系，在对某层版图进行修改的同时，不应破坏其与其他版图层之间的连接关系，这无疑又增加了该工作的难度。另外当芯片设计中存在大量光刻违例图形时，对其分别进行手动修改是项非常耗时的工作。
[0083]
请参阅图2，本发明第一实施例提供一种设计版图修改方法，具体包括以下步骤：
[0084]
s1，获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓，判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；
[0085]
s2，若是，则获取违例的类型以及违例的位置；
[0086]
s3，若否，则将初始设计图形作为最终设计图形输出以完成对设计版图的修改。
[0087]
s4，基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量；
[0088]
s5，基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动；
[0089]
s6，若是，获得移动后的设计图形；
[0090]
s7，若否，则判定该违例无法修改并输出循环指令，基于指令循环继续判断其他显影轮廓是否存在违例；
[0091]
s8，将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。
[0092]
可以理解地，本实施例中首先对设计版图进行识别，并获取到设计版图中所存在的初始设计图形以及该设计图形所对应的掩膜图像，若掩膜图像中不存在违例，则表明初始设计图形在光刻优化为显影轮廓后不会出现违例的现象，即可以直接将初始设计图形作为最终初始设计图形进行输出以完成对设计版图的修改。而若掩膜图像中存在违例，则获取到违例类型以及违例的位置。具体地，显影轮廓上违例所处的位置与其初始设计图形的边相对应。因此，若想消除违例，则必须将违例所对应的初始设计图形的边进行移动，其中初始设计图形的边指的是初始设计图形的外轮廓，而显影轮廓上违例的位置与其对应的设计图形的边的位置存在对应关系，因此在获得违例的位置同时即可一同获得违例所对应的初始设计图形的边的位置，进而可以对设计图形上的边针对性地进行移动。另外，移动设计图形的边可以是移动设计图形中的某一条边，也可以是移动设计图形的所有边。移动设计图形的边后，其移动后的设计图形经过掩模优化后所形成的显影轮廓的轮廓也对应发生变换，以解决违例现象。具体地，基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量。需要说明的是，移动量表示的是如何对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，其包括移动方向和移动距离。
[0093]
进一步地，基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。应理解，在设计版图中存在大量的初始设计图形，若获得移动量后直接基于移动量对某违例所对应的初始设计图形中的边进行移动，虽然能解决该违例所对应的初始设计图形的违例现象，但是其移动量缺乏一个限制条件，可能会出现边移动过多或移动过少的现象，其移动造成的结果是对该初始设计图形进行修改时，会引起其他初始设计图形又出现违例现象。
[0094]
优选地，基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，若否，则判定该违例无法修改并输出循环指令，基于循环指令继续判断其他显影轮廓是否存在违例，以重新开始上述步骤s1的过程。应理解，将设计版图中存在违例现象都得到解决是理想状况，实际过程中会出现的问题是某些初始设计图形所产生的违例现象无法通过移动该初始设计图形的边来解决，此时可以将违例无法修改所对应的初始设计图形进行删除或者针对该初始设计图形进行重新设计，以使该初始设计图形不存在违例现象，并生成循环指令，基于循环指令可以快速对设计版图中的其他初始设计图形进行修改以完成对设计版图的修改。反之，若是，则是，则可以基于移动量对设计图形进行移动以获得移动后的设计图形。
[0095]
进一步地，上述从基于预设规则判断显影轮廓是否存在违例到基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动可视为一个迭代过程。在单独的一个迭代过程中，设
计版图中多个初始设计图形可以同时进行处理并进行修改，但其可能会出现的情况是，经过一个迭代过程后设计版图中仍然会出现初始设计图形违例的现象，因此通过将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以使得设计版图中的违例现象得到消除并获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。应理解，本实施例中的无需依靠人工经验进行反复手动修改，通过全自动即可完成对设计版图的修改。解决了现有技术中对存在违例图形进行修复时耗费大量时间的问题。
[0096]
进一步地，请结合图2，图3a和图3b，违例的类型包括断开违例和连接违例，上述步骤s1中，基于预设规则判断显影轮廓是否存在违例具体包括：
[0097]
s11，获取所有显影轮廓的轮廓信息；
[0098]
s12，若同一显影轮廓的轮廓上两点的距离小于预设断开距离则判定两点之间存在断开违例；
[0099]
