显示面板、显示面板的制造方法和显示装置与流程

1.本技术涉及显示设备技术领域，具体涉及一种显示面板、显示面板的制造方法和显示装置。


背景技术：

2.在生产有机发光半导体(organic light-emitting diode，oled)产品中，在有机膜层和电极层的成型过程中，由于在有机膜层和电极层的分界处存在有机膜层爬坡(有机膜层和电极层的分界处存在高度差)，因此在钝化层的成型工艺中，有机膜层侧壁的光刻胶较少，会在后续的钝化层刻蚀中固化无法剥离，导致电极层形成过程中，电极层和有机膜层侧壁粘附性较差电极层刻蚀液钻刻进去，导致电极层断裂，降低显示面板的显示效果。


技术实现要素：

3.本技术实施例提供了一种显示面板、显示面板的制造方法和显示装置，以解决相关技术中由于电极层断裂而降低显示面板的显示效果的问题。
4.为了解决上述技术问题，本技术是这样实现的：
5.第一方面，本技术实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括：
6.多个像素单元，每个所述像素单元包括发光区域和非发光区域，所述发光区包括第一电极；
7.衬底基板、第一金属层、第一绝缘层和电极层，所述第一金属层位于所述第一绝缘层和所述衬底基板之间，所述电极层和所述第一电极搭接，所述第一金属层和所述电极层之间通过第一过孔连接；
8.有机膜层，所述有机膜层设置在所述电极层和第一金属层之间，所述第一过孔孔口的周侧均覆盖有所述有机膜层。
9.可选的，所述显示面板还包括：
10.第二金属层和第二绝缘层，所述第二绝缘层位于所述第一金属层和所述衬底基板之间，所述第一金属层和所述第二金属层通过第二过孔连接。
11.可选的，所述第二过孔开设在所述第二绝缘层上，所述第一金属层具有第一搭接部，所述第一搭接部位于所述第二过孔中，所述第一搭接部和所述第二金属层接触。
12.可选的，所述第二过孔处覆盖有所述有机膜层。
13.可选的，所述第一过孔开设在所述第一绝缘层上；
14.所述电极层具有第二搭接部，所述第二搭接部位于所述第一过孔中，所述第二搭接部和所述第一金属层接触。
15.可选的，所述有机膜层开设第一通孔，所述第一通孔在所述衬底基板上的投影和所述第一过孔在所述衬底基板上的投影重合，且所述第一通孔在第一平面上的正投影的轮廓和所述第二搭接部在所述第一平面上的正投影的轮廓重合，其中，所述第一平面垂直于衬底基板所在平面。
16.可选的，所述显示面板还包括：
17.缓冲层，所述缓冲层设置于所述第二绝缘层与所述衬底基板之间。
18.可选的，所述显示面板还包括有源金属层；
19.所述有源金属层位于缓冲层和所述第二绝缘层之间；
20.所述有源金属层与在所述衬底基板上的正投影和所述第二金属层在所述衬底基板上的正投影交叠。
21.可选的，所述显示面板还包括：
22.像素限定层，所述电极层位于所述像素限定层和所述有机膜层之间，所述像素限定层覆盖所述第一绝缘层和所述电极层。
23.可选的，所述像素限定层覆盖所述第一通孔。
24.可选的，所述显示面板还包括：
25.触控层，所述触控层包括触控信号线，在所述第一过孔，所述触控信号线与所述第一金属层电连接。
26.可选的，至少部分的所述触控信号线位于所述非发光区域。
27.第二方面，本技术实施例还提供了一种显示面板的制造方法，所述制造方法包括：
28.在衬底基板上沉积第二金属层，通过对所述第二金属层刻蚀剥离形成遮光层；
29.在所述成遮光层上沉积缓冲层，在所述缓冲层上沉积有源金属层；
30.在所述缓冲层和有源金属层上沉积第二绝缘层，在所述第二绝缘层和所述缓冲层上形成刻蚀剥离第二过孔；
31.在所述第二绝缘层上沉积第一金属层，形成源漏金属层；
32.在所述源漏金属层和所述第二绝缘层上沉积第一绝缘层，形成钝化层；
33.在所述第一金属层和所述第一绝缘层上涂覆有机膜层，再对所述有机膜层刻蚀剥离形成第一通孔；
34.在所述第一通孔的位置处，在所述第一绝缘层上刻蚀剥离形成第一过孔，其中，所述第一过孔在所述衬底基板上的正投影和所述第一通孔在所述衬底基板上的正投影重合；
35.在所述源漏金属层和所述有机膜层上沉积电极层。
36.第三方面，本技术实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包括第一方面任一实施例所述的阵列基板。
37.第三方面，本技术实施例还提供了一种显示装置，所述显示面板包括第二方面所述的显示面板。
