用于显示装置的无基底型覆盖窗、包括其的显示装置和用于制造其的方法与流程

1.相关申请的交叉引用
2.本技术要求基于于2021年10月8日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2021-0134122号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。
3.本发明涉及用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，包括其的柔性显示装置和用于制造其的方法。


背景技术：

4.近来，随着移动设备例如智能手机、平板电脑的发展，需要显示器用基底的纤薄化。在用于移动设备的显示器的窗或前板上通常使用玻璃或钢化玻璃作为具有优异的机械特性的材料。然而，玻璃和钢化玻璃的自身重量重，从而导致移动设备的重量增加，具有容易受外部冲击而损坏的问题，具有低柔性，并且在应用于柔性显示装置或可折叠显示装置方面受到限制。
5.正在研究使用塑料树脂的覆盖窗作为用于替代这样的玻璃的材料。塑料树脂在重量轻的同时几乎没有破裂的风险，具有柔性，并因此更适于使移动设备更轻且更具柔性。通常使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚醚砜(pes)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚丙烯酸酯(par)、聚碳酸酯(pc)、聚酰亚胺(pi)、聚酰胺酰亚胺(pai)等，但在使用这些塑料树脂的基底的情况下，与玻璃材料相比，其具有硬度和耐刮擦性不足的问题。因此，已经尝试通过将树脂组合物涂覆在塑料树脂基底上以形成硬涂层来补充高硬度和耐磨性。
6.然而，在基底的上表面上包括硬涂层的塑料树脂基底或覆盖窗在增强基底与涂层之间的界面粘附性的同时，使两个层之间的物理特性的差异最小化方面存在许多困难。此外，存在基底的使用限制了薄覆盖窗的实现以及塑料树脂基底的使用提高了光学片的价格的缺点。


技术实现要素：

7.技术问题
8.本发明的一个目的是提供用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，所述覆盖窗不包括支撑基底，并因此不会引起涂层与界面之间的剥离问题，并且具有高硬度和优异的柔性，即使通过反复弯曲或折叠操作也几乎没有损坏的风险，并因此可以很容易地应用于可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠的移动设备、显示设备等。
9.本公开内容的另一个目的是提供包括上述覆盖窗的柔性显示装置和用于制造其的方法。
10.技术方案
11.本文提供用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，所述覆盖窗包括：有机-无机硬化层，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷。
12.本文还提供了显示装置，所述显示装置包括：用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，形成在覆盖窗的一个表面上的粘合剂层，以及形成在粘合剂层上的显示面板。
13.本发明还提供了用于制造显示装置的方法，所述方法包括：在显示面板的一个表面上层合无基底型覆盖窗的步骤，其中无基底型覆盖窗由有机-无机硬化层制成，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷。
14.在下文中，将更详细地描述根据本发明的具体实施方案的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗、包括其的显示装置和用于制造其的方法。
15.如本文所用，“柔性”意指具有这样的程度的柔性的状态：当卷绕在直径为5mm的圆柱形芯轴上时不出现长度为3mm或更长的裂纹。因此，本发明的柔性显示装置可以意指可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠的显示装置。
16.然而，这些实施方案仅用于说明性目的，并不意指限制本发明的范围，并且对于本领域的技术人员来说明显的是，可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下对实施方案进行各种修改。
17.本文使用的技术术语仅用于提及具体实施方案，并且除非特别提及，否则它们不旨在限制本发明。
18.本文使用的单数表达可以包括复数表达，除非它们在上下文中被不同地表述。
19.本文使用的术语“包括”或“包含”的含义体现特定特性、区域、整数、步骤、动作、要素或组件，并且不排除存在或添加其他特定特性、区域、整数、步骤、动作、要素或组件。
20.如本文所用，(甲基)丙烯酸酯不仅意指甲基丙烯酸酯而且还意指丙烯酸酯。
21.如此处所使用的，重均分子量意指通过gpc法测量的根据聚苯乙烯的重均分子量。在确定通过gpc法测量的根据聚苯乙烯的重均分子量的过程中，可以使用通常已知的分析装置、检测器(例如折射率检测器)和分析柱。可以使用通常应用的温度、溶剂和流量条件。具体地，例如使用waters 2695进行测量。评估温度为40℃，使用thf作为溶剂，以及流量为1ml/分钟。
22.如本文所用，术语“经取代或未经取代”意指未经取代或经选自以下中的一个或更多个取代基取代：氘；卤素基团；腈基；硝基；羟基；羰基；酯基；酰亚胺基；氨基；氧化膦基；烷氧基；芳氧基；烷基硫基；芳基硫基；烷基磺酰基；芳基磺酰基；甲硅烷基；硼基；烷基；环烷基；烯基；芳基；芳烷基；芳烯基；烷基芳基；烷基胺基；芳烷基胺基；杂芳基胺基；芳基胺基；芳基膦基；和含有n、o和s原子中的至少一者的杂环基，或者未经取代或经以上例示的取代基中的两个或更多个取代基相连接的取代基取代。例如，“两个或更多个取代基相连接的取代基”可以为联苯基。即，联苯基可以为芳基，或者其也可以理解为两个苯基相连接的取代基。
23.根据本发明的一个实施方案，可以提供用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，所述覆盖窗包括：有机-无机硬化层，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷。
24.本发明人对显示装置的覆盖窗进行了深入研究，并且发现当无基底型覆盖窗由包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷的有机-无机硬化层制成，并且这样的有机-无机硬化层的厚度为50μm或更大且小于700μm时，可以容易地实现薄的膜，提高价格竞争力并且同时满足柔性与高硬度之间的物理特性平衡，从而完成本发明。