s13，若其中一显影轮廓的轮廓上其中一点与其相邻显影轮廓的轮廓上其中一点的距离小于预设连接距离则判定两点之间存在连接违例。
[0100]
应理解，图3a展示了初始设计图形所形成的显影轮廓中存在断开违例的示意图。其中，由于初始设计图形3p1中存在边与边的距离过近的问题，导致的结果是设计图形3p1经过掩模优化后所形成的显影轮廓3i1的轮廓近似于断开成两个显影轮廓，该违例为断开违例。进一步地，图3b展示了初始设计图形与其相邻设计图形所形成的显影轮廓中存在连接违例的示意图。其中，由于初始设计图形3p2的边和初始设计图形3p3的边的距离过近的问题，导致的结果是设计图形3p2和设计图形3p3，经过掩模优化后所形成的显影轮廓3i2和显影轮廓3i3的轮廓近似于连接成一个显影轮廓，该违例为连接违例。
[0101]
进一步地，请参阅图2、和图3b，在上述步骤s2中，获取违例的类型以及违例的位置具体包括：
[0102]
获取显影轮廓上存在断开违例的两个点的坐标，并分别将两个点的坐标作为违例位置；
[0103]
或，获取存在连接违例的显影轮廓上一点的坐标与其相邻显影轮廓上一点坐标，并分别将两个点的坐标作为违例位置；
[0104]
获取两个点对应的初始设计图形的两条边的位置，以将两条边作为违例所对应的初始设计图形的边。
[0105]
示例性地，请一并参阅图3a，初始设计图形3p1所形成的显影轮廓3i1中存在两点3a和3b，其3a至3b的距离小于预设断开距离，则表明显影轮廓3i1上的3a和3b上存在断开缺陷。此时将两点3a和3b作为违例位置。请一并参阅图3b，初始设计图形3p2和初始设计图形3p3所形成的显影轮廓3i2和显影轮廓3i3中存在两点3c和3d，其3c至3d的距离小于预设连接距离，则表明显影轮廓3i2和显影轮廓3i3上的3c和3d上存在连接缺陷。此时将两点3c和3d作为违例位置。需要说明的是，获取到违例的位置的同时可获取到违例的类型。另外，违例的位置与其对应的初始设计图形的边一一对应例如，点3a对应的是初始设计图形3p1的边3a'，获取到点3a的坐标，即可获取到边3a'的位置信息，点3b对应的是初始设计图形3p1的边3b'，获取到点3b的坐标，即可获取到边3b'的位置信息，以使后续基于违例的位置即可针对性地对初始设计图形的边进行移动以解除违例现象。
[0106]
进一步地，上述步骤s4中基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动
量，具体地，预设算法为代价函数公式：
[0107]
公式一：
[0108][0109]
公式二：
[0110][0111]
公式三：
[0112][0113]
其中，公式一中，costcv为代价函数，cv为移动量，pinch_correction(p)为第p个断开违例对应的代价项，bridge_correction(b)为第b个连接违例对应的代价项；
[0114]
公式二中，pinch_violation(p)为断开违例的长度与预设断开距离的偏差，p1和p2为断开违例的违例位置所对应的初始设计图形的边；
[0115]
公式三中，bridge_violation(p)为连接违例的长度与预设连接距离的偏差，b1和b2为连接违例的违例位置所对应的初始设计图形的边。
[0116]
其中，公式一和公式二应用于显影轮廓内或显影轮廓之间存在断开违例的情况，公式一和公式三应用于显影轮廓内或显影轮廓之间存在连接违例的情况。
[0117]
可以理解地，基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量。具体地，当获得移动量后，即可针对性地对初始设计图形的边进行移动以使违例现象得到消除。移动量包括移动方向和移动距离，移动方向指的是违例位置所对应的初始设计图形的边所具体移动的方向。移动距离指的是例位置所对应的初始设计图形的边朝移动方向所移动的具体长度。
[0118]
作为一种实施的可能，请结合图4、图5a和图5b，在所述基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：
[0119]
所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设限制距离；
[0120]
s511，获取设计版图上辅助图形的轮廓信息；
[0121]
s512，获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；
[0122]
s513，基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后的预测位置信息；
[0123]
s514，基于预测位置信息判断移动后的边和邻近辅助图形之间的距离是否不小于预设限制距离；
[0124]
s6，若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动；
[0125]
s8，若否，则判定该违例无法修改。
[0126]
应理解，设计版图上除了存在大量的设计图形外，还存在辅助图形，辅助图形被用于是帮助制造设计图形的辅助工具。本实施方式中可以利用设计版图上存在的辅助图形，来设置预设限制距离，以针对性地对移动量设置规则，进而使得违例所对应的初始设计图
形的边基于移动量进行移动后除了消除自身违例，还不会对其他初始设计图形产生影响。
[0127]