38.从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于在电极层和第一金属层之间设置有有机膜层，且第一过孔孔口的周侧均覆盖有有机膜层，因此使得有机膜层延伸至电极层和第一金属层的搭接位置处，使得电极层和第一金属层之间除搭接位置处均具有有机膜层。这样，一方面可以避免在沉积电极层的过程中，在电极层和有机膜层的分界处出现爬坡，避免造成电极层断裂，另一方面可以避免第一绝缘层在成型过程中被有机膜层腐蚀，避免有机膜层覆盖时的显影时间较长而引起的第一绝缘层的粘接能力降低，进而避免第一绝缘层和电极层发生剥离。综上所述，通过本发明实施例提供的显示面板可以解决在第一过孔位置处由于电极层的断裂或者缺失而引起的出现显示暗点等现象的发生，进而提升显示面板的显示效果。
附图说明
39.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
40.图1表示本技术实施例提供的一种显示面板的成型过程示意图之一；
41.图2表示本技术实施例提供的一种显示面板的成型过程示意图之二；
42.图3表示本技术实施例提供的一种显示面板的成型过程示意图之三；
43.图4表示本技术实施例提供的一种显示面板沿图3的a-a方向的截面结构示意图；
44.图5表示本技术实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图。
45.附图标记：
46.10：像素单元；101：第一电极；20：衬底基板；30：第一金属层；40：第一绝缘层；50：电极层；60：有机膜层；70：第二金属层；80：第二绝缘层：90：缓冲层；100：像素限定层；401：第一过孔：402：第二过孔。
具体实施方式
47.下面将结合附图，对本发明一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
48.除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本发明的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
49.以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
50.在描述一些实施例时，可能使用了“电连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“电连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。
[0051]“a和/或b”，包括以下三种组合：仅a，仅b，及a和b的组合。
[0052]
本文中“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。
[0053]
如本文所使用的那样，“大致”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围
内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。
[0054]
本文中“同层”指的是采用同一成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩模板通过一次构图工艺形成的层结构。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。与之相反地，“异层”指的是分别采用相应的成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用相应的掩模板通过构图工艺形成的层结构，例如，“两个层结构异层设置”是指两个层结构分别在相应的工艺步骤(成膜工艺和构图工艺)下形成。
[0055]
本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。
[0056]
第一方面，图1表示本技术实施例提供的一种显示面板的成型过程示意图之一，图2表示本技术实施例提供的一种显示面板的成型过程示意图之二，图3表示本技术实施例提供的一种显示面板的成型过程示意图之三，如4表示本技术实施例提供的一种显示面板沿图3的a-a方向的截面结构示意图，如图1、图2、图3和图4所示，该显示面板包括：
[0057]
多个像素单元10，每个像素单元10包括发光区域和非发光区域，发光区包括第一电极101；
[0058]