25.此外，即使通过反复弯曲或折叠操作，覆盖窗也几乎不对膜造成损坏，具体地当将有机-无机硬化层在中间设置8mm间隔，并且将在室温下以每秒一次的速率将有机-无机硬化层以90
°
角度折叠以面向彼此并展开的过程重复进行200,000次时，可以不出现1mm或更大的裂纹。因此，无基底型覆盖窗可以容易地应用于使用其的可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠的移动设备、显示设备等。
26.无基底型覆盖窗用作用于施加用于形成有机-无机硬化层的组合物的支撑手段，并且是指即使在用于形成有机-无机硬化层的组合物硬化之后仍处于未剥离状态的支撑基底。因此，无基底型意指不包括这样的支撑基底。
27.与典型的覆盖窗不同，根据实施方案的覆盖窗为无基底型，即，其不包括诸如用作用于有机-无机硬化层的支撑手段的塑料树脂膜的支撑基底并且即使在硬化之后也不剥离。因此，根据一个实施方案的覆盖窗为无基底型膜。
28.覆盖窗是由有机-无机硬化层制成的无基底型膜，但是有机-无机硬化层可以为单层或者可以由复数个层制成。此外，可以将另外的膜、层或膜附接或涂覆在有机-无机硬化层上。
29.此外，由于覆盖窗不包括支撑基底，因此在有机-无机硬化层的硬化过程期间不受基底收缩影响，因此不用担心会发生卷曲或开裂并且不存在可能发生在与基底的界面处的剥离问题。
30.此外，即使覆盖窗不包括支撑基底，其也具有高硬度和优异的柔性，并且即使通过反复弯曲或折叠操作也几乎没有损坏，并因此可以容易地应用于可弯曲、柔性的、可卷曲、或可折叠的移动设备、显示设备等。
31.根据一个实施方案的覆盖窗可以由有机-无机硬化层制成，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷。
32.含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷可以包含两种或更多种具有不同结构的重复单元。
33.聚硅氧烷可以具有多种结构，例如，笼型聚倍半硅氧烷重复单元、梯子型聚倍半硅氧烷重复单元或者无规型聚倍半硅氧烷重复单元的结构。
34.当根据一个实施方案的覆盖窗包含含有两种或更多种具有不同结构的重复单元的聚硅氧烷时，其可以包含笼型聚倍半硅氧烷重复单元和梯子型聚倍半硅氧烷重复单元，或者可以包含笼型聚倍半硅氧烷重复单元和无规型聚倍半硅氧烷重复单元，或者可以包含梯子型聚倍半硅氧烷重复单元和无规型聚倍半硅氧烷重复单元，或者笼型聚倍半硅氧烷重复单元、梯子型聚倍半硅氧烷重复单元和无规型聚倍半硅氧烷重复单元的全部。
35.更具体地，包含两种或更多种具有不同结构的重复单元的聚硅氧烷可以包括笼型聚倍半硅氧烷重复单元和梯子型聚倍半硅氧烷重复单元。
36.在一个实施方案的覆盖窗中，由于有机-无机硬化层包含笼型聚倍半硅氧烷重复单元和梯子型聚倍半硅氧烷重复单元，因此具有相对小的分子量的笼型增加硬化密度以增加硬度，以及线性梯子型聚硅氧烷在形成硬化网络期间广泛分布以增加柔性和韧性，使得与仅包含笼型聚倍半硅氧烷重复单元或梯子型聚倍半硅氧烷重复单元的一种类型的聚硅氧烷重复单元的情况相比，覆盖窗可以表现出高柔性与高硬度之间的物理特性平衡。
37.此外，笼型聚倍半硅氧烷重复单元与梯子型聚倍半硅氧烷重复单元的摩尔比可以
为1.2或更大且2.5或更小、1.2或更大且2.0或更小、1.2或更大且1.8或更小、或者1.4或更大且1.8或更小。由于摩尔比为1.2至2.5，笼型和梯子型可以协调地形成组合物，使得覆盖窗可以表现出高柔性与高硬度之间的物理特性平衡。具体地，笼型聚倍半硅氧烷结构可以增加硬化密度，使得可以实现高硬度。梯子型聚倍半硅氧烷结构通过其柔性分子结构提高硬化膜的柔性。因此，由于笼型聚倍半硅氧烷重复单元和梯子型聚倍半硅氧烷重复单元以特定比例包含在内，因此可以同时实现高柔性和高硬度的物理特性。
38.在通过衰减全反射(atr)法对于包含两种或更多种具有不同结构的重复单元的聚硅氧烷测量的ft-ir(fourier transform-infra red，傅立叶变换红外)中，在1010cm-1
至1070cm-1
的区域中具有至少一个峰，以及在1075cm-1
至1130cm-1
的区域中具有至少有一个峰。
39.例如，在ft-ir光谱中，其可以在1010cm-1
至1070cm-1
、1030cm-1
至1065cm-1
或者1040cm-1
至1060cm-1
的区域中表现出至少一个峰，以及可以在1075cm-1
至1130cm-1
、1080cm-1
至1110cm-1
或者1090cm-1
至1100cm-1
的区域中表现出至少一个峰。
40.含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷可以包含至少两种具有不同结构的重复单元，因为它们各自在ft-ir光谱的不同区域中具有峰。
41.具体地，在1010cm-1
至1070cm-1
的区域中，其可以表现出两个或更多个峰，或者可以仅表现出一个峰，以及在1010cm-1
至1070cm-1
的区域中出现的峰可以为与梯子型聚硅氧烷和/或无规型聚硅氧烷相关的峰。此外，在1075cm-1
至1130cm-1
的区域中，其可以表现出两个或更多个峰，或者可以仅表现出一个峰，以及在1075cm-1
至1130cm-1
的区域中出现的峰可以为与笼型聚硅氧烷相关的峰。
42.此外，在1075cm-1
至1130cm-1
区域中出现的至少一个峰中的最强峰的强度(i2)与在1010cm-1
至1070cm-1
区域中出现的至少一个峰中的最强峰的强度(i1)的峰强度比(i2/i1)可以为1.2或更大且2.5或更小、1.2或更大且2.0或更小、1.2或更大且1.8或更小、或者1.4或更大且1.8或更小。
43.峰的强度(i1)意指在1010cm-1
至1070cm-1
的区域中出现两个或更多个峰时的最强峰的强度，以及意指在出现一个峰时的对应峰的强度。此外，峰的强度(i2)意指在1075cm-1
至1130cm-1
的区域中出现两个或更多个峰时的最强峰的强度，以及意指在出现一个峰时的对应峰的强度。
44.峰强度比(i2/i1)可以利用atr法使用在经历硬化过程之前处于非硬化状态的聚硅氧烷或者在硬化之后处于固态的聚硅氧烷作为样品在ft-ir光谱中测量。
45.由于峰强度比(i2/i1)为1.2至2.5，因此笼形和梯子型允许组合物协调地形成，使得覆盖窗能够表现出高柔性与高硬度之间的物理特性平衡。当峰强度比(i2/i1)小于1.2或大于2.5时，柔性劣化并且硬度也降低，使得无法实现足以用作柔性显示装置的覆盖窗的物理特性。
46.同时，含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷可以包含70mol％或更多的含有含环氧基的官能团的重复单元。