示例性地，辅助图形包括包围图形和补偿图形，图5a展示了包围图形对移动量的限制影响。初始设计图形5p1内部设置有包围图形5p2，其中初始设计图形5p1的边至包围图形5p2的边的距离为distn，其中n表示初始设计图形5p1的第n条边。所述移动方向包括违例所对应的初始设计图形的边朝靠近辅助图形一侧的方向进行移动，或朝远离辅助图形一侧的方向进行移动。界定朝靠近辅助图形移动的方向为负方向，朝远离辅助图形移动的方向为正方向，即若初始设计图形的边朝靠近包围图形移动的移动距离皆为负数，反之皆为正数。若获得到违例所处的边为i边，则获取i边的位置信息以及移动量。若i边的移动方向为靠近包围图形的方向(负方向)，移动距离为-cvi，则可基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后获得的i'边的预测位置信息，并且基于预测位置信息获得i'边和包围图形之间距离dist
i-cvi是否大于预设限制距离d，若dist
i-cvi大于等于预设限制距离d，则可以基于移动量对i边朝靠近包围图形的方向移动cvi。反之，若dist
i-cvi小于预设限制距离d，则判定该违例无法修改，只能改违例所对应的设计图形进行删除或者对该设计图形进行重新设计。
[0128]
进一步地，图5b展示了补偿图形对移动量的限制影响。同理，初始设计图形5p3的边至补偿图形5p4的边的距离为dist
t
。若获得到违例所处的边为t边，则获取t边的位置信息以及移动量。若t边的移动方向为靠近补偿图形的方向(负方向)，移动距离为-cv
t
，则可基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后获得的t'边的预测位置信息，并且基于预测位置信息获得t'边和包围图形之间距离dist
t-cv
t
是否大于预设限制距离d，若dist
t-cv
t
大于等于预设限制距离d，则可以基于移动量对t边朝靠近补偿图形的方向移动cv
t
。反之，若dist
t-cv
t
小于预设限制距离d，则判定该违例无法修改，只能改违例所对应的设计图形进行删除或者对该设计图形进行重新设计。
[0129]
需要说明的是，预设限制距离的具体值可根据用户的实际需求而确定。
[0130]
作为另一种可能的实施方式，请结合图6和图7a，基于预设限制距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：
[0131]
所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设宽度距离；
[0132]
s521，获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；
[0133]
s522，基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后形成的预测设计图形的轮廓信息；
[0134]
s523，判断预测设计图形内相距最近的两条边之间的距离是否不小于预设宽度距离；
[0135]
s6，若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动；
[0136]
s8，若否，则判定该违例无法修改。
[0137]
可以理解地，除了通过辅助图形对移动量的设置规则，还可以根据设计图形自身的尺寸限制对移动量设置规则。示例性地，图7a展示了一种设计图形自身尺寸对移动量的限制影响示意图。界定朝初始设计图形内部移动的方向为负方向，朝初始设计图形外移动的方向为正方向。初始设计图形7p0中的i边和j边的距离为cd，基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测初始设计图形7p0中的i边和j边，朝图形外(正方向)分别移动距离cvi和cvj移动获得预测设计图形7p0'。获取预测设计图形7p0'的轮廓信息，若预测设计图形7p0'
的最短边的距离cd+cvi+cvj大于等于预设宽度距离min_width，则表明可以对初始设计图形7p0中的i边和j边朝图形外进行移动。反之，则判定该违例无法修改，只能将违例所对应的设计图形进行删除或者对该设计图形进行重新设计。
[0138]
作为又一种可能的实施方式，请结合图8和图7b，基于预设限制距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：
[0139]
所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设空间距离；
[0140]
s531，获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；
[0141]
s532，基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后形成的预测设计图形的轮廓信息；
[0142]
s533，判断相邻预测设计图形之间的距离是否不小于预设空间距离；
[0143]
s6，若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动；
[0144]
s8，若否，则判定该违例无法修改。
[0145]