衬底基板20、第一金属层30、第一绝缘层40和电极层50，第一金属层30位于第一绝缘层40和衬底基板20之间，电极层50和第一电极101搭接，第一金属层30和电极层50之间通过第一过孔401连接，有机膜层60，有机膜层60设置在电极层50和第一金属层30之间，且第一过孔401孔口的周侧均覆盖有有机膜层60。
[0059]
需要说明的是，每个像素单元10包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素。在一些实施例中，第一颜色子像素为蓝色子像素，第二颜色子像素为绿色子像素，第三颜色子像素为红色子像素。由此，可以有效实现显示面板的显示画面。
[0060]
需要说明的是，每个像素单元10还包括第二电极，第二电极和第一电极间隔设置。第一电极101可以为阳极或者阴极，第二电极也可以为阳极或者阴极，在第一电极101为阳极的情况下，第二电极为阴极，在第一电极101为阴极的情况下，第二电极为阳极。本技术实施例对此不做限定。示例性的，第一电极101为反射阳极。根据本发明的实施例，每个像素单元10包括的反射阳极的材料包括但不限于银、镁、钼、铝、钕以及上述材料中至少两材料的合金，反射阳极还可以为透明电极(比如ito电极)和阳极电极层叠设置的复合电极。由此，上述反射阳极不仅具有良好的导电性以作为第一颜色发光功能层的阳极，而且光反射性较佳，透过率较差，可以很好的将照射在反射阳极上的光反射回去，防止光透过阳极，从而提高光的利用率。
[0061]
此外，每个像素单元10的发光区域用于显示发光，非发光区域至少部分围绕发光区域设置。衬底基板20应当覆盖发光区域和非发光区域，作为显示面板的其他膜层的载体
使用。衬底基板20可以由诸如玻璃、聚酰亚胺(pi)、聚碳酸酯(pc)、聚醚砜(pes)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、多芳基化合物(par)或玻璃纤维增强塑料(frp)等聚合物材料形成。衬底基板20可以是透明的、半透明的或不透明的。本技术实施例中的衬底基板20还可以为柔性基板，由厚度较薄的聚合物形成，例如聚酰亚胺。
[0062]
第一绝缘层40位于第一金属层30背离衬底基板20的一侧，除第一过孔401处外，可以用于第一金属层30与第一绝缘层40另一侧的金属膜层之间的绝缘。设置在第一金属层30的第一过孔401应位于非发光区，且第一过孔401应暴露第一金属层30，也即是在覆盖在第一金属层30上的第一绝缘层40在换线的位置开设第一过孔401。使得信号线可以在第一过孔401处与第一金属层30电连接，以实现信号线的换线。电极层50和第一电极101搭接，第一金属层30和电极层50之间通过第一过孔401连接，以实现对像素单元10的发光区的驱动。在本发明实施例中，第一金属层30为源漏金属层。
[0063]
在电极层50和第一金属层30之间设置的有机膜层60可以包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺、聚乙烯醇和聚乙烯基苯酚等一种或者两种以上混合物。在本发明实施例中，为避免有机膜层60覆盖时的显影时间较长而引起的第一绝缘层40的粘接能力降低，使得第一过孔401孔口的周侧均覆盖有有机膜层60，也即是在第一过孔401孔口的一周的位置均设置有有机膜层60，这样，可以使得有机膜层60围绕在第一过孔401孔口设置，也即是使得有机膜层60延伸至电极层50处，进而避免有机膜层60在与电极层50的连接位置处产生高度差，也即是避免在电极层50和有机膜层60的分界处出现爬坡。
[0064]
从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于在电极层50和第一金属层30之间设置有有机膜层60，且第一过孔401孔口的周侧均覆盖有有机膜层60，因此使得有机膜层60延伸至电极层50和第一金属层30的搭接位置处，使得电极层50和第一金属层30之间除搭接位置处均具有有机膜层60。这样，一方面可以避免在沉积电极层50的过程中，在电极层50和有机膜层60的分界处出现爬坡，避免造成电极层50断裂，另一方面可以避免第一绝缘层40在成型过程中被有机膜层60腐蚀，避免有机膜层60覆盖时的显影时间较长而引起的第一绝缘层40的粘接能力降低，进而避免第一绝缘层40和电极层50发生剥离。综上所述，通过本发明实施例提供的显示面板可以解决在第一过孔401位置处由于电极层50的断裂或者缺失而引起的出现显示暗点等现象的发生，进而提升显示面板的显示效果。