47.含环氧基的官能团没有特别限制，只要其为含有环氧基的官能团即可，但是例如可以为选自脂环族环氧基和由以下化学式1表示的官能团中的任一者。
48.[化学式1]
[0049][0050]
其中，在化学式1中，
[0051]
ra为经取代或未经取代的具有1至6个碳原子的亚烷基、经取代或未经取代的具有2至20个碳原子的亚烯基，经取代或未经取代具有2至20个碳原子的亚炔基、-r
b-ch＝ch-coo-r
c-、-r
d-oco-ch＝ch-r
e-、-rfor
g-、-rhcoor
i-、或-rjocor
k-，以及
[0052]
rb至rk各自独立地为单键；或者经取代或未经取代的具有1至6个碳原子的亚烷基。
[0053]
由化学式1表示的官能团不仅含有环氧基，并因此改善了覆盖窗的高硬度和耐刮擦性的物理特性，而且即使通过反复弯曲或折叠操作也几乎不对膜造成损坏，并因此可以容易地应用于可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠的移动设备、显示设备等。
[0054]
例如，由化学式1表示的含环氧基的官能团ra可以为亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚烯丙基、-r
b-ch＝ch-coo-r
c-、-r
d-oco-ch＝ch-r
e-、-rfor
g-、-rhcoor
i-、或-rjocor
k-。
[0055]
例如，化学式1中的rb至rk可以为单键、亚甲基、亚乙基、亚丙基或亚丁基。
[0056]
例如，ra可以为亚甲基、亚乙基或-rfor
g-，其中rf和rg可以为直接键、亚甲基或亚丙基。
[0057]
例如，由化学式1表示的官能团不限于此，但可以为缩水甘油氧基、缩水甘油氧基乙基、缩水甘油氧基丙基或缩水甘油氧基丁基。
[0058]
此外，脂环族环氧基不限于此，但可以为例如环氧基环己基。
[0059]
此外，聚硅氧烷可以由以下化学式2表示。
[0060]
[化学式2]
[0061]
(r7sio
3/2
)a(r8sio
3/2
)b(r9r
10
sio
2/2
)c(r
11r12r13
sio
1/2
)d(sio
4/2
)e(o
1/2r14
)f[0062]
其中，在化学式2中，
[0063]
r7至r
13
各自独立地为氢、含环氧基的官能团、氨基、巯基、醚基、酯基、羰基、羧基、(甲基)丙烯酸酯、砜基、经取代或未经取代的具有1至20个碳原子的烷基、经取代或未经取代的具有3至20个碳原子的环烷基、经取代或未经取代的具有2至20个碳原子的烯基、经取代或未经取代的具有2至20个碳原子的炔基、经取代或未经取代的具有2至20个碳原子的烷氧基、经取代或未经取代的具有6至20个碳原子的芳基、经取代或未经取代的具有7至20个碳原子的芳基烷基、或者经取代或未经取代的具有7至20个碳原子的烷基芳基，条件是r7至r
13
中的至少一者为含环氧基的官能团，
[0064]r14
为氢原子或者具有1至20个碳原子的烷基，以及
[0065]
0《a≤1、0≤b≤1、0≤c≤1、0≤d≤1、0≤e≤1、0≤f≤1。
[0066]
r7可以为含环氧基的官能团，并且相对于化学式2的总摩尔比含量，可以包含70mol％或更多的包含取代基r7的重复单元。当包含由化学式1表示的官能团的重复单元的含量小于70mol％时，存在有机-无机硬化层由于硬化密度降低而难以表现出足够的表面硬度的问题。
[0067]
由化学式2表示的聚硅氧烷可以包含(r7sio
3/2
)结构单元、(r8sio
3/2
)结构单元、(r9r
10
sio
2/2
)结构单元、(r
11r12r13
sio
1/2
)结构单元、(sio
4/2
)结构单元和(o
1/2r14
)结构单元。此外，在化学式2中，上述结构单元的摩尔比分别由a、b、c、d、e和f表示。此时各摩尔比为0《a
≤1、0≤b≤1、0≤c≤1、0≤d≤1、0≤e≤1、0≤f≤1、条件是它们的总和(a+b+c+d+e+f)可以为1。
[0068]
此外，r7可以为含环氧基的官能团，其中(r7sio
3/2
)结构单元的摩尔比可以为0.7《a≤1、0.7《a≤0.99、和0.8《a≤0.9。
[0069]
此外，聚硅氧烷中包含的(r7sio
3/2
)结构单元和(r8sio
3/2
)结构单元为其中形成有三个硅氧烷键的结构单元，以及包含其的聚硅氧烷可以增加硬化密度并且改善有机-无机硬化层的表面硬度特性。
[0070]
此外，聚硅氧烷中包含的(r9r
10
sio
2/2
)结构单元为其中形成有两个硅氧烷键的结构单元，以及(r9r
10
sio
2/2
)结构单元的摩尔比为c，其中(r9r
10
sio
2/2
)结构单元的摩尔比相对于化学式2的聚硅氧烷的总摩尔比可为0≤c≤1、0.01≤c《0.3或者0.05≤c≤0.2，如上所述。
[0071]
此外，聚硅氧烷中包含的(r
11r12r13
sio
1/2
)结构单元为其中形成有一个硅氧烷键的结构单元，以及(r
11r12r13
sio
1/2
)结构单元的摩尔比为d，其中(r
11r12r13
sio
1/2
)结构单元的摩尔比相对于化学式2的聚硅氧烷的总摩尔比可以为0≤d≤1、0.01≤d《0.3、或者0.05≤d≤0.2，如上所述。
[0072]
此外，(r9r
10
sio
2/2
)结构单元和(r
11r12r13
sio
1/2
)结构单元的摩尔比的总和(c+d)可以为0≤c+d《0.3、0.01≤c+d≤0.29、0.05≤c+d≤0.25、或者0.07≤c+d≤0.23。(r9r
10
sio
2/2
)结构单元和(r
11r12r13
sio
1/2
)结构单元的摩尔比的总和(c+d)可以为0.3或更大。
[0073]
具体地，r7为含环氧基的官能团，r8至r
13
可以为氢、氨基、巯基、醚基、酯基、羰基、羧基、(甲基)丙烯酸酯、砜基、甲基、乙基、丙基、叔丁基、环己基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、叔丁氧基、苯基、萘基等。
[0074]
聚硅氧烷可以包含(sio
4/2
)结构单元，其为其中形成有四个硅氧烷键的结构单元。此外，(sio
4/2
)结构单元的摩尔比为e，其中e可以为0≤e≤1、0.01≤e《0.3或者0.05≤e≤0.2。
[0075]
此外，聚硅氧烷可以包含(o
1/2r14
)结构单元，并且包含其的聚硅氧烷可以改善柔性，同时保持优异的硬度特性。此外，(o
1/2r14
)结构单元的摩尔比为f，其中f可以为0≤f≤1、0.01≤f《0.3或者0.05≤f≤0.2。
[0076]r14
可以为氢原子或具有1至20个碳原子的烷基，更具体地，其可以为氢原子、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基等。