可以理解地，本实施方式中还可以根据相邻设计图形之间的尺寸限制对移动量设置规则。示例性地，图7b展示了一种相邻设计图形之间的尺寸对移动量的限制影响示意图。界定朝初始设计图形外部移动的方向为负方向，朝初始设计图形内部移动的方向为正方向。初始设计图形7p1的j边至初始设计图形7p2中的s边的距离为space，基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测初始设计图形7p1中的j边朝图形外移动cvj获得预测设计图形7p1'，和初始设计图形7p2中的s边朝图形外移动cvs获得预测设计图形7p2'。获取预测设计图形7p1'和预测设计图形7p2'的轮廓信息，若预测设计图形7p1'和预测设计图形7p2'的距离大于等于预设空间距离min_space，则表明可以对初始设计图形7p1中的j边和初始设计图形7p2中的s边进行移动。反之，则判定该违例无法修改，只能将违例所对应的设计图形进行删除或者对该设计图形进行重新设计。
[0146]
需说明的是，上述不同的实施例中，可以分别通过辅助图形、设计图形自身的尺寸以及相邻设计图形之间的尺寸来针对性地对移动量设置规则，使得移动量可以基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。在保证了对设计版图修改的精确度下，使得设计版图能够自动进行修正，极大地节省了时间，进而提升了修改效率。另外，设计版图中存在着无法通过移动初始设计图形来消除违例的情况，应对该情况，现有技术中工程师往往无法找到造成上述情况的违例的具体位置，导致的结构是工程师在手动修复违例时陷入了一个修复循环，往往耗费大量的时间仍然无法对设计版图中的违例现象进行修复。本实施例中若基于预设距离判定移动量无法对违例进行修改，也可以将无法修改的违例进行归类，并针对性地对上述无法修改的违例所对应的初始设计图形进行删除或者进行重新设计。避免出现现有技术中工程师进行重复修复的问题。
[0147]
进一步地，上述步骤s7中，将移动后的设计图形作为初始设计图形进行迭代处理具体包括：
[0148]
s71，将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行预设次数的迭代处理；
[0149]
s72，若迭代过程中的初始迭代设计图形所对应的显影轮廓不存在违例，则直接输出最终设计图形；
[0150]
s73，若于预设次数的迭代过程中的初始迭代设计图形所对应的显影轮廓仍存在违例，则迭代预设次数后输出最终设计图形，并将仍存在违例的设计图形进行删除或重新
设计。
[0151]
具体地，用户可以自行设置迭代的次数，违例保证修改效率，例如设置迭代的次数为5次，若在迭代过程中，于5次内迭代中的设计图形所对应的显影轮廓不存在违例，则可以直接输出最终设计图形。而若迭代5次后设计图形所对应的显影轮廓仍存在违例，则将迭代第五次后的设计图形输出最终设计图形。应理解，设计版图中会存在一些违例，无法通过移动设计图形的边的方法进行消除，则为了保证效率，若于预设次数外设计图形所对应的显影轮廓仍存在违例，则直接将设计图形输出。针对无法消除的违例所对应的设计图形，可以针对性地删除或重新设计。
[0152]
请结合图2和图9，本发明第二实施例还提供一种设计版图修改系统1，应用于上述的设计版图修改方法，所述系统包括：
[0153]
识别模块11：用于识别设计版图中的初始设计图形；
[0154]
分析模块12：用于判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；
[0155]
处理模块13：用于判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动；
[0156]
循环模块14：用于将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形。
[0157]
本发明实施例提供的设计版图修改系统1，具有与上述一种设计版图修改方法相同的有益效果，在此不做赘述。
[0158]
以上对本发明实施例公开的一种设计版图修改方法及系统进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制，凡在本发明的原则之内所做的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围。

技术特征：
1.一种设计版图修改方法，其特征在于：包括以下步骤：获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓，判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；若是，则获取违例的类型以及违例的位置；基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量；基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，若是，获得移动后的设计图形；将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。2.如权利要求1所述的设计版图修改方法，其特征在于：违例的类型包括断开违例和连接违例，判断显影轮廓是否存在违例具体包括：获取所有显影轮廓的轮廓信息若同一显影轮廓的轮廓上两点的距离小于预设断开距离则判定两点之间存在断开违例；若其中一显影轮廓的轮廓上其中一点与其相邻显影轮廓的轮廓上其中一点的距离小于预设连接距离则判定两点之间存在连接违例。3.如权利要求2所述的设计版图修改方法，其特征在于：获取违例的类型以及违例的位置包括：获取显影轮廓上存在断开违例的两个点的坐标，并分别将两个点的坐标作为违例位置；或，获取存在连接违例的显影轮廓上一点的坐标与其相邻显影轮廓上一点坐标，并分别将两个点的坐标作为违例位置；获取两个点对应的初始设计图形的两条边的位置，以将两条边作为违例所对应的初始设计图形的边。4.如权利要求2所述的设计版图修改方法，其特征在于：所述预设算法为代价函数公式：公式一：公式一：公式二：公式三：其中，公式一中，costcv为代价函数，cv为移动量，pin ch_c o r re ctio n(p)为第p