[0065]
接下来介绍下显示面板中其它膜层和有机膜层60之间的装配位置关系，具体如下：
[0066]
在一些实施例中，所述显示面板还包括：第二金属层70和第二绝缘层80，第二绝缘层80位于第一金属层30和衬底基板20之间，第一金属层30和第二金属层70通过第二过孔402连接。
[0067]
在本发明实施例中，第二金属层70为金属遮光层，用于显示面板的遮光层和电容板，第一金属层30可以在衬底基板20的正投影和和第二金属层70在衬底基板20上的正投影的重合位置所对应的位置处应开设搭接孔，使得第一金属层30在搭接孔处和第二金属层70接触，之后通过第二过孔402使得第一金属层30和第二金属层70连接，使得信号可以从第一金属层30传递到第二金属层70。
[0068]
还需要说明的是，第二过孔402为套孔，即开设在第二绝缘层80上的孔的直径大于开设在缓冲层90上的孔的直径，且开设在第二绝缘层80上的孔的轴线和开设在缓冲层90上
的孔的轴线为同轴设置。
[0069]
进一步的，第二过孔402开设在第二绝缘层80上，第一金属层30具有第一搭接部，第一搭接部位于第二过孔402中，第一搭接部和第二金属层30接触。这样，通过第一搭接部可以和第二金属层70接触，进而使得第一金属层30和第二金属层70之间具有电连接关系。
[0070]
在一些实施例中，第二过孔402的孔口处有机膜层60。
[0071]
需要说明的是，在第二过孔402的孔口处有机膜层60，使得第一金属层30和第二金属层70除在开设第二过孔402的位置处具有连接关系外，在其它位置没有电连接关系，避免第一金属层30和第二金属层70在除开设第二过孔402的位置处发生短接，同时避免水汽、杂质等通过第二过孔402进入显示面板内部。还需要说明的是，由于第二过孔402的孔口处有机膜层60，因此可以避免第二过孔处被有机膜层60保护，避免第一绝缘层褶皱后被有机膜层60显影液所腐蚀，保证电极层50的完整性，进一步减少暗点的数量。
[0072]
对于有机膜层60和第一过孔401的结构，第一过孔401开设在第一绝缘层40上；电极层50具有第二搭接部，第二搭接部位于第一过孔401中，第二搭接部和第一金属层30接触。这样，通过第二搭接部可以使得电极层50和第一金属层30之间建立电连接关系。
[0073]
进一步的，有机膜层60开设第一通孔，第一通孔在衬底基板20上的投影和第一过孔401在衬底基板20上的投影重合，且第一通孔在第一平面上的正投影的轮廓和第二搭接部在第一平面上的正投影的轮廓重合，第一平面垂直于衬底基板20所在平面。
[0074]
需要说明的是，通过在有机膜层60上开设第一通孔，使得第一通孔和在衬底基板20上的投影和第一过孔401在衬底基板20上的投影重合，也即是使得第一通孔和第一过孔401在垂直于衬底基板20所在方向上处于同一直线，进而避免设置有机膜层60对电极层50和第一金属层30的搭接造成影响。需要说明的是，由于第一通孔在第一平面上的正投影的轮廓和第二搭接部在第一平面上的正投影的轮廓重合，因此使得第一通孔的孔型和第一搭接部的形状完全一致，进而避免有机膜层60外延对电极层50和第一金属层30之间的搭接造成影响。
[0075]
在一些实施例中，显示面板还包括，缓冲层90，缓冲层90设置于第二绝缘层80与衬底基板20之间。通过缓冲层90可以传输载流子，用于承接转移至显示面板的的发光元件，且起到了缓解发光元件转移过程中衬底基板20对发光元件信号压力。
[0076]
进一步的，显示面板还包括有源金属层；有源金属层位于缓冲层90和第二绝缘层80之间；有源金属层与在衬底基板20上的正投影和第二金属层70在衬底基板20上的正投影交叠。
[0077]
需要说明的是，由于有源金属层作为显示面板发光区域的一部分，因此在有源金属层与在衬底基板20上的正投影和第二金属层70在衬底基板20上的正投影交叠的情况下，可以避免外部光线从衬底基板20外侧进入，影响显示面板的显示效果。
[0078]
此外，在一些实施例中显示面板还包括：像素限定层100，电极层50位于像素限定层100和有机膜层60之间，像素限定层100覆盖第一绝缘层40和电极层50。通过在像素限定层100和有机膜层60之间设置像素限定层100，可以起到分割像素，同时起到绝缘电极层50和第一金属层30在除第一过孔401之外的区域绝缘的作用。同时由于像素限定层100覆盖第一绝缘层40和电极层50，限定像素区域(像素单元10的发光区域)、隔离像素，防止光学及电学串扰。其中，像素限定层100通常为有机材料层，通过掩膜板曝光、显影制备而成。