[0077]
包含上述结构单元的聚硅氧烷可以通过各结构单元的硅氧烷单体，具体地，具有化学式1的官能团的烷氧基硅烷单独地，或者具有化学式1的官能团的烷氧基硅烷与不同的烷氧基硅烷之间的水解和缩合反应来制备，其中各结构单元的摩尔比可以通过控制烷氧基硅烷的含量比来控制。同时，构成聚硅氧烷的各结构单元的含量可以通过测量1h-nmr或
29
si-nmr谱来获得。
[0078]
同时，聚硅氧烷可以具有3.0mmol/g至6.3mmol/g或者4.0mmol/g至6.0mmol/g的含环氧基的官能团的当量。当由化学式1表示的官能团的当量太小时，有机-无机硬化层的密度降低，这引起表面硬度降低的问题，而当当量太高时，存在柔性降低和未硬化的环氧化物残留的问题，这降低了环境可靠性。这些官能团的当量是通过将聚硅氧烷的分子量除以官
能团的数量而获得的值，并且可以通过h-nmr或化学滴定法来分析。
[0079]
此外，聚硅氧烷可以通过利用反应温度、催化剂的量、溶剂的类型等调节反应速率来调节重均分子量、数均分子量、分子量分布等。上述聚硅氧烷的重均分子量可以为1,000g/mol至50,000g/mol，或者1,200g/mol至15,000g/mol。通过具有在以上范围内的重均分子量，可以表现出更优异的硬度特性。如果重均分子量小于1,000g/mol，则无法实现硬度，反而可能表现出延展性。此外，如果重均分子量超过50,000g/mol，则表现出高硬度，但存在膜加工性可能劣化的可能性。
[0080]
此外，除了上述mw之外，聚硅氧烷的数均分子量(mn)可以为1,000g/mol至10,000g/mol，更具体地为1,000g/mol至8,000g/mol。当满足上述数均分子量条件时，与用于形成有机-无机硬化层的组合物中的其他组分的相容性提高，硬化产物的表面硬度提高，并且硬化产物的耐热性和耐磨性可以进一步提高。同时，聚硅氧烷的重均分子量和数均分子量是通过凝胶渗透色谱法获得的标准聚苯乙烯换算值。
[0081]
此外，聚硅氧烷的分子量分布(mw/mn)可以为1.0至10.0，更具体地为1.1至5.0。当其具有在以上范围内的分子量分布时，提高表面硬度的效果更优异，并且聚硅氧烷以液态存在，并且易于处理。
[0082]
根据实施方案的覆盖窗由有机-无机硬化层制成，其中有机-无机硬化层可以包含弹性聚合物。弹性聚合物通过由有机-无机硬化层制成的覆盖窗的韧性而赋予抗应力特性，并且可以使硬化期间的收缩最小化，从而改善弯曲特性并且同时改善柔性例如可弯曲性，并改善硬度特性。
[0083]
相对于100重量份的含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷，弹性聚合物可以具体地以以下量包含在内：10重量份或更大且80重量份或更小、10重量份或更大且70重量份或更小、10重量份或更大且60重量份或更小、以及15重量份或更大且50重量份或更小。如果弹性聚合物的含量太多，则存在表面硬度特性可能劣化的风险，而如果弹性聚合物的含量太少，则可能无法充分地获得由于包含弹性聚合物而产生的改善效果，并且存在弯曲特性和可弯曲性可能劣化的风险。
[0084]
弹性聚合物不限于此，但例如，其可以包括选自以下中的至少一者：具有1至20个碳原子的烷二醇、聚烯烃多元醇、聚酯多元醇、聚己内酯多元醇、聚醚多元醇和聚碳酸酯多元醇。与常规弹性聚合物例如橡胶相比，这些弹性聚合物可以通过uv照射进行交联和聚合，并且可以在不使其他物理特性劣化的情况下实现高硬度和柔性。
[0085]
其中，弹性聚合物可以为聚己内酯多元醇。聚己内酯多元醇在重复单元中重复包含酯基和醚基二者，因此当与聚硅氧烷组合使用时，可以在柔性、硬度和抗冲击性方面表现出更优异的效果。
[0086]
弹性聚合物的数均分子量(mn)可以为300da或更大且10,000da或更小，或者500da或更大且5,000da或更小。当满足以上数均分子量条件时，与有机-无机硬化层中的其他组分的相容性增加，并且硬化产物的表面硬度提高，并因此，硬化产物的耐热性和耐磨性可以进一步提高。
[0087]
有机-无机硬化层还可以包含反应性单体，所述反应性单体包含至少一个可与聚硅氧烷交联的官能团。反应性单体包含至少一个可与上述聚硅氧烷交联的官能团，并且用作聚硅氧烷网络之间的交联剂，从而增加有机-无机硬化层的拉伸强度。
[0088]
反应性单体为可与聚硅氧烷交联的官能团，例如，其可以包括选自脂环族环氧基、缩水甘油基和氧杂环丁烷基中的至少一者。
[0089]
此外，包含至少一个可与聚硅氧烷交联的官能团的反应性单体可以包括例如选自以下中的至少一者：双酚a二缩水甘油醚、4-乙烯基环己烯二氧化物、环己烯乙烯基一氧化物、(3,4-环氧基环己基)甲基3,4-环氧基环己基羧酸酯、3,4-环氧基环己基甲基甲基丙烯酸酯、3,4-环氧基环己烷羧酸酯、2-(3,4-环氧基环己基)-1,3-二氧戊环、双(3,4-环氧基环己基甲基)己二酸酯、对丁基苯酚缩水甘油醚、丁基缩水甘油醚、甲酚缩水甘油醚、烯丙基缩水甘油醚、苯基缩水甘油醚、二缩水甘油醚、丁二醇二缩水甘油醚、柠檬烯二氧化物、二甘醇二缩水甘油醚、3-甲基氧杂环丁烷、2-甲基氧杂环丁烷、3-氧杂环丁醇、2-亚甲基氧杂环丁烷、3-甲基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3-乙基-3-羟基甲基氧杂环丁烷、3,3-氧杂环丁烷二甲烷硫醇、2-乙基己基氧杂环丁烷、4-(3-甲基氧杂环丁烷-3-基)苄腈、n-(2,2-二甲基丙基)-3-甲基-3-氧杂环丁烷甲胺、n-(1,2-二甲基丁基)-3-甲基-3-氧杂环丁烷甲胺、二甲苯双氧杂环丁烷、3-乙基-3[{(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基}甲基]氧杂环丁烷、(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲基甲基丙烯酸酯和4-[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]丁-1-醇。
[0090]
有机-无机硬化层中包含的聚硅氧烷和反应性单体的重量比可以为99:1至70:30、95:5至73:27、90:10至75:25或者85:15至76:24。与反应性单体相比，当聚硅氧烷以过量包含在内时，由于包含反应性单体而产生的改善效果可能不显著。另一方面，与弹性体聚合物相比，当聚硅氧烷以过少的量包含在内时，由于过量的反应性单体，硬化位点之间的距离缩小，并且由于由此产生的硬化收缩，涂层膜的内部应力可能增加，从而降低抗裂性。
[0091]
有机-无机硬化层还可以包含基于丙烯酸酯的化合物以提高表面硬度。
[0092]