个断开违例对应的代价项，b rid g e_c o r re c tio n(b)为第b个连接违例对应的代价项；公式二中，pinch_violation(p)为断开违例的长度与预设断开距离的偏差，p 1和p 2为断开违例的违例位置所对应的初始设计图形的边；公式三中，bridge_violation(p)为连接违例的长度与预设连接距离的偏差，b 1和b 2为连接违例的违例位置所对应的初始设计图形的边。5.如权利要求1所述的设计版图修改方法，其特征在于：基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设限制距离；获取设计版图上辅助图形的轮廓信息；获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后的预测位置信息；基于预测位置信息判断移动后的边和邻近辅助图形之间的距离是否不小于预设限制距离；若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。6.如权利要求5所述的设计版图修改方法，其特征在于：所述移动方向包括违例所对应的初始设计图形的边朝靠近辅助图形一侧的方向进行移动，或朝远离辅助图形一侧的方向进行移动。7.如权利要求1所述的设计版图修改方法，其特征在于：基于预设限制距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设宽度距离；获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后形成的预测设计图形的轮廓信息；判断预测设计图形内相距最近的两条边之间的距离是否不小于预设宽度距离；若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。8.如权利要求1所述的设计版图修改方法，其特征在于：基于预设限制距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动具体包括：所述移动量包括移动方向和移动距离，所述预设距离包括预设空间距离；获取违例所对应的初始设计图形的边的位置信息；基于边的位置信息、移动方向和移动距离预测边移动后形成的预测设计图形的轮廓信息；判断相邻预测设计图形之间的距离是否不小于预设空间距离；若是，则基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动。9.如权利要求1所述的设计版图修改方法，其特征在于：将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理具体包括：将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行预设次数的迭代处理；若迭代过程中的设计图形所对应的显影轮廓不存在违例，则直接输出最终设计图形；若于预设次数的迭代过程中的初始迭代设计图形所对应的显影轮廓仍存在违例，则迭
代预设次数后输出最终设计图形，并将仍存在违例的设计图形进行删除或重新设计。10.一种设计版图修改系统，应用于如权利要求1-9中任意一项所述的设计版图修改方法，其特征在于：所述系统包括：识别模块：用于识别设计版图中的初始设计图形；分析模块：用于判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；处理模块：用于判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动；循环模块：用于将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形。

技术总结
本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种设计版图修改方法及系统。所述方法包括：获得设计版图中初始设计图形所对应的显影轮廓，判断显影轮廓内或显影轮廓之间是否存在违例；若是，则获取违例的类型以及违例的位置；基于违例的位置和违例的类型通过预设算法获得移动量；基于预设距离判断是否基于移动量对违例所对应的初始设计图形的边进行移动，若是，获得移动后的设计图形；将移动后的设计图形作为初始迭代设计图形进行迭代处理以获得最终设计图形以完成对设计版图的修改。本发明还提供一种设计版图修改系统。解决现有技术中对存在违例图形进行修复时耗费大量时间的问题。例图形进行修复时耗费大量时间的问题。例图形进行修复时耗费大量时间的问题。


技术研发人员：丁明 陈板桥 李建华 陈泽阳
受保护的技术使用者：深圳晶源信息技术有限公司
技术研发日：2023.05.23
技术公布日：2023/8/21