[0079]
基于上述在有机膜层60上开设第一通孔，因此为保证像素限定层100对于电极层50的绝缘作用，需要使得像素限定层100覆盖第一通孔。
[0080]
需要说明的是，由于在有机膜层60开设第一通孔，第一通孔在衬底基板20上的投影和第一过孔401在衬底基板20上的投影重合，因此可以使像素限定层100覆盖在第一通孔内，也即是可以保证像素限定层100可以完全覆盖电极层50，避免因有机膜层60的设置影响像素限定层100对电极层50的绝缘作用。
[0081]
进一步的，显示面板还包括：触控层，触控层包括触控信号线，在第一过孔401，触控信号线与第一金属层30电连接。
[0082]
在本技术实施例的显示面板中，通过设置触控层来实现触控功能。为了方便说明，本技术实施例以触控层的采用互电容的形式为例进行说明，触控层也可以采用自电容的形式。触控层的触控信号线用于传导触控信号。当进行触控操作时，触控层对应触控位置处的触控电极间的电容发生变化，因此与触控电极电连接的触控信号线会产生的电信号会发生变化，形成触控信号，触控信号线将触控信号引出至非显示区；在本技术实施例的显示面板在绑定了带有芯片的电路板后，芯片可以根据触控信号识别出触控的位置。触控信号线作为第一连接信号线在第一过孔401处与第一金属层30电连接，也就是，与位于第一金属层30的相应的第一绑定线电连接，实现触控信号线的换线，其中，第一绑定线作为第二连接信号线。经由位于第一金属层30的相应的第一绑定线，可以将触控信号传导至弯折区，通过显示面板与带有芯片的电路板的绑定连接，传导至芯片。
[0083]
从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于在电极层50和第一金属从上述实施例可以看出，在本发明实施例中，由于在电极层50和第一金属层30之间设置有有机膜层60，且第一过孔401孔口的周侧均覆盖有有机膜层60，因此使得有机膜层60延伸至电极层50和第一金属层30的搭接位置处，使得电极层50和第一金属层30之间除搭接位置处均具有有机膜层60。这样，一方面可以避免在沉积电极层50的过程中，在电极层50和有机膜层60的分界处出现爬坡，避免造成电极层50断裂，另一方面可以避免第一绝缘层40在成型过程中被有机膜层60腐蚀，避免有机膜层60覆盖时的显影时间较长而引起的第一绝缘层40的粘接能力降低，进而避免第一绝缘层40和电极层50发生剥离。综上所述，通过本发明实施例提供的显示面板可以解决在第一过孔401位置处由于电极层50的断裂或者缺失而引起的出现显示暗点等现象的发生，进而提升显示面板的显示效果。
[0084]
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制造方法，如图5所示，所述制造方法包括：
[0085]
步骤s201：在衬底基板20上沉积第二金属层70，通过对第二金属层70刻蚀剥离形成遮光层。
[0086]
需要说明的是，通过遮光层可以避免外部光线从衬底基板20外侧进入，影响显示面板的显示效果。
[0087]
步骤s202：在成遮光层上沉积缓冲层90，在缓冲层90上沉积有源金属层。
[0088]
需要说明的是，缓冲层90成型于第二绝缘层80与衬底基板20之间。通过缓冲层90可以传输载流子，用于承接转移至显示面板的的发光元件，且起到了缓解发光元件转移过程中衬底基板20对发光元件信号压力。
[0089]
步骤s203：在缓冲层90和有源金属层上沉积第二绝缘层80，在第二绝缘层80和缓
冲层90上刻蚀剥离形成第二过孔402。
[0090]
需要说明的是，第一金属层30可以在衬底基板20的正投影和和第二金属层70在衬底基板20上的正投影的重合位置所对应的位置处应开设搭接孔，使得第一金属层30在搭接孔处和第二金属层70接触，之后通过第二过孔402使得第一金属层30和第二金属层70连接，使得信号可以从第一金属层30传递到第二金属层70。在该步骤中，通过涂胶-曝光-刻蚀-剥离等工序，形成接触孔，再进行第二绝缘层80和缓冲层90进行掩膜曝光，后续进行第二绝缘层80刻蚀剥离，形成第二过孔402。还需要说明的是，第二过孔402为套孔，即开设在第二绝缘层80上的孔的直径大于开设在缓冲层90上的孔的直径，且开设在第二绝缘层80上的孔的轴线和开设在缓冲层90上的孔的轴线为同轴设置。
[0091]
步骤s204：在第二绝缘层80上沉积第一金属层30，形成源漏金属层。
[0092]