基于丙烯酸酯的化合物可以包括丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸异癸酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸山嵛酯、甲基丙烯酸十三烷基酯、壬基苯酚乙氧基化物单丙烯酸酯、丙烯酸β-羧基乙酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸4-丁基环己酯、丙烯酸二环戊烯酯、丙烯酸二环戊烯基氧基乙酯、丙烯酸乙氧基乙氧基乙酯、乙氧基化单丙烯酸酯、二丙烯酸1,6-己二醇酯、二丙烯酸三苯二醇酯、二丙烯酸丁二醇酯、二甲基丙烯酸1,3-丁二醇酯、二甲基丙烯酸1,6-己二醇酯、二丙烯酸新戊二醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸二甘醇酯、二甲基丙烯酸二甘醇酯、二丙烯酸四甘醇酯、二甲基丙烯酸四甘醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二甲基丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸聚乙二醇酯、二甲基丙烯酸聚乙二醇酯、二丙烯酸二丙二醇酯、乙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、乙氧基化三丙烯酸酯、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、烷氧基化四丙烯酸酯等。优选地，其可以包括多官能丙烯酸酯化合物例如季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等。可以使用其中的一种或者两种或更多种类型的混合物。
[0093]
此外，其可以包括基于丙烯酸酯的低聚物例如聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯等，以及可以使用其中的一者或者两种或更多种类型的混合物。在基于丙烯酸酯的化合物中，当与上述聚硅氧烷组合使用时，考虑到提高表面硬度的显著效果，可以更优选使用氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物。
[0094]
氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物可以具有6至9个官能团。如果官能团数小于6，则提高硬度的效果可能不显著，而如果官能团数大于9，则硬度优异，但粘度可能增加。此外，作为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，可以没有限制地使用相关领域中使用的那些，但优选地，可以使用通过使分子中具有至少一个异氰酸酯基的化合物与分子中具有至少一个羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物反应而制备的那些。
[0095]
当还包含基于丙烯酸酯的化合物时，基于100重量份的聚硅氧烷，基于丙烯酸酯的化合物可以以0.1重量份至20重量份、1重量份至15重量份或者5重量份至10重量份的量包含在内。当反应性单体的含量小于0.1重量份时，由于包含基于丙烯酸酯的化合物而产生的改善效果不显著，而当反应性单体的含量大于20重量份时，由于过量的基于丙烯酸酯的化合物，提高表面硬度的效果反而可能受到抑制。
[0096]
有机-无机硬化层还可以包含用于光固化或热固化的引发剂、敏化剂等。
[0097]
与以上组分一起，有机-无机硬化层还可以独立地包含一种或更多种常用的添加剂，例如抗氧化剂、表面活性剂、抗黄变剂、无机纳米颗粒、润滑剂、涂覆助剂、防污剂、分散剂、光吸收剂、颜料、染料等。
[0098]
可以使用的无机纳米颗粒的实例包括二氧化硅细颗粒、氧化铝颗粒、氧化钛颗粒、氧化锌颗粒等。
[0099]
此外，无机纳米颗粒的颗粒尺寸可以为10nm至200nm、30nm至180nm、50nm至150nm或者60nm至130nm。这些无机纳米颗粒的颗粒尺寸范围可以用透射电子显微镜(tem)测量。
[0100]
无机纳米颗粒可以包含在表面上取代的预定官能团以更容易地分散在有机溶剂中。可以在无机纳米颗粒的表面上取代的有机官能团的实例没有特别限制，例如(甲基)丙烯酸酯基、乙烯基、羟基、胺基、烯丙基、环氧基、羟基、异氰酸酯基、胺基、氟等可以在无机纳米颗粒的表面上取代。
[0101]
同时，根据实施方案的用于显示装置的无基底型覆盖窗由有机-无机硬化层制成，并且有机-无机硬化层的厚度可以为50μm或更大且1,000μm或更小、50μm或更大且小于700μm、50μm或更大且小于500μm、50μm或更大且小于300μm、60μm或更大且250μm或更小、70μm或更大且230μm或更小、100μm或更大且200μm或更小。覆盖窗仅由有机-无机硬化层制成而不包括支撑基底，并因此，可以实现具有比常规覆盖窗更薄的厚度的覆盖窗。即使在这样的薄厚度范围内，也可以同时满足柔性与高硬度之间的物理特性平衡，并且防止由于反复弯曲或折叠操作引起的对内部结构造成的损坏。
[0102]
此外，由于覆盖窗不包括支撑基底，因此即使有机-无机硬化层本身形成为具有略高的厚度，其也不受基底收缩影响，并因此不用担心卷曲或开裂。
[0103]
有机-无机硬化层可以为单层或者两个或更多个层的多层结构。当有机-无机硬化层具有多层结构时，整个有机-无机硬化层的总厚度的总和没有特别限制，但例如，其可以为50μm或更大且1,000μm或更小，50μm或更大且900μm或更小、100μm或更大且800μm或更小、200μm或更大且700μm或更小、200μm或更大且600μm或更小。
[0104]
当将有机-无机硬化层在中间设置8mm间隔，并且将在室温下以每秒一次的速率将有机-无机硬化层以90
°
角度折叠以面向彼此并展开的过程重复进行200,000次时，一个实施方案的用于显示装置的无基底型覆盖窗不产生1mm或更大的裂纹。因此，即使通过反复弯曲或折叠操作也几乎不对膜造成损坏，并因此可以容易地应用于可弯曲、柔性的、可卷曲或
可折叠的移动设备或显示设备等的覆盖窗。
[0105]
图1示意性地示出了用于评估动态弯曲特性的方法。
[0106]
参照图1，将用于柔性显示装置的覆盖窗放置成与底部水平，并且设定成使得膜的中间部分处的折叠部之间的距离为8mm，以及将在室温下以每秒一次的速率将覆盖窗的两侧以90
°
角度折叠并展开的过程重复进行200,000次。通过这样的方法，可以测量针对弯曲的耐久性。此时，为了保持折叠部之间的距离恒定，例如，将覆盖窗放置成与直径(r)为8mm的棒接触，将覆盖窗的剩余部分固定，并且可以进行将覆盖窗的两侧围绕棒折叠和展开的过程。此外，折叠部没有特别限制，只要其为覆盖窗的内部即可，并且为了测量方便，可以折叠覆盖窗的中心部，使得覆盖窗的除了折叠部之外的剩余部分是对称的。