需要说明的是，第一金属层30可以为铜或者铝等导电性能较好的金属材料，涂胶、曝光、刻蚀、剥离等工艺形成源漏图层。
[0093]
步骤s205：在源漏金属层和第二绝缘层80上沉积第一绝缘层40，形成钝化层。
[0094]
需要说明的是，在源漏金属层和第二绝缘层80上沉积第一绝缘层40，可以避免源漏金属层发生电化学腐蚀，造成信号传输中断，保证显示面板的显示效果。
[0095]
步骤s206：在第一金属层30和第一绝缘层40上涂覆有机膜层60，再对有机膜层60刻蚀剥离形成第一通孔。
[0096]
需要说明的是，通过对有机膜层60刻蚀剥离形成具第一通孔的图案层，使得第一通孔和在衬底基板20上的投影和第一过孔401在衬底基板20上的投影重合，也即是使得第一通孔和第一过孔401在垂直于衬底基板20所在方向上处于同一直线，进而避免设置有机膜层60对第一过孔401中信号线的通过造成影响。此外，在该步骤中，需要修改有机膜层60的掩膜的形状，构造具有第一通孔的有机膜层60图形，使得有机膜层60可以适配第一金属层30和电极层50的结构。
[0097]
步骤s207：在第一通孔的位置处，在第一绝缘层40上刻蚀剥离形成第一过孔401，其中，第一过孔401在衬底基板20上的正投影和第一通孔在衬底基板20上的正投影重合。
[0098]
需要说明的是，该步骤可以保证第一通孔和第一过孔401在垂直于衬底基板20所在方向上处于同一直线，进而避免设置有机膜层60得设置对电极层50和第一金属层30的搭接造成影响。
[0099]
步骤s208：在源漏金属层和有机膜层60上沉积电极层50。
[0100]
需要说明的是，该步骤在沉积电极层50之后，可以通过氧化铟锡掩膜曝光形成氧化铟锡图层，之后再依次沉积另一电极层50，第一电极101，顶部电极层50之后，通过图形显示掩膜曝光，形成rib结构。
[0101]
第三方面，本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括第二方面所述的显示面板。
[0102]
需要说明的是，该显示装置可以为手机、平板电脑、笔记本电脑、掌上电脑、车载显示装置、可穿戴设备、超级移动个人计算机(ultra－mobile personal computer，umpc)、上网本或者个人数字助理(personal digital assistant，pda)等移动显示装置，非移动显示装置可以为个人计算机(personal computer，pc)、电视机(television，tv)、柜员机或者自助机等，本发明实施例不作具体限定。该显示装置所具备的有益效果和上述显示面板所具
备的有益效果一致，本发明实施例对此不再赘述。
[0103]
需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
[0104]
尽管已描述了本技术实施例的可选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括可选实施例以及落入本技术实施例范围的所有变更和修改。
[0105]
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体与另一个实体区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括要素的物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。
[0106]
以上对本技术所提供的技术方案进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，同时，对于本领域的一般技术人员，依据本技术的原理及实现方式，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。

技术特征：
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：多个像素单元，每个所述像素单元包括发光区域和非发光区域，所述发光区包括第一电极；衬底基板、第一金属层、第一绝缘层和电极层，所述第一金属层位于所述第一绝缘层和所述衬底基板之间，所述电极层和所述第一电极搭接，所述第一金属层和所述电极层之间通过第一过孔连接；有机膜层，所述有机膜层设置在所述电极层和第一金属层之间，所述第一过孔孔口的周侧均覆盖有所述有机膜层。2.根据权利要求1所述的显示面板，所述显示面板还包括：第二金属层和第二绝缘层，所述第二绝缘层位于所述第一金属层和所述衬底基板之间，所述第一金属层和所述第二金属层通过第二过孔连接。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二过孔开设在所述第二绝缘层上，所述第一金属层具有第一搭接部，所述第一搭接部位于所述第二过孔中，所述第一搭接部和所述第二金属层接触。4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二过孔处覆盖有所述有机膜层。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一过孔开设在所述第一绝缘层上；所述电极层具有第二搭接部，所述第二搭接部位于所述第一过孔中，所述第二搭接部和所述第一金属层接触。6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述有机膜层开设第一通孔，所述第一通孔在所述衬底基板上的投影和所述第一过孔在所述衬底基板上的投影重合，且所述第一通孔在第一平面上的正投影的轮廓和所述第二搭接部在所述第一平面上的正投影的轮廓重合，其中，所述第一平面垂直于衬底基板所在平面。7.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：缓冲层，所述缓冲层设置于所述第二绝缘层与所述衬底基板之间。8.据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括有源金属层；所述有源金属层位于缓冲层和所述第二绝缘层之间；所述有源金属层与在所述衬底基板上的正投影和所述第二金属层在所述衬底基板上的正投影交叠。9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：像素限定层，所述电极层位于所述像素限定层和所述有机膜层之间，所述像素限定层覆盖所述第一绝缘层和所述电极层。10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层覆盖所述第一通孔。11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：触控层，所述触控层包括触控信号线，在所述第一过孔，所述触控信号线与所述第一金属层电连接。12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，至少部分的所述触控信号线位于所述非发光区域。
13.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：在衬底基板上沉积第二金属层，通过对所述第二金属层刻蚀剥离形成遮光层；在所述成遮光层上沉积缓冲层，在所述缓冲层上沉积有源金属层；在所述缓冲层和有源金属层上沉积第二绝缘层，在所述第二绝缘层和所述缓冲层上形成刻蚀剥离第二过孔；在所述第二绝缘层上沉积第一金属层，形成源漏金属层；在所述源漏金属层和所述第二绝缘层上沉积第一绝缘层，形成钝化层；在所述第一金属层和所述第一绝缘层上涂覆有机膜层，再对所述有机膜层刻蚀剥离形成第一通孔；在所述第一通孔的位置处，在所述第一绝缘层上刻蚀剥离形成第一过孔，其中，所述第一过孔在所述衬底基板上的正投影和所述第一通孔在所述衬底基板上的正投影重合；在所述源漏金属层和所述有机膜层上沉积电极层。14.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1-12所述的显示面板。

技术总结
本申请实施例提供了一种显示面板、显示面板的制造方法和显示装置。该显示面板包括：多个像素单元，每个像素单元包括发光区域和非发光区域，发光区包括第一电极；衬底基板、第一金属层、第一绝缘层和电极层，第一金属层位于第一绝缘层和衬底基板之间，电极层和第一电极搭接，第一金属层和电极层之间通过第一过孔连接；有机膜层，有机膜层设置在电极层和第一金属层之间，第一过孔孔口的周侧均覆盖有有机膜层。这样，可以解决在第一过孔位置处由于电极层的断裂或者缺失而引起的出现显示暗点等现象的发生，进而提升显示面板的显示效果。进而提升显示面板的显示效果。进而提升显示面板的显示效果。


技术研发人员：王海涛 苏同上 汪军 卜辉 刘宁 成军 宋星星 黄勇潮 方金钢
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2023.06.27
技术公布日：2023/8/28