[0107]
在评估这样的动态弯曲特性中，在进行200,000次弯曲操作之后，用于柔性显示装置的覆盖窗不产生1cm或更大、或者1mm或更大的裂纹，并且几乎没有裂纹。因此，即使在诸如反复折叠、卷曲或扭曲的实际应用条件下，出现裂纹的可能性也极低，并因此其可以适当地应用于用于柔性显示装置的覆盖窗。
[0108]
在覆盖窗的一个表面上形成粘合剂层和功能层之后，或在面板的组合状态下，使用铅笔硬度测试仪抵靠覆盖窗的表面，覆盖窗在300g的负荷下往复移动五次，并且在铅笔通过的路径上在没有裂纹的情况下的最大硬度可以为2b或更大，2b或更大且5h或更小，b或更大且5h或更小，或者h或更大且5h或更小。
[0109]
出于该原因，覆盖窗实现了优异的抗压性，并且即使通过反复弯曲或折叠操作也几乎不对膜造成损坏，并且实现了装置稳定性，并因此可以容易地应用于用于柔性显示装置的覆盖窗，以及使用其的可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠的移动设备或显示设备。
[0110]
同时，根据本公开内容的另一个示例性实施方案，显示装置包括用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗、形成在覆盖窗的一个表面上的粘合剂层和形成在粘合剂层上的显示面板。显示装置可以为柔性显示装置。
[0111]
显示面板包括弯曲的、可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠形状的移动通信终端、智能手机或平板电脑的触摸面板和各种显示面板。
[0112]
例如，显示面板可以为有机发光二极管(oled)显示面板、量子点发光二极管显示面板或者电致发光显示器中的无机发光二极管显示面板。
[0113]
当显示面板为液晶显示面板时，其包括复数条栅极线和数据线，以及形成在栅极线与数据线的交叉区域处的像素。其可以通过包括以下来配置：包括薄膜晶体管的阵列基板，其为用于调节每个像素中的透光率的转换元件、具有滤色器和/或黑矩阵等的上基板、和形成在阵列基板与上基板之间液晶层。
[0114]
此外，当显示面板为有机电致发光(oled)显示面板时，其可以包括复数条栅极线和数据线，以及形成在栅极线和数据线的交叉区域处的像素。其可以通过包括以下来配置：包括薄膜晶体管的阵列基板，其为用于选择性地对每个像素施加电压的元件、在阵列基板上的有机发光器件(oled)层、和设置在阵列基板上以覆盖有机发光器件层的密封基板或封装基板等。封装基板可以保护薄膜晶体管和有机发光器件层免受外部冲击，并且可以防止水分或氧气渗透到有机发光器件层中。形成在阵列基板上的层可以包括无机发光层，例如纳米尺寸的材料层或量子点等。
[0115]
用于显示装置的无基底型覆盖窗可以由透明材料制成以透射从显示面板发射的
光。
[0116]
此外，用于显示装置的无基底型覆盖窗可以由于介于其间的粘合剂层而结合，并且粘合剂可以包括光学透明粘合剂(oca或光学透明树脂ocr)。
[0117]
根据本公开内容的又一个实施方案，可以提供用于制造显示装置的方法，所述方法包括：在显示面板的一个表面上层合无基底型覆盖窗的步骤，其中无基底型覆盖窗由有机-无机硬化层制成，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷。显示装置可以为柔性显示装置。
[0118]
有机-无机硬化层的厚度可以为50μm或更大且小于300μm。覆盖窗的包含在有机-无机硬化层中的组成(含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷等)和结构与上述根据一个实施方案的覆盖窗的那些相同。
[0119]
用于制造显示装置的方法可以包括以下步骤。
[0120]
步骤1)在离型膜的一个表面上形成有机-无机硬化层，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷
[0121]
步骤2)将离型膜从有机-无机硬化层上剥离
[0122]
步骤3)在有机-无机硬化层的已剥离离型膜的一个表面上或在显示面板的一个表面上形成粘合剂层
[0123]
步骤4)在显示面板的一个表面上层合无基底型覆盖窗
[0124]
此时，显示面板和由有机-无机硬化层制成的覆盖窗可以由于介于其间的粘合剂层而层合。
[0125]
此外，用于制造显示装置的方法可以包括以下步骤。
[0126]
步骤a)制备其中在一个表面上形成有粘合剂层的离型膜
[0127]
步骤b)在粘合剂层上形成有机-无机硬化层，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷
[0128]
步骤c)将离型膜剥离
[0129]
步骤d)在显示面板的一个表面上层合无基底型覆盖窗
[0130]
此时，显示面板和由有机-无机硬化层制成的覆盖窗由于介于其间的粘合剂层而层合。
[0131]
离型膜可以没有限制地使用，只要其为本发明所属技术领域中常用的即可，并且其实例包括基于聚烯烃的膜或基于聚四氟乙烯的膜例如聚酯膜、聚乙烯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜和聚丙烯薄膜，优选地，离型膜可以为经有机硅或丙烯酸有机硅离型处理的膜，使得其可以容易剥离。
[0132]
离型膜可以形成为10μm至500μm或者20μm至200μm的厚度，但不限于此。
[0133]
包含聚硅氧烷的有机-无机硬化层可以形成在离型膜上或者形成在形成在离型膜的一个表面上的粘合剂层上，例如，其可以通过施加用于形成有机-无机硬化层的组合物并使组合物光固化来提供。
[0134]
施加用于形成有机-无机硬化层的组合物的方法没有特别限制，只要其可以用于本技术所属的技术领域即可，例如可以使用棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮涂法、模涂法、微凹版涂覆法、逗点涂覆法、狭缝模涂覆法、唇涂法、溶液流延法等。
[0135]
此外，在有机-无机硬化层的光固化期间紫外线的照射剂量可以为例如约100mj/
cm2至约2000mj/cm2或者约500mj/cm2至约1000mj/cm2。紫外线照射的光源没有特别限制，只要其可以用于本技术所属的技术领域即可，例如可以使用高压汞灯、金属卤化物灯、黑光荧光灯等。光固化步骤可以通过在如上所述的照射剂量下照射约30秒至约15分钟，或者约1分钟至约10分钟来进行。
[0136]
在形成有机-无机硬化层之后，将离型膜剥离，并且显示面板和由有机-无机硬化层制成的覆盖窗可以利用介于其间的粘合剂层而层合。
[0137]
该显示面板与以上在根据另一个实施方案的显示装置的显示面板中描述的那些相同。
[0138]
有益效果
[0139]
根据本发明，可以提供用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗和不包括支撑基底的柔性显示装置，并因此可以容易地实现薄的膜而不会引起涂层与界面之间的剥离问题，提高价格竞争力并且同时满足柔性与高硬度之间的物理特性平衡，特别地，即使通过反复弯曲或折叠操作也几乎没有损坏膜的风险，并因此可以容易地应用于可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠的移动设备、显示设备等。
[0140]
由于用于柔性显示装置的覆盖窗可以具有可以替代钢化玻璃等的物理特性，因此其不仅不会被从外部施加的压力或力破坏，而且其可以具有能够充分弯曲和折叠的特性，并表现出柔性、弯曲特性、高硬度、耐刮擦性、高透明度、防指纹特性和防污特性，并且即使在反复、连续弯曲或长时间折叠状态下也几乎没有损坏膜的风险。因此，覆盖窗可以有效地应用于可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠的移动设备、显示设备、各种仪表面板的正面和显示单元等。
附图说明
[0141]
图1示意性地示出了用于评估动态弯曲特性的方法。
具体实施方式
[0142]
在下文中，将通过实施例更详细地描述本发明。然而，提供这些实施例仅用于举例说明的目的，并且本发明的范围不由此确定。
[0143]
《制备例1》
[0144]
(1)聚硅氧烷a的制备
[0145]
将为硅烷单体的3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷(gptms、kbm-403
tm
、shinetsu)、水和甲苯添加至1000ml的三颈烧瓶中，混合并搅拌(gptms:水＝1mol:3mol)。
[0146]
接着，基于100重量份的硅烷单体，将碱性催化剂(三甲基氢氧化铵；tmah)以1重量份的量添加至所得混合溶液中，并在100℃下反应2小时以制备包含100mol％的缩水甘油氧基丙基改性有机硅(在下文中称为gp)的具有以下组成的聚硅氧烷a。
[0147]
在通过atr法对聚硅氧烷a测量的ft-ir光谱中，显示出现在1090cm-1
处的峰的强度(i2)与出现在1055cm-1
处的峰的强度(i1)的峰强度比(i2/i1)为1.45。
[0148]
(2)用于形成有机-无机硬化层的组合物的制备
[0149]
将100g聚硅氧烷a、50g弹性聚合物(聚己内酯二醇，mn＝530)、3g引发剂i-250(basf)、0.2g流平剂f-477(dic)和10g作为溶剂的甲基乙基酮混合以制备用于形成有机-无
机硬化层的组合物。
[0150]
《比较制备例1》
[0151]
(1)聚硅氧烷b的制备
[0152]
将为硅烷单体的3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷(gptms、kbm-403
tm
、shinetsu)、水和甲苯添加至1000ml的三颈烧瓶中，混合并搅拌(gptms:水＝1mol:3mol)。
[0153]
接着，基于100重量份的硅烷单体，将碱性催化剂(三甲基氢氧化铵；tmah)以1重量份的量添加至所得混合溶液中，并在100℃下反应8小时以制备包含100mol％的缩水甘油氧基丙基改性有机硅(在下文中称为gp)的具有以下组成的聚硅氧烷b。
[0154]
在通过atr法对聚硅氧烷b测量的ft-ir光谱中，显示出现在1090cm-1
处的峰的强度(i2)与出现在1020cm-1
处的峰的强度(i1)的峰强度比(i2/i1)为1.15。
[0155]
(2)用于形成有机-无机硬化层的组合物的制备
[0156]
将100g聚硅氧烷b、50g弹性聚合物(聚己内酯二醇，mn＝530)、3g引发剂i-250(basf)、0.2g流平剂f-477(dic)和10g作为溶剂的甲基乙基酮混合以制备用于形成有机-无机硬化层的组合物。
[0157]
《实施例和比较例》
[0158]
实施例1至3、比较例1和2
[0159]
制备厚度为100μm的经离型处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet，mitsubishi)离型膜。将用于形成有机-无机硬化层的组合物施加至离型膜的一个表面，并通过使用灯照射紫外光(照射剂量：1,000mj/cm2)进行光硬化以形成有机-无机硬化层。然后，将离型膜从有机-无机硬化层上剥离以制造用于显示装置的无基底型覆盖窗。
[0160]
此时，在各实施例和比较例中使用的用于形成有机-无机硬化层的组合物和有机-无机硬化层的厚度如下表1所示。
[0161]
比较例3
[0162]
将制备例1中制备的用于形成有机-无机硬化层的组合物施加至尺寸为15cm
×
20cm且厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜的一个表面上，并通过使用灯照射紫外光(照射剂量：1,000mj/cm2)进行光固化以形成有机-无机硬化层。从而制造了使用pet作为基底的覆盖窗。
[0163]
《评估》
[0164]
通过以下方法测量物理特性，并且结果示于下表1中。
[0165]
1.承压特性
[0166]
在室温下使用层合设备将作为粘合剂层的光学透明粘合剂膜(3m，厚度：20μm)和玻璃基底顺序地层合在实施例和比较例的覆盖窗的一个表面上。
[0167]
然后，使用铅笔硬度测试仪将铅笔在300g的负荷下以45
°
的角度固定至覆盖窗，然后对于每个铅笔硬度刮擦20mm总计5次，并用肉眼判断其是否被刮伤，并且测量表面损伤(1mm或更大的裂纹)不出现多于三次的最大铅笔硬度。
[0168]
2.动态弯曲特性
[0169]
图1示意性地示出了用于评估根据本发明的一个实施方案的覆盖窗的动态弯曲特性的方法。
[0170]
具体地，覆盖窗被切割，但被激光切割成80mm
×
140mm的尺寸以使边缘部分中的细
裂纹最小化。将激光切割膜放置在测量装置上，并将折叠部的距离(内部曲率直径)设定为8mm。将在室温下将覆盖窗的两侧以90度折叠并朝向底表面展开的连续操作重复200,000次(在25℃下折叠覆盖窗的速度为每秒一次)，并根据以下《评估标准》评估动态弯曲特性。
[0171]
《评估标准》
[0172]
优异：不出现1mm或更大的裂纹
[0173]
不合格：出现1mm或更大的裂纹
[0174]
[表1]
[0175] 实施例1实施例2实施例3比较例1比较例2比较例3有机-无机硬化层制备例1制备例1制备例1制备例1比较制备例1制备例1涂层厚度(μm)6010020030010010承压特性1h5h6h6h3b或更小3b或更小动态弯曲特性优异优异优异不合格不合格优异
[0176]
根据表1，确定了实施例1至3的覆盖窗具有优异的动态弯曲特性，同时表现出1h或更大的承压特性。
[0177]
另一方面，确定比较例1由于覆盖窗的厚度太厚而在动态弯曲特性方面不合格，比较例2的硬化产品具有不合格的抗压特性和不足的柔性，导致不合格的弯曲特性，以及比较例3通过包括基底而形成薄硬化层，使得承压特性显著劣化。

技术特征：
1.一种用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，包括：有机-无机硬化层，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷。2.根据权利要求1所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，其中：所述有机-无机硬化层的厚度为50μm或更大且700μm或更小。3.根据权利要求1所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，其中：所述含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷包含两种或更多种具有不同结构的重复单元。4.根据权利要求3所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，其中：在通过衰减全反射(atr)法对于包含两种或更多种具有不同结构的重复单元的所述聚硅氧烷测量的ft-ir光谱中，在1010cm-1
至1070cm-1
的区域中具有至少一个峰，以及在1075cm-1
至1130cm-1
的区域中具有至少一个峰。5.根据权利要求4所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，其中：在1075cm-1
至1130cm-1
的区域中出现的至少一个峰中的最强峰的强度(i2)与在1010cm-1
至1070cm-1
的区域中出现的至少一个峰中的最强峰的强度(i1)的峰强度比(i2/i1)为1.2或更大且2.5或更小。6.根据权利要求1所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，其中：所述含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷包含70mol％或更多的包含含环氧基的官能团的重复单元。7.根据权利要求1所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，其中：基于100重量份的所述含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷，所述有机-无机硬化层包含10重量份或更多且80重量份或更少的弹性聚合物。8.根据权利要求7所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，其中：所述弹性聚合物包含数均分子量(mn)为300da或更大且10,000da或更小的聚己内酯多元醇。9.根据权利要求1所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗，其中：当将所述有机-无机硬化层在中间设置8mm间隔，并且将在室温下以每秒一次的速率将所述有机-无机硬化层以90
°
角度折叠以面向彼此并展开的过程重复进行200,000次时，不出现1mm或更大的裂纹。10.一种显示装置，包括：根据权利要求1所述的用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗；形成在所述覆盖窗的一个表面上的粘合剂层；和形成在所述粘合剂层上的显示面板。11.一种用于制造显示装置的方法，包括：在显示面板的一个表面上层合无基底型覆盖窗的步骤，其中所述无基底型覆盖窗由有机-无机硬化层制成，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷。12.根据权利要求11所述的用于制造显示装置的方法，其中：所述有机-无机硬化层的厚度为50μm或更大且小于300μm。13.根据权利要求11所述的用于制造显示装置的方法，其中：所述含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷包含两种或更多种具有不同结构的重复单元。
14.根据权利要求13所述的用于制造显示装置的方法，其中：在通过衰减全反射(atr)法对于包含两种或更多种具有不同结构的重复单元的所述聚硅氧烷测量的ft-ir光谱中，在1010cm-1
至1070cm-1
的区域中具有至少一个峰，以及在1075cm-1
至1130cm-1
的区域中具有至少有一个峰，并且在1075cm-1
至1130cm-1
的区域中出现的至少一个峰中的最强峰的强度(i2)与在1010cm-1
至1070cm-1
的区域中出现的至少一个峰中的最强峰的强度(i1)的峰强度比(i2/i1)为1.2或更大且2.5或更小。15.根据权利要求11所述的用于制造显示装置的方法，其中：在显示面板的一个表面上层合无基底型覆盖窗的所述步骤之前，所述方法还包括以下步骤：在离型膜的一个表面上形成有机-无机硬化层，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷；将所述离型膜从所述有机-无机硬化层上剥离；以及在所述有机-无机硬化层的已剥离所述离型膜的一个表面上或在所述显示面板的一个表面上形成粘合剂层，其中所述显示面板和由所述有机-无机硬化层制成的所述覆盖窗由于介于其间的粘合剂层而层合。16.根据权利要求11所述的用于制造显示装置的方法，其中：在显示面板的一个表面上层合无基底型覆盖窗的所述步骤之前，所述方法还包括以下步骤：制备其中在一个表面形成有粘合剂层的离型膜；在所述粘合剂层上形成有机-无机硬化层，所述有机-无机硬化层包含含有含环氧基的官能团的聚硅氧烷；以及将所述离型膜剥离，其中所述显示面板和由所述有机-无机硬化层制成的所述覆盖窗由于介于其间的粘合剂层而层合。

技术总结
本发明涉及用于柔性显示装置的无基底型覆盖窗以及包括其的柔性显示装置，所述覆盖窗即使没有基底膜也同时实现柔性与高硬度之间的物理特性平衡，特别是即使通过反复弯曲或折叠操作也几乎不对膜造成损坏，并因此可以容易地应用于可弯曲、柔性的、可卷曲或可折叠的移动设备、显示设备等。显示设备等。显示设备等。


技术研发人员：李殷善 林承俊 任允彬 白承一 曹明奭 崔英圭 朴志珢
受保护的技术使用者：株式会社LG化学
技术研发日：2022.10.07
技术公布日：2023/8/4